氧化石墨制备工艺制造技术

技术编号:11419367 阅读:63 留言:0更新日期:2015-05-06 20:52
本发明专利技术公开了一种氧化石墨制备工艺,取浓度大于99%的鳞片石墨作为原材料,置于浓H2SO4中,并加入NaNO3,在冰水浴中加入KMnO4,不断搅拌,使溶液的温度不超过20℃;将混合溶液放在40℃的水浴锅中,搅拌反应20min;加入去离子水到混合溶液中,继续搅拌20min;加入温度为60℃的去离子水稀释后,再加入质量分数为30%的H2O2溶液,混合物由棕褐色变为亮黄色,趁热过滤;然后再用质量分数为5%的HCl清洗过滤,最后将滤饼置于60℃的真空干燥箱中干燥24h。方法简单,操作方便,生产周期短且易于控制,所生产的氧化石墨具有良好的性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于石墨
,具体涉及一种氧化石墨制备工艺。 
技术介绍
石墨材料具有高温强度高、导电传热性好、抗热震性、耐腐蚀、自润滑等特性,成为当代工业上重要的导电材料和结构材料,氧化石墨被认为是宏量制备石墨烯最优异的前驱体材料,可以通过将氧化石墨超声剥离后再经化学还原来制备石墨烯。现有技术,生产氧化石墨,需要重复氧化,生产周期较长。 
技术实现思路
为了克服现有
存在的上述技术问题,本专利技术的目的在于,提供一种氧化石墨制备工艺,工艺简单,生产效率高。本专利技术提供的氧化石墨制备工艺,包括以下步骤:(1)取浓度大于99%的鳞片石墨作为原材料,置于浓H2SO4中,并加入NaNO3,在冰水浴中加入KMnO4,不断搅拌,使溶液的温度不超过20 ℃,所述石墨、H2SO4、NaNO3、KMnO4的配比为1:20:0.5:3;(2)将混合溶液放在40 ℃的水浴锅中,搅拌反应20 min;(3)加入去离子水到混合溶液中,继续搅拌20 min;(4)加入温度为60 ℃的去离子水稀释后,再加入质量分数为30%的H2O2溶液,混合物由棕褐色变为亮黄色,趁热过滤;(5)然后再用质量分数为5%的HCl清洗过滤,最后将滤饼置于60 ℃的真空干燥箱中干燥24 h。本专利技术提供的氧化石墨制备工艺,其有益效果在于,方法简单,操作方便,生产周期短且易于控制,所生产的氧化石墨具有良好的性能。 具体实施方式下面结合一个实施例,对本专利技术提供的氧化石墨制备工艺进行详细的说明。> 实施例本实施例的氧化石墨制备工艺,包括以下步骤:(1)取浓度大于99%的鳞片石墨作为原材料,置于浓H2SO4中,并加入NaNO3,在冰水浴中加入KMnO4,不断搅拌,使溶液的温度不超过20 ℃,所述石墨、H2SO4、NaNO3、KMnO4的配比为1:20:0.5:3;(2)将混合溶液放在40 ℃的水浴锅中,搅拌反应20 min;(3)加入去离子水到混合溶液中,继续搅拌20 min;(4)加入温度为60 ℃的去离子水稀释后,再加入质量分数为30%的H2O2溶液,混合物由棕褐色变为亮黄色,趁热过滤;(5)然后再用质量分数为5%的HCl清洗过滤,最后将滤饼置于60 ℃的真空干燥箱中干燥24 h。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氧化石墨制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:(1)取浓度大于99%的鳞片石墨作为原材料,置于浓H2SO4中,并加入NaNO3,在冰水浴中加入KMnO4,不断搅拌,使溶液的温度不超过20 ℃,所述石墨、H2SO4、NaNO3、KMnO4的配比为1:20:0.5:3;(2)将混合溶液放在40 ℃的水浴锅中,搅拌反应20 min;(3)加入去离子水到混合溶液中,继续搅拌20 min;(4)加入温度为60 ℃的去离子水稀释后,再加入质量分数为30%的H2O2溶液,混合物由棕褐色变为亮黄色,趁热过滤;(5)然后再用质量分数为5%的HCl清洗过滤,最后将滤饼置于60 ℃的真空干燥箱中干燥24 h。

【技术特征摘要】
1.一种氧化石墨制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:(1)取浓度大于99%的鳞片石墨作为原材料,置于浓H2SO4中,并加入NaNO3,在冰水浴中加入KMnO4,不断搅拌,使溶液的温度不超过20 ℃,所述石墨、H2SO4、NaNO3、KMnO4的配比为1:20:0.5:3;(2)将混合溶液放在40 ℃的水...

【专利技术属性】
技术研发人员:乔帅
申请(专利权)人:青岛泰浩达碳材料有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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