【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学功能膜,尤其涉及一种遮光膜。
技术介绍
1、遮光膜作为相机镜头中的组件,能有效地遮蔽外界多余光线,防止杂散光干扰,提升镜头的成像质量。当前,这一领域的核心技术通过单侧一次涂布技术,将哑黑涂层应用于遮光膜的生产之中。单侧一次涂布工艺虽然成熟,但所生产的遮光膜普遍存在光学浓度不足、透光点较多的问题,这直接影响了镜头的成像质量。
2、此外,遮光膜对耐久性要求严苛。目前市场上薄型基材一般为单面电晕,双面涂布时性能难以满足要求,同时基材在高温、高温高湿等苛刻环境下出现小分子析出,影响产品的耐久性。因此,如何在保持遮光膜轻薄特性的同时,解决光学浓度与光泽度的矛盾,拓宽基材选择范围,以满足更广泛、更高标准的应用需求,成为了当前遮光膜技术发展中亟待攻克的关键难题。亟需探索新的涂布工艺、优化结构,开发更多元化的基材材料,以满足日益增长的市场与技术挑战。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种遮光膜,其能够通过设置不同层实现功能的叠加,降低配方难度,其具有更高的光学浓度及较少的透
...【技术保护点】
1.一种遮光膜,其特征在于,包括基材层(100)、抗析出层(200)、油墨层(300)及哑光层(400);
2.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述基材层(100)的厚度在4.5-23μm范围内,所述哑光层(400)的厚度在2-4μm范围内。
3.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述抗析出层(200)的厚度在0.05-0.5μm范围内。
4.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述油墨层(300)的厚度在2-4μm范围内。
5.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述油墨层(300)中包括至少一层
...【技术特征摘要】
1.一种遮光膜,其特征在于,包括基材层(100)、抗析出层(200)、油墨层(300)及哑光层(400);
2.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述基材层(100)的厚度在4.5-23μm范围内,所述哑光层(400)的厚度在2-4μm范围内。
3.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述抗析出层(200)的厚度在0.05-0.5μm范围内。
4.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述油墨层(300)的厚度在2-4μm范围内。
5.根据权利要求1所述的遮光膜,其特征在于,所述油墨层(300)中包括至少一层油墨子层(310)为导电油墨层,所述导电油墨层连接所述哑光层(400)。
【专利技术属性】
技术研发人员:曾正好,
申请(专利权)人:张家港康得新光电材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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