【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及碳的制备设备，特别是涉及一种石墨烯处理装置以及处理方法。
技术介绍
石墨烯是一种由碳原子构成的单层片状结构的材料。石墨烯是已知的世上最薄、最坚硬的纳米材料，它几乎是完全透明的，只吸收2.3％的光；导热系数高达5300W/m·K，高于碳纳米管和金刚石，常温下其电子迁移率超过15000cm2/V·s，而电阻率只约10-8Ω·m，比铜或银更低，为世上电阻率最小的材料。因其电阻率极低，电子迁移的速度极快，因此石墨烯被期待可用来发展更薄、导电速度更快的新一代电子元件或晶体管。由于石墨烯实质上是一种透明、良好的导体，也适合用来制造透明触控屏幕、光板、甚至是太阳能电池。为了将应用前景转化为现实成果，人们不断探索石墨烯的制备与加工方法。已发展的方法主要可分为物理法和化学法两大类，以微机械剥离法为代表的物理方法在制备完整晶格的石墨烯方面具有优势，却因效率低下无法实现工业化生产。化学方法制备石墨烯以氧化还原法为主，通过制备石墨烯氧化物可对其进行溶液加工，便于制备薄膜材料，再经还原得到石墨烯材料。而在器件的应用中，将石墨烯材料进行图案化加工是重要的步骤，已有的石墨烯的图案化方案成本较高，加工条件苛刻，难以实现图案的精细化。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可以实现图案的精细化的石墨烯处理装置以及处理方法。本专利技术的石墨烯处理方法，包括：制备石墨烯膜；将掩模覆盖于石墨烯膜的表面；将石墨烯膜的表面暴露于外的部分去除，形成表面图案与掩模的图案一致的石墨烯器件。本专利技术的石墨烯处理方法，其中，所述将石墨烯膜的表面暴露于外的部分去除包括：利用激光对覆盖有所述掩模...
【技术保护点】
一种石墨烯处理方法，其特征在于，包括：制备石墨烯膜；将掩模覆盖于石墨烯膜的表面；将石墨烯膜的表面暴露于外的部分去除，形成表面图案与掩模的图案一致的石墨烯器件。
【技术特征摘要】
1.一种石墨烯处理方法，其特征在于，包括：制备石墨烯膜；将掩模覆盖于石墨烯膜的表面；将石墨烯膜的表面暴露于外的部分去除，形成表面图案与掩模的图案一致的石墨烯器件。2.根据权利要求1所述的石墨烯处理方法，其特征在于，所述将石墨烯膜的表面暴露于外的部分去除包括：利用激光对覆盖有所述掩模的所述石墨烯膜的表面进行扫描，以将石墨烯膜的表面暴露于外的部分烧掉。3.一种石墨烯处理装置，其特征在于，包...
【专利技术属性】
技术研发人员：秦广奎，邸云萍，石岳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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