透明导电体、输入装置和电子仪器制造方法及图纸

本发明专利技术提供具有高对比度、且可以抑制薄层电阻增加的透明导电体，该透明导电体具备：基材、包含金属填料的透明导电层、以及包含光吸收材料的透光层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术涉及透明导电体、输入装置和电子仪器。详细而言，涉及具备包含金属填料 的透明导电层的透明导电体。
技术介绍
透明导电层是在触摸面板、FF1D (flat panel display)、太阳能电池、 EMI (Electro-Magnetic Interference)、光学过滤器等的电子产业等中不可欠缺的主要构 件，因此而受到关注，并期待着进一步普及。 现在，透明导电层的主流为ITO(Indium Tin Oxide)膜，但存在着光学特性不能令 人满意或在形成图案时产生图案外观等的问题。此外，关于成膜方法，真空蒸镀法或溅镀法 等干法为主流，伴随着要成膜基板的大型化，制造装置变得大规模化，因此还存在着成本变 尚的缺陷。 另一方面，在利用金属填料的透明导电层中，当设为与ITO膜同等程度的薄层电 阻时，就透过率或雾度等光学特性而言，可获得优于ITO膜的特性。此外，关于制造方法，由 于可以使用作为湿法的涂布方式，因此可以使用塑料之类的轻便廉价且具挠性的基材，以 制造成本低廉的棍对棍（roll to roll)方式进行生产。 在包含金属填料的透明导电层中，由于其金属光泽，起因于光的反射的亮度（反 射L值成为表示亮度的数值）较高，对比度下降。因此，有人提案了通过利用染料对金属填 料进行表面处理，来降低反射L值的技术（例如，参见专利文献1)。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :专利第4893867号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 但是，在上述的技术中，虽然可以降低反射L值，但导致薄层电阻的增加。 因此，本技术的目的在于提供：具有高对比度、且可以抑制薄层电阻增加的透明导 电体、输入装置和电子仪器。 用于解决课题的手段 第1技术是透明导电体，该透明导电体具备：基材、包含金属填料的透明导电层、以及 包含光吸收材料的透光层。 第2技术是输入装置，该输入装置具备：包含金属填料的透明导电层和包含光吸 收材料的透光层。 第3技术是显示装置，该显示装置具备：显示装置和输入装置，其中，输入装置具 备：包含金属填料的透明导电层和包含光吸收材料的透光层。 第4技术是透明导电体，该透明导电体具备：基材、包含金属填料的透明导电层、 以及包含光吸收材料的透光层，其中，金属填料表面的至少一部分被有色化合物覆盖。 在本技术中，由于设置有包含光吸收材料的透光层，因此可以利用透光层所含的 光吸收材料吸收因透明导电层12所含的金属填料而反射的光。因此，可以改善对比度。 另外，不对金属填料施加表面处理，通过进一步具备包含光吸收材料的透光层而 改善对比度，因此在实现高对比度的同时，不会导致薄层电阻的增大。 专利技术效果 如上所述，根据本技术，可以提供具有高对比度、且可以抑制薄层电阻增加的透明导电 体。 附图简述图1是显示本技术的实施方式1所涉及的透明导电体的一个构成例的截面图。 图2是显示本技术的实施方式2所涉及的透明导电体的一个构成例的截 面图。 图3A是显示本技术的实施方式3所涉及的透明导电体的一个构成例的平 面图。图3B是显示本技术的实施方式3所涉及的透明导电体的一个构成例的截面图。 图4A是将图3B不出的透明导电体的一部分放大表不的截面图。图4B是 显示本技术的实施方式3所涉及的透明导电体的变形例的截面图。 图5A、图5B是显示本技术的实施方式3所涉及的透明导电体的变形例的 截面图。 图6A是显示本技术的实施方式4所涉及的透明导电体的一方的表面侧的 平面图。图6B是显示本技术的实施方式4所涉及的透明导电体的另一方的表面侧的平面 图。图6C是显示本技术的实施方式4所涉及的透明导电体的一个构成例的截面图。 图7A、图7B是显示本技术的实施方式4所涉及的透明导电体的变形例的 截面图。 图8A是显示本技术的实施方式5所涉及的信息输入装置的一个构成例的 平面图。图8B是显示第1透明导电体和第2透明导电体的一个构成例的截面图。 图9是显示本技术的实施方式6所涉及的信息输入装置的一个构成例的 截面图。 图IOA是显示本技术的实施方式7所涉及的信息输入装置的具体例子的 平面图。图IOB是沿着图IOA示出的a-a线的截面图。 图IlA是将图IOA示出的交叉部C的付近放大显示的平面图。图IlB是 沿着图IlA示出的A-A线的截面图。 图12是显示本技术的实施方式8所涉及的信息输入装置的一个构成例 的截面图。 图13A是显示作为电子仪器的电视装置的例子的外观图。图13B是显示 作为电子仪器的笔记本电脑的例子的外观图。 图14A是显不作为电子仪器的手机的一个例子的外观图。图14B是显不 作为电子仪器的平板电脑的一个例子的外观图。【具体实施方式】 < 概要 > 如上所述，在对金属填料表面进行染料处理的技术中，虽然可以降低反射L值，但存在 着导致薄层电阻增加的问题。因此，本专利技术人为了改善该问题而进行了深入研宄，结果发 现了下述的技术：通过在金属填料表面中金属容易溶出的部位预先用硫醇类和/或硫化物 类进行保护，可以使染料表面处理后的薄层电阻的增加较上述未保护的染料表面处理时降 低。但是，在该技术中，也难以完全抑制薄层电阻的增加。因此，本专利技术人对可以进一步抑 制薄层电阻增加的技术进行了深入的研宄。其结果发现了：具备包含金属填料的透明导电 层和包含光吸收材料的透光层的构成。 参见附图，按照以下顺序对本技术的实施方式进行说明。 1.实施方式1(透明导电体的例子） 2. 实施方式2(透明导电体的例子） 3. 实施方式3(透明导电体的例子） 4. 实施方式4 (透明导电体的例子） 5. 实施方式5 (信息输入装置的例子） 6. 实施方式6 (信息输入装置的例子） 7. 实施方式7 (信息输入装置的例子） 8. 实施方式8 (信息输入装置的例子） 9. 实施方式9 (电子仪器的例子） < 1.实施方式1 > 图1是显示本技术的实施方式1所涉及的透明导电体的一个构成例的截面图。如图 1所示，该透明导电体1具备：基材11、作为透光层的黑色浮动防止层13、以及透明导电层 12。黑色浮动防止层13和透明导电层12层合于基材11的表面。黑色浮动防止层13设置 于基材11和透明导电层12之间。该透明导电体1优选适用于显示装置或信息输入装置。 特别是优选适用于静电电容式触摸面板。 (基材） 基材11例如是具有透明性的无机基材或塑料基材。作为基材11的形状，例如可以使 用薄膜状、片状、板状、块状等。作为无机基材的材料，例如可以举出：石英、蓝宝石、玻璃等。 作为塑料基材的材料，例如可以使用公知的高分子材料。作为公知的高分子材料，具体而 言，例如可以举出：三乙酰基纤维素（TAC)、聚酯（TPEE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET)、聚 萘二甲酸乙二醇酯（PEN)、聚酰亚胺（PI)、聚酰胺（PA)、芳族聚酰胺、聚乙烯（PE)、聚丙烯酸 酯、聚醚砜、聚砜、聚丙烯（PP)、聚苯乙烯、二乙酰基纤维素、聚氯乙烯、丙烯酸树脂（PMMA)、 聚碳酸酯（PC)、环氧树脂、脲树脂、氨基甲酸乙酯树脂、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、丙烯腈/ 丁二烯/苯乙烯共聚物、环烯烃聚合物（COP)、环烯烃共聚物（COC)、PC/PMMA层合体、添加 橡胶的PMM等。基材11不限于上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
透明导电体，该透明导电体具备：基材、包含金属填料的透明导电层、以及包含光吸收材料的透光层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金子直人，水野干久，
申请(专利权)人：迪睿合电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP