【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学领域,具体来说涉及。
技术介绍
常规真空室蒸镀防水膜层的工艺方法是使用电子枪蒸发氟化物纳米材料,由于电子束的特性,在真空度变化时易出现异常放电以及自我遮影现象等缺点,此方法在蒸发过程中经常出现膜层不均匀,膜层防水、耐磨性能较差等质量问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种新型的眼镜片防水膜镀膜方法,通过本专利技术的方法来镀防水膜层,大大改进了膜层的质量问题。本专利技术采用的技术方案如下:,其特征在于,所述方法包括以下步骤:a)将眼镜片在镀膜车间镀好防水膜层以下的其它膜层;b)在真空室中启动热电阻式蒸发源-钥舟,蒸发防水材料,镀防水膜层。采用本专利技术的钥舟工艺,防水材料的蒸发均匀,速率稳定,可以获得颜色稳定、结构牢固的膜层,因而防水防污性能增强,耐磨性能提高,大大提高了膜层的质量问题。 优选地,所述热电阻式蒸发源-钥舟蒸发防水材料的蒸发量为300A,速率为3A/s。 另外,本专利技术中所采用的防水材料可以是多种可用于眼镜片的防水材料,但优选为氟化物材料,例如可购自日本大金工业株式会社的0PT00L DSX氟素表面处理剂。 有益效果:采用本专利技术的钥舟工艺,防水材料的蒸发均匀,速率稳定,可以获得颜色稳定、结构牢固的膜层,因而防水防污性能增强,耐磨性能提高,大大提高了膜层的质量问题。 【具体实施方式】 下面将详细说明本专利技术。 常规真空室蒸镀防水膜层往往采用电子枪蒸发氟化物纳米材料来蒸镀防水膜层,但由于电子束的特性,在真空度出现变化时,例如真空度不足时易出现异常放电以及自我遮影现象等缺点,由此 ...
【技术保护点】
一种眼镜片防水膜镀膜方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:a)将眼镜片在镀膜车间镀好防水膜层以下的其它膜层;b)在真空室中启动热电阻式蒸发源‑钼舟,蒸发防水材料,镀防水膜层。
【技术特征摘要】
1.一种眼镜片防水膜镀膜方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:a)将眼镜片在镀膜车间镀好防水膜层以下的其它膜层;b)在真空室中启动热电阻式蒸发源-钥舟,蒸发防水材料,镀防水膜层。2.如权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:丁鹏飞,
申请(专利权)人:江苏远大光学科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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