【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种旋涂工艺用设备，具体涉及一种真空旋涂用托盘。
技术介绍
在平板器件的制造行业中，很多基片的表面需要进行旋转液的涂覆处理。目前，对基板进行胶涂覆的工艺主要有人工丝印工艺和旋涂工艺等。所述旋涂工艺为主要采用真空吸附基片的方式，即在放置基片的托盘中心开设真空孔，通过真空抽吸，使基片固定到托盘上，但是由于对基片的吸取集中在中心，相对于基片的侧边位置，基片中心的受力会更大，这样易破坏基片的平整度，导致旋涂液的涂覆不均匀。
技术实现思路
针对
技术介绍
的不足，本技术的目的是提供一种真空旋涂用托盘。本技术的技术方案是这样实现的:一种真空旋涂用托盘，内置基片，包括圆盘本体，该圆盘本体中心向下开设凹槽，该凹槽中心开设定位孔，该凹槽内还设有多个真空孔，所述多个真空孔均匀设置于所述凹槽底部的侧边上。作为优选地，所述真空孔有四个，两两相对设置。作为优选地，相对设置的两个真空孔的连线与圆盘本体的圆心在同一条直线上。本技术与现有技术相比，存在以下优点:本技术通过均匀设置在凹槽底部的侧边上真空孔，从不同的方向对基片进行吸取，受力更加均匀，避免中心集中吸取引起的基片变形，使...
【技术保护点】
一种真空旋涂用托盘，内置基片，其特征在于：主要包括圆盘本体，该圆盘本体中心向下开设凹槽，该凹槽中心开设定位孔，该凹槽内还设有多个真空孔，所述多个真空孔均匀设置于所述凹槽底部的侧边上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张志勇，赵青山，赵少华，赵炜，
申请(专利权)人：西安宝莱特光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61
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