被覆件及其制造方法技术

技术编号:10851369 阅读:128 留言:0更新日期:2014-12-31 23:59
一种被覆件,包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层。该类金刚石膜层表面形成有若干纳米量级的凸起。本发明专利技术还提供一种所述被覆件的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
现有技术,为了使镀覆有类金刚石(DLC)膜层的被覆件具有较高的硬度及疏水性, 可通过如下两种方式实现:在形成DLC膜层的过程中,采用Si进行掺杂处理,获得具有疏水 性的Si掺杂DLC膜层;或者,在DLC膜层上形成一含有氟烧基娃烧的有机层。但是,由于 DLC膜层与玻璃、陶瓷等基体的结合力较差,DLC膜层易于发生剥落,如此将导致DLC膜层失 效。
技术实现思路
有鉴于此,提供一种具有高硬度及良好疏水性的被覆件。 另外,还提供一种所述被覆件的制造方法。 -种被覆件,包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层。该类金刚石膜层表面形 成有若干纳米量级的凸起。 -种被覆件的制造方法,包括以下步骤: 提供基体; 通过真空镀膜的方式,在基体表面形成一金属层; 采用液氮对该金属层进行骤冷处理,使所述金属层表面的晶粒因骤冷而被粗化,于金 属层的表面形成若干纳米量级的凸起; 采用真空镀膜的方式,在骤冷处理后的金属层上形成一类金刚石膜层,该类金刚石膜 层表面形成若干纳米量级的凸起。 所述类金刚石膜层表面分布的纳米量级凸起,使所述被覆件具有较高的硬度的同 时还具有良好的疏水性。经液氮骤冷处理后的所述金属层与类金刚石膜层之间具有良好的 结合力,可避免类金刚石膜层发生剥落而失效。 【附图说明】 图1是本专利技术一较佳实施例被覆件的剖视图。 图2是本专利技术一较佳实施例的真空蒸镀机的示意图。 图3是本专利技术一较佳实施例的真空镀膜机的示意图。 主要元件符号说明

【技术保护点】
一种被覆件,包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层,其特征在于:该类金刚石膜层表面形成有若干纳米量级的凸起。

【技术特征摘要】
1. 一种被覆件,包括基体及形成在基体上的类金刚石膜层,其特征在于:该类金刚石 膜层表面形成有若干纳米量级的凸起。2. 如权利要求1所述的被覆件,其特征在于:该被覆件还包括形成在基体与类金刚石 膜层之间的金属层。3. 如权利要求2所述的被覆件,其特征在于:该金属层表面形成有若干纳米量级的凸 起。4. 如权利要求3所述的被覆件,其特征在于:该金属层为钨层。5. 如权利要求1、2或3所述的被覆件,其特征在于:该金属层的厚度为1~2μπι。6. 如权利要求1所述的被覆件,其特征在于:该类金刚石膜层的厚度为1~1. 5 μ m。7. 如权利要求1或6所述的被覆件,其特征在于:该类金刚石膜层由碳元素和氢元素 构成,其中,碳元素的质量百分含量为3(Γ40%,氢元素的质量百分含量为6(Γ70%。8. -种被覆件的制造方法,包括...

【专利技术属性】
技术研发人员:张春杰
申请(专利权)人:深圳富泰宏精密工业有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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