一种LDS化学镀工艺制造技术

技术编号:11373641 阅读:160 留言:0更新日期:2015-04-30 10:02
本发明专利技术公开了一种LDS化学镀工艺,其将印有铜电路的LDS产品先进行去除铜表面氧化膜的前处理,之后将完成前处理的LDS产品在浸镍液中进行浸镍处理,使金属镍沉积在铜表面,得到镍催化层,然后将LDS产品在激活液中进行活化处理,以激发浸镍铜面对于化学镀镍的催化活性,最后浸入化学镀镍液中按照常规方法进行化学镀镍。本发明专利技术既可以改善溢镀情况,又可以降低原料成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种LDS化学镀工艺,其特征在于,包括以下步骤:先将印有铜电路的LDS产品进行去除铜表面氧化膜的前处理;之后将完成前处理的LDS产品在浸镍液中进行浸镍处理,使金属镍沉积在铜表面,得到覆盖有镍催化层的浸镍铜面;然后将LDS产品在激活液中进行活化处理,以激发所述浸镍铜面对于化学镀镍的催化活性;最后浸入化学镀镍液中按照常规方法进行化学镀镍;其中,所述浸镍液中包含浓度为50~150g/L的硫脲,所述硫脲能与铜离子和镍离子形成络合物,并作为铜的特定配位剂;所述激活液为主要含1~2.5mol/L能提供氢氧根离子的碱和0.11~0.58mol/L的次亚磷酸盐的溶液。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘阳
申请(专利权)人:上海安费诺永亿通讯电子有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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