【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种气体样品刻度标准源，包括盒体、上盖、标准溶液及刻度源基质，其特征在于：所述盒体及上盖构成一个密封腔体，所述密封腔体的几何尺寸及材料与待测气体样品源盒相同，所述标准溶液和刻度源基质位于盒体内；所述刻度源基质为可发性聚苯乙烯颗粒。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王世联，李奇，常印忠，樊元庆，贾怀茂，刘蜀疆，赵允刚，
申请(专利权)人：北京放射性核素实验室，
类型：发明
国别省市：北京;11
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