本发明专利技术公开一种显示基板及显示装置，涉及显示技术领域，为解决信号线出现不良的问题。所述显示基板包括：衬底基板；设置在衬底基板上的第一绝缘层，第一绝缘层上设有至少一个容线槽；以及至少一条信号线，信号线中的至少一条设置在容线槽中，且一个容线槽用于容纳一条信号线；覆盖在第一绝缘层和信号线上的第二绝缘层。所述显示装置包括上述技术方案所提的显示基板。本发明专利技术提供的显示基板及显示装置用于减轻信号线不良问题出现的机率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及显示装置。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，薄膜晶体管(Thin Film Transistor，以下简称TFT)液晶显示器在当前的显示器中占据了主导地位。显示基板在TFT液晶显示器的高响应度、高亮度、高对比度等方面起到了重要的作用，如图1所示，现有技术中，显示基板10包括衬底基板11、设置在衬底基板上的信号线12，以及在信号线上形成的绝缘层13。但，本申请专利技术人发现现有的显示基板10存在如下缺陷:由于各信号线12设置在衬底基板11的上表面上，导致形成在衬底基板11和各信号线12上的绝缘层13存在凸起；而当有外力作用在该绝缘层13上时，导致绝缘层13易出现破损，使得信号线12易被电解液或水汽腐蚀，导致信号线出现不良。显示基板上的取向膜与绝缘层13凸起所对应的位置形成一定坡度，导致摩擦取向时所述位置存在摩擦盲区，所述盲区导致液晶分子排列异常形成了液晶屏漏光现象。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示基板及显示装置，用于减轻信号线不良问题出现的机率。为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案:一种显不基板，包括:衬底基板；设置在所述衬底基板上的第一绝缘层，所述第一绝缘层上设有至少一个容线槽；以及至少一条信号线，所述信号线中的至少一条设置在所述容线槽中，且一个所述容线槽用于容纳一条所述信号线；覆盖在所述第一绝缘层和所述信号线上的第二绝缘层。进一步地，所述显示基板包括外围走线区域和显示区域，其中，所述容线槽位于所述外围走线区域，和/或位于所述显示区域；所述信号线包括栅线，和/或数据线。进一步地，所述容线槽位于所述外围走线区域，所述信号线包括数据线或栅线。进一步地，所述容线槽位于所述外围走线区域，所述信号线包括数据线和栅线，且所述数据线和所述栅线设置在同层或不同层。进一步地，所述数据线和所述栅线设置在不同层，所述第一绝缘层包括分别设有至少一个容线槽的第一子绝缘层和第二子绝缘层，且所述第二子绝缘层位于所述第一子绝缘层的上方，其中，所述数据线位于所述第一子绝缘层的容线槽中，所述栅线位于所述第二子绝缘层的容线槽中；或者，所述数据线位于所述第二子绝缘层的容线槽中，所述栅线位于所述第一子绝缘层的容线槽中。进一步地，所述容线槽位于所述显示区域，所述信号线包括数据线或栅线。进一步地，所述容线槽位于所述显示区域，所述信号线包括设置在不同层的数据线和栅线；所述第一绝缘层包括分别设有至少一个容线槽的第一子绝缘层和第二子绝缘层，且所述第二子绝缘层位于所述第一子绝缘层的上方，其中，所述数据线位于所述第一子绝缘层的容线槽中，所述栅线位于所述第二子绝缘层的容线槽中；或者，所述数据线位于所述第二子绝缘层的容线槽中，所述栅线位于所述第一子绝缘层的容线槽中。进一步地，所述第一绝缘层为氮化硅层或二氧化硅层，或为包括氮化硅层和二氧化硅层的组合层。进一步地，所述信号线的上表面与所述第一绝缘层的上表面平齐。本专利技术同时还提供了一种显示装置，包括上述技术方案中的显示基板。在本专利技术提供的显示基板及显示装置中，由于在与信号线对应的第一绝缘层上设置有容线槽，信号线中至少一条信号线位于容线槽中，且一个容线槽容纳一条信号线，使得形成在第一绝缘层和各信号线上的第二绝缘层上表面趋于平整，从而使得显示基板的上表面趋于平整，减少位于信号线上方的第二绝缘层发生破损的机率，进而减轻信号线不良现象出现的机率。而且，当对显示基板的取向膜进行摩擦时，减少了显示基板的上表面由于具有坡度的凸起造成的摩擦盲区，摩擦布和取向膜能够较为充分的接触，从而使得取向膜能够正常取向，液晶分子排列正常，减少了显示装置出现漏光的现象。