曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法制造方法及图纸

提供能够防止在向被曝光基板的双面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的曝光描绘装置。本发明专利技术包括：第一描绘构件，通过将被曝光基板的第一面曝光而向第一面描绘图像；以及存储构件，存储将第一面的图像信息和曝光条件信息建立了对应的第一作业信息(60A)、将第二面的图像信息与曝光条件信息建立了对应的第二作业信息(60B)和第一作业信息(60A)与第二作业信息(60B)的对应信息。在向通过在由第一作业信息(60A)表示的曝光条件下将第一面曝光而向第一面描绘了图像的被曝光基板的第二面描绘图像的情况下，基于对应信息，在与向第一面描绘图像时所使用的第一作业信息(60A)建立了对应的第二作业信息所表示的曝光条件下将第二面曝光，从而将由第二作业信息(60B)表示的图像向第二面描绘。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法
本专利技术涉及曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法，尤其是涉及向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘装置及曝光描绘系统、通过该曝光描绘装置及曝光描绘系统执行的程序和向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘方法。
技术介绍
以往，开发出一种在作为打印基板的被曝光基板对基于图像信息而调制的光束进行曝光，并在该被曝光基板描绘图像的曝光描绘装置。而且，为了向被曝光基板的两面描绘图像，也开发有如下曝光描绘系统：将该曝光描绘装置并列设置2台，将一方用于第一面的描绘，并将另一方用于与第一面相反的第二面的描绘。在该曝光描绘系统中，通过第一面用的曝光描绘装置向被曝光基板的第一面描绘图像之后，将该被曝光基板传送至第二面用的曝光描绘装置的预定位置，通过该曝光描绘装置向被曝光基板的第二面描绘图像。作为与该曝光描绘系统相关的技术，在专利文献1中公开了一种曝光描绘系统，其提高了使用2台的曝光描绘装置向被曝光基板的第一面及第二面分别描绘图像时的被曝光基板的传送处理的通过量。该曝光描绘系统所具有的各曝光描绘装置具备描绘单元，该描绘单元具有：台，载置被曝光基板；台移动构件，使台呈直线状地移动；以及光束扫描构件，在载置于台的被曝光基板的第一面扫描光束。而且，各曝光描绘装置具备在台的移动方向上配置于描绘单元的上游侧的上游侧单元和在台的移动方向上配置于描绘单元的下游侧的下游侧单元。而且，各曝光描绘装置具备送入构件，该送入构件保持上游侧单元的被曝光基板并使其沿着与台的移动方向相同的方向即传送方向移动，将被曝光基板送入到描绘单元内的台上。而且，各曝光描绘装置具备送出构件，该送出构件保持描绘单元内的台上的被曝光基板并使其沿着传送方向移动，将被曝光基板送出到下游侧单元。在各曝光描绘装置中，当在被曝光基板的第一面扫描光束时，使台从传送方向的上游侧向下游侧移动，将被曝光基板送入到位于上游侧的台，并从位于下游侧的台送出被曝光基板。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2002-341550号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题通常，当使用曝光描绘装置在被曝光基板描绘图像时，作业者对曝光描绘装置输入向被曝光基板描绘的图像及表示指定了描绘时的曝光条件的处理要求(作业)的作业信息。当以同一曝光条件在多个被曝光基板连续地描绘同一图像的情况下，在作业信息中一并表示一系列的处理。并且，曝光描绘装置基于输入的作业信息而进行对被曝光基板的曝光描绘处理。在上述专利文献1所公开的曝光描绘系统中，分别使用2台曝光描绘装置而在被曝光基板的每个单面描绘图像，因此作业者向一方的曝光描绘装置输入第一面的作业信息，向另一方的曝光描绘装置输入第二面的作业信息。由此，由于作业者对各曝光描绘装置个别地输入作业信息，因此在作业者错误地进行输入的情况下，存在可能在被曝光基板的各面描绘彼此不对应的图像这样的问题。另外，有时在一方的曝光描绘装置中将曝光描绘处理失败而成为不合格品的被曝光基板去除。在这种情况下，即使在作业信息的输入正确进行的情况下，在向另一方的曝光描绘装置输入的作业信息未被更新的情况下，也存在可能在被曝光基板的各面描绘彼此不对应的图像这样的问题。本专利技术鉴于上述问题而完成，目的在于提供能够在被曝光基板的两面描绘图像时防止在各面描绘彼此不对应的图像的情况的曝光描绘装置、曝光描绘系统、程序及曝光描绘方法。