折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏技术

本发明专利技术公开了一种折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏。其中，该折射率匹配膜包括：基材；硬化层，形成于基材的一侧侧面上；防粘连硬化层，形成于基材的另一侧侧面上；第一折射率匹配层，形成于防粘连硬化层上，第一折射率匹配层为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。本发明专利技术通过在防粘连硬化层上形成分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的第一折射率匹配层，从而有效降低了折射率匹配膜的雾度，并提高了折射率匹配膜和ITO层的接着性，且该折射率匹配膜具有较好的透光性、硬度和耐磨性。该折射率匹配膜能够使溅镀过程少镀膜一层，从而有效提高生产效率，且该折射率匹配膜的制作成本低且有很好的加工性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及硬化膜
，具体而言，涉及一种折射率匹配膜、折射率匹配膜的制作方法及触摸屏。
技术介绍
目前，市场上用于触摸屏的基材主要有双面硬化膜和折射率匹配膜(IM膜)。其中，双面硬化膜和折射率匹配膜均能满足现有触摸屏的基本需求。然而，当采用双面硬化膜作为触摸屏的基材时，下游镀膜厂家需在其中的一面镀三层膜(高折射率层、低折射率层和导电膜层)，且镀膜时无法提速，生产效率极低。同时，终端客户只能采用油墨网印工艺对双面硬化膜进行蚀刻，从而限制了客户所采用的制成工艺。现有IM膜主要包括IM膜(1+1结构)和IM膜(1+3结构)。其中，IM膜(1+1结构)的雾度达到1.2％以上，作为ITO膜用时需在高折HC面溅镀三层材料(高折层，低折层及ITO层)，且溅镀时无法提速、生产效率低、成本高且IM膜的挺性一般，影响终端客户蚀刻效率。IM膜(1+3结构)作为ITO膜用时需在高折HC面溅镀二层材料(低折层及ITO层)，溅镀时虽可以提速，使其生产效率较高；但其制造成本高、雾度高、良率低，严重影响本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种折射率匹配膜，其特征在于，所述折射率匹配膜包括：基材(10)；硬化层(20)，形成于所述基材(10)的一侧侧面上；防粘连硬化层(30)，形成于所述基材(10)的另一侧侧面上；第一折射率匹配层(40)，形成于所述防粘连硬化层(30)上，所述第一折射率匹配层(40)为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。

【技术特征摘要】
1.一种折射率匹配膜，其特征在于，所述折射率匹配膜包括：
基材(10)；
硬化层(20)，形成于所述基材(10)的一侧侧面上；
防粘连硬化层(30)，形成于所述基材(10)的另一侧侧面上；
第一折射率匹配层(40)，形成于所述防粘连硬化层(30)上，所述第一折射率匹配
层(40)为分布有粒径为10～50nm的金属氧化物的涂层。
2.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物的粒径为20～40nm。
3.根据权利要求1或2所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物选自二氧化锆、
三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的任一种或多种。
4.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述第一折射率匹配层(40)的折
射率为1.6～1.75，所述第一折射率匹配层的厚度为70～100nm。
5.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘连硬化层(30)为包含粒
径为60～90nm的二氧化硅的涂层。
6.根据权利要求5所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述二氧化硅的粒径为70～80nm。
7.根据权利要求5所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述防粘连硬化层(30)的折射率
为1.5～1.52，所述防粘连硬化层(30)的厚度为2～2.5μm。
8.根据权利要求1所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述基材(10)包括聚酯膜层(11)
以及形成于所述聚酯膜层(11)的两侧侧面的预涂层(12)。
9.根据权利要求8所述的折射率匹配膜，其特征在于，所述聚酯膜层(11)的厚度为50～125
μm，位于所述聚酯膜层(11)的一侧侧面上的所述预涂层(12)的厚度为60～120nm，
所述硬化层(20)的厚度为4～4.5μm。
10.根据权利要求8所述的折射率匹配膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐金龙，陈庆松，宋明雄，
申请(专利权)人：张家港康得新光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32