基板清洗装置及基板处理装置制造方法及图纸

提供一种基板清洗装置，具有：辊子组件(95)，其至少包含与基板(W)接触的辊子清洗部件(46)及将该辊子清洗部件(46)支撑成旋转自如的辊子臂(42)；支撑臂(58)，其用于支撑辊子组件(95)；调整螺杆(83)，其贯通支撑臂(58)，并拧入辊子组件(95)内；以及螺杆支撑件(84)，其将调整螺杆(83)相对于支撑臂(58)的上下方向的相对位置予以固定，并将调整螺杆(83)支撑成可旋转。采用本发明专利技术，可将测力传感器搭载在最佳位置上，且可实现大幅度的调整，减少药液喷管或冲洗液喷管等布置设计的制约。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】提供一种基板清洗装置，具有：辊子组件(95)，其至少包含与基板(W)接触的辊子清洗部件(46)及将该辊子清洗部件(46)支撑成旋转自如的辊子臂(42)；支撑臂(58)，其用于支撑辊子组件(95)；调整螺杆(83)，其贯通支撑臂(58)，并拧入辊子组件(95)内；以及螺杆支撑件(84)，其将调整螺杆(83)相对于支撑臂(58)的上下方向的相对位置予以固定，并将调整螺杆(83)支撑成可旋转。采用本专利技术，可将测力传感器搭载在最佳位置上，且可实现大幅度的调整，减少药液喷管或冲洗液喷管等布置设计的制约。【专利说明】基板清洗装置及基板处理装置
本专利技术涉及一种基板清洗装置及具有该基板清洗装置的基板处理装置，该基板清洗装置一边使圆柱状且向水平方向延伸的辊子清洗部件与半导体晶片等基板的表面接触，一边使基板及辊子清洗部件一起旋转而对基板表面进行摩擦清洗。
技术介绍
以往，已知有一种基板清洗装置，其将圆柱状的辊子清洗部件推到晶片等基板上而对基板表面进行清洗。在这种基板清洗装置中，设有将辊子清洗部件保持成旋转自如的辊子臂，该辊子臂与升降机构连结，该升降机构用于使辊子清洗部件接近或离开晶片的表面。该升降机构因配置空间等问题而配置在辊子臂的侧方。升降机构具有向水平方向延伸的支撑臂，用该支撑臂对辊子臂进行支撑。 在用向水平方向延伸的支撑臂对辊子臂进行支撑的结构中，辊子臂的自重始终施加在支撑臂上。因此，构成支撑臂的零件会产生磨损或走形(蠕变)，因为这种磨损或走形，支撑在辊子臂上的辊子清洗部件的高度有时就会偏离最初设定的初始位置。 因此，用于调整辊子清洗部件的高度的高度调整机构被搭载在辊子臂上。图10是以往的高度调整机构的概略剖视图。如图10所示，在该高度调整机构中，将剖面为大致直角三角形的二个楔子180、181上下重叠成其斜面互相接触。通过调整这些楔子180、181的重叠量，从而调整辊子清洗部件146的高度。在该高度调整机构中，用于调整楔子180、181的重叠量的调整螺杆183安装在下侧楔子181上。调整螺杆183利用固定在辊子臂185上的螺杆支撑件184而被支撑成可旋转。调整螺杆183利用该螺杆支撑件184而可绕调整螺杆183的轴心旋转，但调整螺杆183自身不能在水平方向上移动。 在欲提起辊子清洗部件146时，通过使调整螺杆183顺时针旋转，就可使下侧楔子181向图中右方移动，上侧楔子180与下侧楔子181的相对距离就缩短。另一方面，在欲放下辊子清洗部件146时，通过使调整螺杆183逆时针旋转，就可使下侧楔子181向图中左方移动，上侧楔子180与下侧楔子181的相对距离就扩大。 这种结构的高度调整机构，安装在辊子臂上，且设在辊子清洗部件中央的铅垂方向上方。该位置是用于测定按压负荷(辊子清洗部件被按压在基板上的负荷)的最佳位置，但由于存在高度调整机构，因此难以将测力传感器等负荷测定器配置在该最佳位置。 另外，此处图不的闻度调整机构的调整量是土 Imm左右，但该调整量对于调整棍子清洗部件146的高度来说是不够的。为了增加调整量，需要加大楔子180、181的斜面的相对于水平方向的角度、或加大楔子180、181整体的尺寸。但是，在加大斜面角度的情况下，由于需要更大的力来使楔子180、181向水平方向滑动，因此这种设计变更是困难的。另外，加大楔子180、181尺寸的变更也需要确保更宽大的设置空间。 此外，在以往的高度调整机构中，使楔子180、182滑动用的调整螺杆183从辊子臂185向水平方向突出。在这种结构中，基板清洗所用的药液或冲洗液等处理液有时会附着在调整螺杆183上。