用于解决课题的技术方案为了实现上述目的，本专利技术的曝光描绘装置包括：第一描绘构件，通过将被曝光基板的第一面曝光而向所述第一面描绘图像；存储构件，存储第一作业信息、第二作业信息以及对应信息，所述第一作业信息将表示向所述被曝光基板的所述第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述第二作业信息将表示向所述被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述对应信息表示所述第一作业信息与所述第二作业信息的对应关系；以及第二描绘构件，在向利用所述第一描绘构件在由所述第一作业信息表示的曝光条件下将所述第一面曝光而向所述第一面描绘了由所述第一作业信息表示的图像的被曝光基板的所述第二面描绘图像的情况下，基于所述对应信息，在与向所述第一面描绘图像时所使用的第一作业信息建立了对应的所述第二作业信息所表示的曝光条件下，将所述第二面曝光，从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。根据本专利技术的曝光描绘装置，通过第一描绘构件，将被曝光基板的第一面曝光，从而向所述第一面描绘图像。在此，在本专利技术中，通过存储构件，存储将表示向所述被曝光基板的所述第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第一作业信息、将表示向所述被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应的第二作业信息以及表示所述第一作业信息与所述第二作业信息的对应关系的对应信息。并且，在本专利技术中，通过第二描绘构件，在向利用所述第一描绘构件在由所述第一作业信息表示的曝光条件下将所述第一面曝光而向所述第一面描绘了由所述第一作业信息表示的图像的被曝光基板的所述第二面描绘图像的情况下，基于所述对应信息，在与向所述第一面描绘图像时所使用的第一作业信息建立了对应的所述第二作业信息所表示的曝光条件下，将所述第二面曝光，从而将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。由此，根据本专利技术的曝光描绘装置，使用将用于向第一面描绘图像的第一作业信息和用于向第二面描绘图像的第二作业信息建立对应的对应信息，使用与向第一面描绘图像时使用的第一作业信息建立了对应的第二作业信息向第二面描绘图像，因此能够防止在向被曝光基板的双面描绘图像时在各面描绘彼此不对应的图像的情况。另外，本专利技术所涉及的曝光描绘装置也可以是，所述存储构件包括存储有所述第一作业信息的第一存储区域及存储有所述第二作业信息的第二存储区域，并将所述对应信息存储于所述第一存储区域及所述第二存储区域中的任一方。由此，能够简易地选择在各面彼此对应的作业信息。另一方面，为了实现上述目的，本专利技术所涉及的曝光描绘系统具有第一曝光描绘装置和第二曝光描绘装置，所述第一曝光描绘装置包括：第一存储构件，存储第一作业信息，该第一作业信息将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应；第一描绘构件，在由所述第一作业信息表示的曝光条件下将所述第一面曝光，从而将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘；以及发送构件，发送表示在通过所述第一描绘构件向所述第一面描绘了图像时所使用的所述第一作业信息的信息，所述第二曝光描绘装置包括：第二存储构件，存储第二作业信息和对应信息，所述第二作业信息将表示向所述被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述对应信息表示所述第一作业信息与所述第二作业信息的对应关系；接收构件，接收由所述发送构件发送的表示所述第一作业信息的信息；决定构件，基于在所述对应信息中与通过所述接收构件接收到的表示所述第一作业信息的信息所表示的所述第一作业信息建立了对应的所述第二作业信息，来决定向所述第二面描绘的图像及曝光条件；以及第二描绘构件，在由所述决定构件决定的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光描绘装置，包括：第一描绘构件，通过将被曝光基板的第一面曝光而向所述第一面描绘图像；存储构件，存储第一作业信息、第二作业信息以及对应信息，所述第一作业信息将表示向所述被曝光基板的所述第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述第二作业信息将表示向所述被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述对应信息表示所述第一作业信息与所述第二作业信息的对应关系；以及第二描绘构件，在向利用所述第一描绘构件在由所述第一作业信息表示的曝光条件下将所述第一面曝光而向所述第一面描绘了由所述第一作业信息表示的图像的被曝光基板的所述第二面描绘图像的情况下，基于所述对应信息，在与向所述第一面描绘图像时所使用的第一作业信息建立了对应的所述第二作业信息所表示的曝光条件下，将所述第二面曝光，由此将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.27 JP 2012-2151211.