【附图说明】此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中:图1为现有技术中提供的显示基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例中显示基板的结构示意图一；图3为本专利技术实施例中显示基板的结构示意图二 ；图4为本专利技术实施例中显示基板的结构示意图三；图5为本专利技术实施例中显示基板的结构示意图四；图6为本专利技术实施例中显示基板的结构示意图五；图7为本专利技术实施例中显示基板的结构示意图六；图8为本专利技术实施例中显示基板的显示区域的信号线的排布示意图；图9为本专利技术实施例中显示基板的制造方法的方法流程图；图10a、图10b、图10c、图1OcU图1Oe为本专利技术实施例中显示基板的制造过程示意图；图11为本专利技术实施例中显示基板的又一制造方法的方法流程图。附图标记:10-显不基板，11_衬底基板，12-信号线，13-绝缘层，14-容线槽，15-栅线，16-数据线，17-导电层，131-第一绝缘层，132-第二绝缘层，1311-第一子绝缘层，1312-第二子绝缘层，1321-栅极绝缘层，1322-保护层。【具体实施方式】下面将结合说明书附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图2，本专利技术实施例提供的显不基板10包括:衬底基板11，设置在衬底基板11上的第一绝缘层131，第一绝缘层131上设有至少一个容线槽14，以及至少一条信号线12，覆盖在第一绝缘层131和信号线12上的第二绝缘层132 ;其中，信号线12中的至少一条设置在容线槽14中，且一个容线槽14用于容纳一条信号线12。具体实施时，衬底基板11可以为玻璃基板或塑料基板；第一绝缘层131为绝缘透光材料层；第二绝缘层132可以为单层结构，也可以为双层结构，比如:如图3所示，第二绝缘层132为两层结构，包括位于下层的栅极绝缘层1321，位于上层的保护层(PVX层)1322 ;其中，栅极绝缘层1321优选为氮化硅层。信号线12的条数由显示基板的功能和结构决定，在本实施中信号线12数量为多条，多条信号线12可以全部设置在各容线槽14内，也可以仅有一部分信号线12设置在各容线槽14内，但需要注意的是，一个容线槽14仅设置有一条信号线12。在上述实施例提供的显示基板中，由于信号线12部分或全部设置在对应的容线槽14内，使得形成在第一绝缘层131和信号线12上的第二绝缘层132上表面趋于平整，从而使得显示基板10的上表面趋于平整，减少位于信号线12上方的第二绝缘层132发生破损的机率，进而减轻信号线12不良现象出现的机率。而且，当对显示基板10的取向膜进行摩擦时，减少了显示基板10的上表面由于具有坡度的凸起造成的摩擦盲区，摩擦布和取向膜能够较为充分的接触，从而使得取向膜能够正常取向，液晶分子排列正常，减少了显示装置出现漏光的现象。上述显示基板按照显示功能划分为外围走线区域和显示区域，容线槽14位于外围走线区域和/或显示区域，信号线具体可以为栅线和/或数据线。例如，在衬底基板11上的外围走线区域中，第一绝缘层131为缓冲层，容线槽14的位置与衬底基板11上的外围走线区域对应，信号线12为栅线，和/或数据线；具体地，在该缓冲层上设有多个间隔排列的容线槽14，在每个容线槽14设置有一条信号线，该信号线可以为栅线本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板；设置在所述衬底基板上的第一绝缘层，所述第一绝缘层上设有至少一个容线槽；以及至少一条信号线，所述信号线中的至少一条设置在所述容线槽中，且一个所述容线槽用于容纳一条所述信号线；覆盖在所述第一绝缘层和所述信号线上的第二绝缘层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李卿硕，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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