在该情况下，附着的处理液会向基板表面滴下，很有可能成为对基板造成逆污染的原因。另外，药液或冲洗液通常使用配置在辊子臂185侧方的药液喷管或冲洗液喷管而从斜上方被供给到基板上。但是，当调整螺杆183从辊子臂185向水平方向突出时，药液喷管或冲洗液喷管不得不避开调整螺杆183来配置。因此，药液喷管或冲洗液喷管的位置和角度等的布置受到限制，成为妨碍自由布置设计的原因。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 本专利技术是鉴于上述问题而做成的，其目的在于提供一种基板清洗装置，测力传感器可搭载在最佳位置处，且可实现大的调整幅度，并减少药液喷管或冲洗液喷管等的布置设计的制约。另外，其目的是提供一种搭载了该基板清洗装置的基板处理装置。 用于解决课题的手段 用于解决上述课题的本专利技术的一方式是一种基板清洗装置，其特点是，具有:辊子组件，该辊子组件至少包含与基板接触的辊子清洗部件及将该辊子清洗部件支撑成旋转自如的辊子臂；支撑臂，该支撑臂用于支撑所述辊子组件；调整螺杆，该调整螺杆贯通所述支撑臂，并拧入所述辊子组件内；以及螺杆支撑件，该螺杆支撑件将所述调整螺杆相对于所述支撑臂的上下方向的相对位置予以固定，并将所述调整螺杆支撑成可旋转。 本专利技术的较佳方式的特点是，所述辊子组件还包含可使所述辊子清洗部件倾动的倾斜机构，所述调整螺杆拧入所述倾斜机构内。 本专利技术的较佳方式的特点是，还具有对所述辊子组件向所述支撑臂进行施力的施力装置。 本专利技术的较佳方式的特点是，还具有将所述调整螺杆的旋转位置予以固定用的固定机构。 本专利技术的较佳方式的特点是，还具有防水罩，该防水罩将所述调整螺杆从所述支撑臂突出的部分予以覆盖。 本专利技术的其它方式是一种基板处理装置，其特点是，具有对基板进行研磨的研磨装置、以及对研磨后的基板进行清洗的上述基板清洗装置。 专利技术的效果 采用本专利技术，可利用调整螺杆，使辊子清洗部件相对于支撑臂的上下方向的相对位置变位。由于调整螺杆向铅垂方向延伸，因此，不需要以往的高度调整机构所需的楔子。结果，可将设置测力传感器等负荷测定器用的空间设置在辊子臂上。尤其，可在最佳位置即支撑臂的中央部设置测力传感器以测定辊子清洗部件的按压负荷。 另外，与使用了楔子的以往的高度调整机构不同，通过增加调整螺杆的长度，从而可增加辊子清洗部件的高度的最大调整量。此外，由于调整螺杆不向辊子臂的水平方向突出，因此，不会对药液喷管或冲洗液喷管的位置和角度等的布置带来影响，该药液喷管或冲洗液喷管的布置制约被减少。 【专利附图】【附图说明】 图1是表示具有本专利技术实施方式的基板清洗装置的基板处理装置的整体结构的概略俯视图。 图2是图1所示的基板处理装置所具有的本专利技术实施方式的基板清洗装置的概要的立体图。 图3是表示本专利技术实施方式的基板清洗装置的整体结构概要的主视图。 图4是倾斜机构的概略纵剖主视图。 图5是倾斜机构的概略纵剖侧视图。 图6是表示本专利技术实施方式的基板清洗装置的概要的纵剖视图。 图7是表示图6的基板清洗装置的调整螺杆及倾斜机构的放大图。 图8是图7中的A-A线剖视图。 图9是图7中的纵剖视图。 图10是以往的高度调整机构的概略剖视图。 符号说明 14a?14d研磨装置 16、18基板清洗装置 20基板干燥装置 24基板输送单元 30控制盘(操作面板) 42、44 辊子臂 46、48辊子清洗部件 54测力传感器 56气缸(促动器) 60升降机构 62电动气压调节器(压力调整器) 64显示仪 66负荷控制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗装置，其特征在于，具有：辊子组件，该辊子组件至少包含与基板接触的辊子清洗部件及将该辊子清洗部件支撑成旋转自如的辊子臂；支撑臂，该支撑臂用于支撑所述辊子组件；调整螺杆，该调整螺杆贯通所述支撑臂，并拧入所述辊子组件内；以及螺杆支撑件，该螺杆支撑件将所述调整螺杆相对于所述支撑臂的上下方向的相对位置予以固定，并将所述调整螺杆支撑成可旋转。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田中英明，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP