衬底支承装置及曝光装置制造方法及图纸

设有：基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底支承装置及曝光装置
本专利技术涉及将通过处理装置处理的挠性衬底的一部分以弯曲状态或平坦状态进行支承的衬底支承装置、以及通过该支承装置支承的挠性衬底的曝光装置。本申请基于2012年8月28日申请的日本特愿意2012-188116号主张优先权，并在此援引其内容。
技术介绍
近年来，作为平板显示器，除了液晶方式和等离子体方式外，有机EL方式也受到关注。在是有源矩阵方式的有机EL(AMOLED)显示器的情况下，在包括驱动各像素的薄膜晶体管(TFT)、驱动电路、各种信号线等的背板上，层叠有包括由有机EL形成的像素发光层及透明电极层等的上板。在由有机EL形成的显示器的制造方式中，作为以更低成本且高量产性的方式之一，提出了如下方法：将可挠性(柔性)的树脂材料、塑料或金属箔形成为厚度在200μm以下的长条状的薄片(薄膜)，并在其上以卷对卷(RolltoRoll)方式直接制造出显示器的背板和上板(专利文献1)。在专利文献1中，公开如下的制造方法：将构成各像素用TFT的电极层、半导体层、绝缘膜等、以及用于形成像素发光层、布线层的流动性材料通过喷墨方式等的印刷机连续地形成在可挠性的长条薄片(PET(Poly-EthyleneTerephthalate)薄膜等)上，由此低成本地制造显示器。而且，在专利文献1中还提出了如下方案：为了精密地加工出夹着绝缘层而上下层叠的TFT的栅极电极层与漏极/源极电极层的相对位置关系及各电极的形状等，形成通过紫外线的照射能够使表面的亲疏水性改性的自组装单分子层(SAM)，并使用利用了紫外线的图案曝光装置来更为精密地加工出各电极层的形状。【现有技术文献】【专利文献1】国际公开2010/001537号
技术实现思路
上述的专利文献1的曝光装置将平面掩模的图案经由投影光学系统投影曝光于被平坦地支承的可挠性的长条衬底薄片上。而在通过卷对卷方式在被连续搬运的挠性衬底薄片上将掩模的图案反复进行曝光的情况下，通过采用将衬底薄片的搬运方向作为扫描方向、使掩模为圆筒状的旋转掩模的扫描型曝光装置，能够期待生产性的飞跃性提高。被连续搬运的挠性衬底薄片是薄的衬底，通过空气轴承的平坦或弯曲的垫面等而被支承。或者，衬底薄片卷附在旋转滚筒(直径大的辊)的圆筒状外周面的一部分上，从而以弯曲状态被支承。在利用曝光装置在形成有ITO等透明层的透明度高的PET薄膜、PEN(Poly-EthyleneNaphthalate)薄膜、极薄玻璃等上布图的情况下，向涂布于该衬底表面的感光层(例如，光致抗蚀剂、感光性硅烷偶联剂等)投射的图案曝光光会到达衬底之下的垫面或是旋转滚筒的外周面。因此，存在在垫面或旋转滚筒的外周面反射了光成分(返回光)从衬底的背面侧向表面侧(投影光学系统那一方)返回来，从而使形成于感光层的图案的像质劣化的情况。若能够将位于衬底背侧的垫面或旋转滚筒的外周面的反射率抑制得很低，则能够忽略该返回光带来的影响。但是，为了进行曝光装置的校准以及衬底的对位，会在平坦的垫面或旋转滚筒的外周面的一部分上设置基准标记或基准图案，在通过光学的对准显微镜等对这些基准标记或基准图案进行检测时，由于垫面或旋转滚筒的外周面的反射率低，所以会产生难以以良好的对比度检测基准标记或基准图案的问题等。本专利技术方式的目的在于提供衬底支承装置，其能够降低来自对衬底进行支承的部件的反射光(返回光)所带来的影响。此外，本专利技术方式的目的在于提供衬底支承装置，其能够利用由对准显微镜等形成的光学观察装置良好地检测出在对衬底进行支承的装置的支承面的一部分上形成的基准标记及基准图案、或是来自形成在衬底上的标记及图案的反射光(返回光)。再者，本专利技术方式的目的还在于提供曝光装置，其在由上述那样的衬底支承装置支承的衬底上实施高精度的光布图。根据本专利技术的第1方式，提供一种衬底支承装置，包括：基材，具有对被实施光学处理(例如，曝光处理和对准时的计测处理)的具有透过性的挠性衬底以弯曲的状态或平坦状态进行支承的面；和膜体，形成在该基材的面之上，并且相对于在光学处理中所使用的光的反射率为50％以下。根据本专利技术的第2方式，提供一种衬底支承装置，包括：基材，具有对被实施光学处理(例如，曝光处理和对准时的计测处理)的具有透过性的挠性衬底以弯曲的状态或平坦状态进行支承的面；膜体，形成在该基材的面之上，并且相对于在光学处理中所使用的光的反射率为50％以下；和基准图案，在该膜体的表面通过微小层差形成。根据本专利技术的第3方式，提供一种曝光装置，其利用第1方式或第2方式的衬底支承装置进行图案曝光。