一种曝光描绘装置，包括：第一描绘构件，通过将被曝光基板的第一面曝光而向所述第一面描绘图像；存储构件，存储第一作业信息、第二作业信息以及对应信息，所述第一作业信息将表示向所述被曝光基板的所述第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述第二作业信息将表示向所述被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述对应信息表示所述第一作业信息与所述第二作业信息的对应关系；以及第二描绘构件，在向利用所述第一描绘构件在由所述第一作业信息表示的曝光条件下将所述第一面曝光而向所述第一面描绘了由所述第一作业信息表示的图像的被曝光基板的所述第二面描绘图像的情况下，基于所述对应信息，在与向所述第一面描绘图像时所使用的第一作业信息建立了对应的所述第二作业信息所表示的曝光条件下，将所述第二面曝光，由此将由该第二作业信息表示的图像向所述第二面描绘。2.根据权利要求1所述的曝光描绘装置，其中，所述存储构件包括存储有所述第一作业信息的第一存储区域及存储有所述第二作业信息的第二存储区域，并将所述对应信息存储于所述第一存储区域及所述第二存储区域中的任一方。3.一种曝光描绘系统，具有第一曝光描绘装置和第二曝光描绘装置，所述第一曝光描绘装置包括：第一存储构件，存储第一作业信息，该第一作业信息将表示向被曝光基板的第一面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应；第一描绘构件，在由所述第一作业信息表示的曝光条件下将所述第一面曝光，由此将由该第一作业信息表示的图像向所述第一面描绘；以及发送构件，发送表示在通过所述第一描绘构件向所述第一面描绘了图像时所使用的所述第一作业信息的信息，所述第二曝光描绘装置包括：第二存储构件，存储第二作业信息和对应信息，所述第二作业信息将表示向所述被曝光基板的与所述第一面相反的第二面描绘的图像的图像信息和表示曝光条件的曝光条件信息建立了对应，所述对应信息表示所述第一作业信息与所述第二作业信息的对应关系；接收构件，接收由所述发送构件发送的表示所述第一作业信息的信息；决定构件，基于在所述对应信息中与通过所述接收构件接收到的表示所述第一作业信息的信息所表示的所述第一作业信息建立了对应的所述第二作业信息，来决定向所述第二面描绘的图像及曝光条件；以及第二描绘构件，在由所述决定构件决定的曝光条件下将所述第二面曝光，由此将由所述决定构件决定的图像向所述第二面描绘。4.根据权利要求3所述的曝光描绘系统，其中，所述对应信息是将用于识别所述第一作业信息的识别信息和用于识别该第一作业信息所对应的所述第二作业信息的识别信息建立了对应的信息，表示所述第一作业信息的信息是所述第一作业信息的所述识别信息。5.根据权利要求3或4所述的曝光描绘系统，其中，所述第一曝光描绘装置的所述发送构件仅在由所述第一描绘构件进行的描绘正常地结束的情况下，发送表示所述第一作业信息的信息。6.根据权利要求3或4所述的曝光描绘系统，其中，所述第一曝光描绘装置的所述发送构件在由所述第一描绘构件进行的描绘异常地结束的情况下，发送表示发生了错误的错误信息。7.根据权利要求3或4所述的曝光描绘系统，其中，所述曝光描绘系统还具备控制装置，该控制装置包括：第三存储构件，存储所述第一作业信息、所述第二作业信息以及所述对应信息；以及第二发送构件，将由所述第三存储构件存储的所述第一作业信息向所述第一曝光描绘装置发送，将所述第二作业信息及所述对应信息向所述第二曝光描绘装置发送，所述第一曝光描绘装置还具备接收由所述第二发送构件发送的所述第一作业信息的第二接收构件，所述第一曝光描绘装置的所述第一描绘构件使用由所述第二接收构件接收到的所述第一作业信息来向所述第一面描绘图像，所述第二曝光描绘装置还具备接收由所述第二发送构件发送的所述第二作业信息及所述对应信息的第三接收构件，所述第二曝光描绘装置的所述决定构件使用由所述第三接收构件接收到的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：尾崎幸久，佐藤淳一，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：日本;JP