本发明专利技术公开了一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOX层，第二层为TiOx层，第三层为AZO层，第四层为Si层，第五层为AZO层，第六层为Ag层，第七层为NiCrOx层，第八层为ZnSnO2层，第九层为AZO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCrOx层，第十二层为ZnSnO2层，第十三层为AZO层，第十四层为Ag层，第十五层为NiCrOx层，第十六层为ZnSnO2层，最外层为Si3N4层。本发明专利技术还公开了一种磁控溅射法制备高透光率的金色三银LOW-E玻璃的方法。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOX层，第二层为TiOx层，第三层为AZO层，第四层为Si层，第五层为AZO层，第六层为Ag层，第七层为NiCrOx层，第八层为ZnSnO2层，第九层为AZO层，第十层为Ag层，第十一层为NiCrOx层，第十二层为ZnSnO2层，第十三层为AZO层，第十四层为Ag层，第十五层为NiCrOx层，第十六层为ZnSnO2层，最外层为Si3N4层。本专利技术还公开了一种磁控溅射法制备高透光率的金色三银LOW-E玻璃的方法。【专利说明】一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃及制备方法【
】本专利技术涉及一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，本专利技术还涉及一种磁控溅射法制备高透光率的金色三银LOW-E玻璃的方法。【
技术介绍
】镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效。而金色玻璃作为镀膜玻璃的一个非常规品种，深受人们喜爱。随着节能指标要求越来越高，在很多城市现有的双银LOW-E玻璃都已无法满足客户需求，再加上金色玻璃产品深受人们的热宠，金色三银LOW-E玻璃的市场需求宠大，但由于三银LOW-E玻璃本身制备复杂，且使用金作为溅射靶材成本高昂，一直以来未出现金色三银LOW-E玻璃。【
技术实现思路
】本专利技术目的是克服了现有技术的不足，提供一种透过率高，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，生产成本低的高透光率的金色三银LOW-E玻璃，本专利技术还提供一种磁控溅射法制备高透光率的金色三银LOW-E玻璃的方法。本专利技术是通过以下技术方案实现的:一种高透光率的金色三银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOjl21，第二层为T1jl 22，第三层为AZ0层23，第四层为Si层24，第五层为AZ0层25，第六层为Ag层26，第七层为NiCrOjl 27，第八层为ZnSnO 2层28，第九层为AZ0层29，第十层为Ag层210，第^^一层为NiCrOjl 211，第十二层为ZnSnO 2层212，第十三层为AZ0层213，第十四层为Ag层214，第十五层为NiCrOjl 215，第十六层为ZnSnO 2层216，最外层为Si 3N4层217。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于所述第一膜层SiZrOjl21的厚度为30?35nm。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于第二层T1jl 22的厚度为11?12nm。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于所述第三层AZ0层23的厚度为9?llnm，第五层AZ0层25的厚度10?20nm，第九层AZ0层29的厚度为28?30nm，第十三层AZ0213的厚度为30?35nm。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于所述第四层Si层24的厚度为3?5nm。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于所述第六层Ag层26的厚度为8?9nm，所述第十层Ag层210的厚度为7?8nm，所述第十四层Ag层210的厚度为7?8nm。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于所述第七层NiCrOjl 27的厚度为1?2nm，所述第^ 层NiCrOjl 211的厚度为1?2nm，所述第十五层NiCrOjl215的厚度为1?2nm。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于所述第八层ZnSnOjl 28的厚度为24?25nm，所述第十二层21^1102层212的厚度为58?62nm，所述第十六层ZnSn02层216的厚度为18?20nm。如上所述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃，其特征在于所述最外层Si3N4层217的厚度为15?17nm。一种制备上述的高透光率的金色三银L0W-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤:(1)磁控溅射SiZrOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射掺锆的硅铝靶硅铝锆比为 82:8:10，氩氧比为 400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；(2)磁控溅射T1jl，用中频交流电源溅射陶瓷陶瓷钛靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量 02，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(3)磁控溅射AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量 02，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(4)磁控溅射Si层，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500?550SCCM ；(5)磁控溅射AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量 02，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(6)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，气体流量500?550SCCM ；(7)磁控溅射NiCrOx，用直流电源溅射，用氩气做反应气体，用氩气作为溅射气体，掺入少量 02，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(8)磁控溅射ZnSnOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；(9)磁控溅射AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量 02，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(10)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，气体流量500?550SCCM ；(11)磁控溅射NiCrOjl，用直流电源溅射，用氩气做反应气体，掺入少量0 2，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(12)磁控溅射ZnSnOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；(13)磁控溅射AZ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，用氩气作为溅射气体，掺入少量 02，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(14)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，气体流量500?550SCCM ；(15)磁控溅射NiCrOjl，用直流电源溅射，用氩气做反应气体，掺入少量0 2，氩氧比为:400SCCM-420SCCM:20 ?40SCCM ；(16)磁控溅射ZnSnOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；(17)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶硅铝质量百分比 92:8，氩氮比为 400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM。与现有技术相比，本专利技术有如下优点:1、本专利技术通过用掺锆的氧化硅作为底层介质层材料，提高其折射率，从而提高其透过率，复合产品的透过率可达到65%以上。克服了金色三银L0W-E玻璃由于三银玻璃本身膜层结构增多，透光率急剧下降的难题。2、本专利技术与采用金作为功能层本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高透光率的金色三银LOW‑E玻璃，包括有玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十七个膜层，其中第一膜层即最内层为SiZrOX层(21)，第二层为TiOx层(22)，第三层为AZO层(23)，第四层为Si层(24)，第五层为AZO层(25)，第六层为Ag层(26)，第七层为NiCrOx层(27)，第八层为ZnSnO2层(28)，第九层为AZO层(29)，第十层为Ag层(210)，第十一层为NiCrOx层(211)，第十二层为ZnSnO2层(212)，第十三层为AZO层(213)，第十四层为Ag层(214)，第十五层为NiCrOx层(215)，第十六层为ZnSnO2层(216)，最外层为Si3N4层(217)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：魏佳坤，林改，郑梅鹏，宋晓群，郑凯永，
申请(专利权)人：揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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