【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】提供一种基板清洗装置，具有：辊子组件(95)，其至少包含与基板(W)接触的辊子清洗部件(46)及将该辊子清洗部件(46)支撑成旋转自如的辊子臂(42)；支撑臂(58)，其用于支撑辊子组件(95)；调整螺杆(83)，其贯通支撑臂(58)，并拧入辊子组件(95)内；以及螺杆支撑件(84)，其将调整螺杆(83)相对于支撑臂(58)的上下方向的相对位置予以固定，并将调整螺杆(83)支撑成可旋转。采用本专利技术，可将测力传感器搭载在最佳位置上，且可实现大幅度的调整，减少药液喷管或冲洗液喷管等布置设计的制约。【专利说明】基板清洗装置及基板处理装置
本专利技术涉及一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，该基板清洗装置一边使圆柱状且向水平方向延伸的辊子清洗部件与半导体晶片等基板的表面接触，一边使基板及辊子清洗部件一起旋转而对基板表面进行摩擦清洗。
技术介绍
以往，已知有一种基板清洗装置，其将圆柱状的辊子清洗部件推到晶片等基板上而对基板表面进行清洗。在这种基板清洗装置中，设有将辊子清洗部件保持成旋转自如的辊子臂，该辊子臂与升降机构连结...
【技术保护点】
一种基板清洗装置，其特征在于，具有：辊子组件，该辊子组件至少包含与基板接触的辊子清洗部件及将该辊子清洗部件支撑成旋转自如的辊子臂；支撑臂，该支撑臂用于支撑所述辊子组件；调整螺杆，该调整螺杆贯通所述支撑臂，并拧入所述辊子组件内；以及螺杆支撑件，该螺杆支撑件将所述调整螺杆相对于所述支撑臂的上下方向的相对位置予以固定，并将所述调整螺杆支撑成可旋转。
【技术特征摘要】
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