用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物、使用其的显示装置绝缘膜、及使用其的显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术是有关于用于显示装置绝缘膜的一光敏树脂组成物、使用其的绝缘膜、及使用其的显示装置，所述组成物包括(A)一碱可溶树脂；(B)一光敏重氮醌化合物；(C)一有色材料，其具有400-550nm的最大吸收波长；及(D)一溶剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物、使用其的显示装置绝缘膜、及使用其的显示装置
本揭露内容涉及用于显示装置绝缘膜的一光敏树脂组成物，使用其的一显示装置绝缘膜，及一显示装置。
技术介绍
传统上，用于一半导体装置的一表面保护层及一层间绝缘膜使用具有优异耐热性、电特征、机械特征等的一聚酰亚胺树脂。聚酰亚胺树脂最近已被使用作为一光敏聚酰亚胺先质组成物。光敏聚酰亚胺先质组成物轻易涂覆于一半导体装置上，藉由紫外线图案化，显影，及热酰亚胺化，且因此，形成一表面保护层、一层间绝缘膜等。因此，与一传统非光敏聚酰亚胺先质组成物相比，光敏聚酰亚胺先质组成物可显著缩短加工时间。光敏聚酰亚胺先质组成物可以正型(其中，一经曝光部分被显影及溶解)及负型(其中，经曝露部分被固化及维持)应用。正型光敏聚酰亚胺先质组成物较佳地被使用，因为使用一无毒碱水溶液作为一显影溶液。正光敏聚酰亚胺先质组成物包含聚酰胺酸的聚酰亚胺先质、重氮萘醌光敏材料等。但是，正光敏聚酰亚胺先质组成物具有不会获得所欲图案的问题，因为聚酰胺酸的羧酸太高度地可溶于碱中。为解决此问题，含有聚苯并恶唑先质及重氮萘醌化合物的材料已引起注意(日本专利早期公开第63-96162号案)。但是，当实际使用作为聚苯并恶唑先质组成物时，未曝光部分的膜损失显著增加，于显影后几乎不能获得一所欲图案。为改善此问题，若聚苯并恶唑先质的分子量增加，未曝光部分的膜损失降低，但残质(浮渣)于显影期间产生，使解析度恶化且增加曝光部分的显影时间。为解决此问题，对一聚苯并恶唑先质组成物添加一特定酚化合物已被报导于显影期间抑制未曝光部分的膜损失(日本专利早期公开第9-302221号案及日本专利早期公开第2000-292913号案)。但是，未曝光部分的膜损失的抑制不足够。因此，需要关于增加抑制膜损失及避免显影残质(浮渣)产生的研究。此外，需要关于溶解抑制剂的研究，因为用以调整溶解度的酚化合物于固化期间的高温分解，造成副反应等，且因此，对经固化的膜的机械性质造成重大损害。另一方面，含有一聚苯并恶唑先质的正光敏树脂组成物可被应用于显示装置领域的一有机绝缘膜或一阻隔壁材料。最近已付出许多努力用于发展具有高对比率及高亮度的一显示装置。此等努力的一者于彩色图案间形成一黑色过滤层，但具有几乎不能实现高孔径比及发生低耐热性及绝缘性质的问题。其后，另一努力藉由使一非发光区域变黑色确保高孔径比，且同时改良对比率及可见度，但具有使一绝缘层的固有性质恶化的问题，因为着色剂大量溶解。着色剂中，用于黑色研磨基料的诸如碳黑等的一无机色料一般具有优异遮光性质，但具有使耐绝缘性质恶化的问题，此不适于应用在有机发光二极管的一绝缘层。一有机色料相对上由实现黑色的一色料混合物所组成，因此，具有比无机色料更佳的耐绝缘性质，但于一光敏树脂组成物内需比无机色料更多地被包含，以实现相等遮光性质，且还可能使显影性恶化及产生残质。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一实施例提供用于显示装置绝缘膜的一光敏树脂组成物，其具有改良的膜残余率、敏感性，及介电常数、曝光部分的低残质发生率，及高亮度与改良特征。本专利技术的另一实施例提供一显示装置的一绝缘膜，其使用用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物。本专利技术的另一实施例提供一显示装置，其含有显示装置的绝缘膜。解决技术问题的技术手段依据本专利技术的一实施例，提供用于显示装置绝缘膜的一光敏树脂组成物，其包含(A)一碱可溶树脂；(B)一光敏重氮醌化合物；(C)一有色材料，其具有400至550nm的最大吸收波长；及(D)一溶剂。碱可溶树脂(A)为一聚苯并恶唑先质、聚酰胺酸、聚酰亚胺，或此等的组合。有色材料(C)可包含一以三芳基甲烷为主的化合物、一以氮杂卟啉为主的化合物，或此等的组合。以100重量份的碱可溶树脂(A)为基准，用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物可包含5至100重量份的光敏重氮醌化合物(B)；1至30重量份的有色材料(C)；及100至900重量份的溶剂(D)。用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物可进一步包含一硅烷化合物。用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物可进一步包含一酚化合物。于本专利技术的另一实施例，提供一显示装置绝缘膜，其使用用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物制造。于本专利技术的另一实施例，提供包含绝缘膜的一显示装置。技术效果依据本专利技术一实施例的用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物可实现高敏感性、高解析度，及优异图案性能及显影性，避免于相邻像素间漏光，及增加色纯度，因此，适当地应用于诸如一液晶显示器、一发光二极管等的一显示装置的一绝缘膜。具体实施方式例示实施例其后会以详细说明而描述。但是，此等实施例为例示性，且本揭露内容不限于此。于本说明书，当特别定义未以其它方式提供时，术语“取代”至“被取代”指以至少一选自下列的一取代基取代的：一卤素(-F、-Cl、-Br或-I)、一羟基基团、一硝基基团、一氰基基团、一胺基基团(NH2、NH(R200)或N(R201)(R202)且，其中R200、R201及R202相同或不同，且独立地为一C1至C10烷基基团)、一甲脒基基团、一联胺基团、一联胺基团、一羧基基团、一经取代或未经取代的烷基基团、一经取代或未经取代的烯基基团、一经取代或未经取代的炔基基团、一经取代或未经取代的脂环状有机基团、一经取代或未经取代的芳基基团，及一经取代或未经取代的杂环状基团，以替代一官能基的至少一氢。于本说明书，当特别定义未以其它方式提供时，术语“烷基基团”指一C1至C30烷基基团，且特别为一C1至C15烷基基团，术语“环烷基基团”指一C3至C30环烷基基团，且特别是一C3至C18环烷基基团，术语“烷氧基基团”指一C1至C30烷氧基基团，且特别是一C1至C18烷氧基基团，术语“芳基基团”指一C6至C30芳基基团，且特别是一C6至C18芳基基团，术语“烯基基团”指一C2至C30烯基基团，且特别是一C2至C18烯基基团，术语“亚烷基基团”指一C1至C30亚烷基基团，且特别是一C1至C18亚烷基基团，且术语“亚芳基基团”指一C6至C30亚芳基基团，且特别是一C6至C16亚芳基基团。于本说明书，当特别定义未以其它方式提供时，术语“脂族有机基团”指一C1至C30烷基基团、一C2至C30烯基基团、一C2至C30炔基基团、一C1至C30亚烷基基团、一C2至C30亚烯基基团，或一C2至C30亚炔基基团，且特别是一C1至C15烷基基团、一C2至C15烯基基团、一C2至C15炔基基团、一C1至C15亚烷基基团、一C2至C15亚烯基基团，或一C2至C15亚炔基基团，术语“脂环状有机基团”指一C3至C30环烷基基团、一C3至C30环烯基基团、一C3至C30环炔基基团、一C3至C30亚环烷基基团、一C3至C30亚环烯基基团，或一C3至C30亚环炔基基团，且特别是一C3至C15环烷基基团、一C3至C15环烯基基团、一C3至C15环炔基基团、一C3至C15亚环烷基基团、一C3至C15亚环烯基基团，或一C3至C15亚环炔基基团，术语“芳香族有机基团”指一C6至C30芳基基团，或一C6至C30亚芳基基团，且特别是一C6至C16芳基基团，或一C6至C16亚芳基基团，术语“杂环状基团”指一C2至C30杂环烷基基团、一C2至C30亚杂环烷基基团、一C2至C30杂环本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物，其中，包含：(A)一碱可溶树脂；(B)一光敏重氮醌化合物；(C)一有色材料，其具有400至550nm的最大吸收波长；及(D)一溶剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.12.28 KR 10-2012-01575711.一种用于显示装置绝缘膜的光敏树脂组成物，其中，包含：(A)一碱可溶树脂，其中，所述碱可溶树脂(A)为一聚苯并恶唑先质、聚酰胺酸、聚酰亚胺，或其组合；(B)一光敏重氮醌化合物；(C)一有色材料，其具有400至550nm的最大吸收波长；及(D)一溶剂；其中，所述有色材料(C)为下述化学式11表示的化合物，化学式11在所述化学式11表示的化合物中，R11至R14及R20至R39每一个独立地为选自一氢原子、一卤素原子、一羟基基团、一磺酸基团、一硝基基团、一羧基基团、一氰基基团、一经取代或未经取代的C1至C20烷基基团、一经取代或未经取代的C3至C20环烷基基团、一经取代或未经取代的C1至C20杂烷基基团...

【专利技术属性】
技术研发人员：权志伦，姜真熙，金容台，李种和，李珍泳，金大润，金相均，黄仁澈，
申请(专利权)人：第一毛织株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR