滤波结构制造技术

本发明专利技术公开了一种滤波结构，用于对入射、出射或透射的电磁波进行响应。其中，该滤波结构包括：物理材料层，其中，物理材料层的内部或者表面设置有多个导电几何结构；开关元件，连接在多个导电几何结构中的第一结构和第二结构之间，和/或，连接在多个导电几何结构中的第三结构上的第一端部和第二端部之间；其中，在电磁波处于第一状态时，开关元件断开，在电磁波处于第二状态时，开关元件导通。本发明专利技术解决了由于现有的滤波材料结构固定造成的难以按照预设方式对不同状态下的电磁波作出不同响应的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种滤波结构，用于对入射、出射或透射的电磁波进行响应，其特征在于，所述滤波结构包括：物理材料层，其中，所述物理材料层的内部或者表面设置有多个导电几何结构；开关元件，连接在所述多个导电几何结构中的第一结构和第二结构之间，和/或，连接在所述多个导电几何结构中的第三结构上的第一端部和第二端部之间；其中，在所述电磁波处于第一状态时，所述开关元件断开，在所述电磁波处于第二状态时，所述开关元件导通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：深圳光启创新技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44