生长出无金属且低应力的类钻碳厚膜的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了无金属且低应力的类钻碳(DLC)厚膜。本发明专利技术的类钻碳层具有很广的应用范围，例如汽车涂层、疏水-亲水调节、太阳能光伏、装饰涂层、保护涂层和生物相容性涂层。本发明专利技术还提供了一种通过在同一腔室中执行沉积和等离子体蚀刻以将多于一个类钻碳层堆叠在一起而生长出无金属且低应力的类钻碳厚膜的方法和装置。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种形成类钻碳膜堆的方法，包括：沉积第一类钻碳层；蚀刻所述第一类钻碳层以在所述第一类钻碳层上形成氟稀释表面；和在所述第一类钻碳层的所述氟稀释表面上进一步沉积类钻碳层以形成类钻碳层堆。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪忠晖，
申请(专利权)人：纳米及先进材料研发院有限公司，
类型：发明
国别省市：中国香港;81