专利技术效果根据本专利技术的第1方式、第2方式，能够提供支承装置，当在具有透过性的薄衬底上曝光图案时，该支承装置能够降低成为噪声的不需要的曝光(不需要图案的映入等)。根据本专利技术的第3方式，能够提供能进行精密的图案曝光的曝光装置。附图说明图1是示出第1实施方式的曝光装置的概略构成的图。图2是示出图1的曝光装置的主要部分的配置的立体图。图3是示出图1、图2的曝光装置的投影光学系统的构成的图。图4是示出照明区域与投影区域的配置关系的示意图。图5是示出对衬底进行支承的旋转滚筒与编码器读头的配置的图。图6是示出衬底上的对准系统与投影区域的配置关系的图。图7是示意性示出被支承在旋转滚筒上的衬底的构造的图。图8是示出第1实施方式的旋转滚筒的表面构造的剖视图。图9是示出基于旋转滚筒的表面材料的厚度的反射率特性的图。图10是示出第2实施方式的旋转滚筒的表面构造的立体图。图11是示出第2实施方式的旋转滚筒的表面构造的剖视图。图12是示出第3实施方式的图案描画装置的构成的图。图13是说明图12的装置所实现的衬底的描画方式的图。图14是示出第4实施方式的旋转滚筒的表面构造的立体图。图15是示出第5实施方式的旋转滚筒的表面构造的剖面的图。图16是示出第6实施方式的图案曝光装置的构成的图。具体实施方式[第1实施方式]图1是示出本实施方式的柔性衬底用的投影型曝光装置EX的整体构成的图。曝光装置EX对从前一工序的处理装置搬运来的可挠性的薄片状衬底P的感光层照射与显示器用的电路图案及布线图案相对应的紫外线布图光。紫外线包括例如作为水银放电等的辉光的g线(436Nm)、h线(405Nm)、I线(365Nm)，还有KrF、XECl、ArF等准分子激光(各自的波长为248nm、308nm、193nm)，还有来自半导体激光光源、LED光源、高频波激光光源等的波长为400nm以下的光。图1的曝光装置EX设于温度调节腔EVC内。曝光装置EX经由被动或主动的防振单元SU1、SU2而设置于制造车间的地面上。在曝光装置EX内设有用于将从前一工序运送来的衬底P以规定的速度向后一工序运送的搬运机构。搬运机构由边缘位置控制器EPC、驱动辊DR4、旋转滚筒DR、张紧力调整辊RT1、RT2以及2组驱动辊DR6、DR7等构成，所述边缘位置控制器EPC用于将衬底P的Y方向(与长度方向正交的宽度方向)上的中心控制在恒定位置；所述驱动辊DR4被夹持着；旋转滚筒DR一边将衬底P上被图案曝光的部分以圆筒面状支承，一边绕着旋转中心线AX2旋转来搬运衬底；张紧力调整辊RT1，RT2，用于对卷附在旋转滚筒DR上的衬底P赋予规定的张紧力；所述2组驱动辊DR6、DR7用于对衬底P赋予规定的松弛量(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底支承装置，对被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底进行支承，其特征在于，包括：基材，具有用于将所述衬底以弯曲状态或平坦状态进行支承的面；和膜体，形成在所述基材的面之上，并且相对于在所述光学处理中所使用的光的反射率为50％以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.08.28 JP 2012-1881161.一种衬底支承装置，对被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底进行支承，其特征在于，包括：基材，具有用于将所述衬底以弯曲状态或平坦状态进行支承的表面；膜体，形成在所述基材的表面之上，并且所述膜体相对于在所述光学处理中所使用的第一光的反射率为50％以下；和基准图案，通过微小层差形成在所述膜体的表面上，所述膜体由调整了厚度的多层膜构成，以使得所述膜体相对于用于光学检测所述基准图案的第二光的反射率大于所述膜体相对于所述第一光的反射率。2.根据权利要求1所述的衬底支承装置，其特征在于，所述基材由以铁或铝为主成分的金属材料制成，形成在所述基材的表面之上的膜体为2层以上的多层膜，所述膜体的相对于所述第一光的反射率为20％以下。3.根据权利要求2所述的衬底支承装置，其特征在于，所述多层膜是形成在所述基材的表面之上的基底层和形成在所述基底层之上的顶层这2层构造，所述基底层的厚度比所述顶层的厚度大。4.根据权利要求3所述的衬底支承装置，其特征在于，所述基底层为铬(Cr)、铜(Cu)、铝(Al)、银(Ag)或金(Au)中的任一个，所述顶层为氧化铬(Cr2O3、CrO)、氧化...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，鬼头义昭，堀正和，木内彻，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP