一种显示基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例涉及显示器领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置，用以减轻配向显示不均现象。本发明专利技术实施例中，在衬底上设置具有预设摩擦方向的配向层，在走线区域设置有冗余图形，在元件区域设置有元件图形；沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。如此，沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形长度之和近似相等；从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了摩擦的均匀性，改善了配向显示不均的情况。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术实施例涉及显示器领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置，用以减轻配向显示不均现象。本专利技术实施例中，在衬底上设置具有预设摩擦方向的配向层，在走线区域设置有冗余图形，在元件区域设置有元件图形；沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。如此，沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形长度之和近似相等；从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了摩擦的均匀性，改善了配向显示不均的情况。【专利说明】 一种显示基板及显示装置
本专利技术涉及显示器领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置。
技术介绍
(11111111-8118181:01—11^111(1 01-781:^1 01邓1奶，薄膜晶体管液晶不器)是利用施加在液晶层上电场强度的变化，改变液晶分子的扭曲方向，从而控制透光的强弱来显示图像的。一般来讲，一块完整的液晶显示面板必须具有背光模块、偏光片、界!'阵列基板和彩膜基板以及由它们两块基板组成的盒中填充的液晶分子层构成。 在的制造过程中，在将阵列基板与彩膜基板对合形成显示模组￠611盒)之后，会有对界!'基板上各个器件的功能进行测试的步骤，即显示模组虚拟测试 ^11-1:1181 1681:) 0 0611 ^11-1:1181 了681: —般包括对了？1'基板上的数据线、扫描线、公共电极线、开关等是否能够正常工作进行测试。为了实现上述的测试，一般会在基板上的显示区域的外围设计有多个用于检测的虚拟测试化#，简称V”端子。同样为了后期将集成电路绑定于基板上，也需要在基板上的显示区域的外围设计多个集成电路端子。 图1示例性示出了现有技术中一种显示基板的结构示意图，如图1所示，现有技术中在基板上设计有VI端子及集成电路端子，显示基板包括用于显示的显示区域101，和用于布置元件的元件区域102，在元件区域102中布置多种元件，例如多个VI端子103、集成电路端子104等。如图1所示，各个元件之间相互之间排列不紧密，会形成的空隙105，且空隙105面积较大。由于VI端子103、集成电路端子104等元件是形成于基板上的配向层之前，图中预设摩擦方向为水平方向106，那么如果当在基板上沿着水平方向106进行涂布配向层时，即进行摩擦工艺时，滚轮扫到各个元件之间相互之间形成的空隙105，会使得绒布滚轮上的绒布保持与空隙105形状相一致的形变，从而改变了原有绒布上已经配置好的细小的凹槽的形状，使得扫在空隙105处的绒布上的配向方向与其他部位不同，从而影响摩擦的均勾性从而产生配向显示不均(见^化叩的情况。 综上所述，亟需一种显示基板及显示装置，用以减轻配向显示不均现象。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种显示基板及显示装置，用以减轻配向显示不均现象。 本专利技术实施例提供一种显不基板，包括: 衬底基板，衬底基板包括显示区域和元件区域，以及设置在显示区域和元件区域之间且围绕显示区域的走线区域； 设置于衬底基板上的配向层，配向层具有预设的摩擦方向； 设置于衬底基板走线区域的冗余图形，设置于衬底基板元件区域的元件图形，其中，沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。 较佳的，阈值为105%。 较佳的，还包括设置于衬底基板与配向层之间的第一电极层，冗余图形与第一电极层同层。 较佳的，第一电极层为像素电极层或者公共电极层。 较佳的，冗余图形为多个相互不连通的独立图形。 较佳的，多个相互不连通的独立图形为矩形。 较佳的，独立图形包括沿第一方向延伸的第一矩形和沿第二方向延伸的第二矩形，第一矩形与第二矩形间隔排布，其中，第一方向与第二方向垂直。 较佳的，多个相互不连通的独立图形包括至少一个第一镂空区域。 较佳的，多个相互不连通的独立图形呈阵列排布或交错排布。 较佳的，冗余图形为全连通图形。 较佳的，全连通图形包括多个第二镂空区域。 较佳的，第二镂空区域为矩形，且多个第二镂空区域呈阵列排列或交错排列。 较佳的，全连通图形为边缘不规则的整面图形。 较佳的，冗余图形接触公共电极电位。 较佳的，元件图形包括虚拟测试VI端子和/或集成电路端子形成的图形。 本专利技术实施例提供一种显示装置，包括如前所述的显示基板。 较佳的，还包括彩色滤光片基板，冗余图形设置于封框胶区与彩色滤光片基板边界之间。 本专利技术实施例中，衬底包括显示区域和元件区域，以及设置在显示区域和元件区域之间且围绕显示区域的走线区域；在衬底上设置具有预设摩擦方向的配向层，在走线区域设置有冗余图形，在元件区域设置有元件图形；沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。 由于在显示区域和元件区域之间的走线区域设置有冗余图形，因此，滚轮依次滚过元件区域的元件图形、走线区域的冗余图形，之后进入显示区域；进一步由于沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积，因此沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形长度之和近似相等；从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置经过不同路径达到显示区域时，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了摩擦的均匀性，改善了配向显示不均的情况。 【专利附图】【附图说明】 为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 图1为现有技术提供的一种显示基板结构示意图； 图2为本专利技术实施例适用的一种显不基板不意图； 图3为本专利技术实施例提供的显示基板母板的结构示意图； 图4为本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图； 图5为图4沿截面“，的剖面图； 图6为本专利技术实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图； 图7为本专利技术实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图； 图8为本专利技术实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图； 图9为本专利技术实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图； 图10为本专利技术实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图； 图11为本专利技术实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图； 图12为本专利技术实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图； 图13为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图； 图14为图13沿截面8-8’的剖面结构示意图。 【具体实施方式】 为了使本专利技术的目的、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板包括显示区域和元件区域，以及设置在所述显示区域和元件区域之间且围绕所述显示区域的走线区域；设置于所述衬底基板上的配向层，所述配向层具有预设的摩擦方向；设置于所述衬底基板走线区域的冗余图形，设置于所述衬底基板元件区域的元件图形，其中，沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上所述冗余图形和元件图形沿所述摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上所述冗余图形和元件图形沿所述摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：席克瑞，汪梅林，李峻，张新彦，
申请(专利权)人：上海中航光电子有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31