【技术实现步骤摘要】
本技术涉及河湖底泥污染修复
,更具体的说,是涉及一种能够准确反映底泥原位修复效果和监测水体环境条件变化的模拟试验系统。
技术介绍
现今我国水体污染状况比较严重,特别是对于那些流经城市中心区和工业区的河流,它们接收了大量的生活污水、工业废水以及地表径流携带的其他污染物。污染物进入水体后,经吸附、吸收、沉淀等作用逐渐沉积于底泥中,由于不断的累积,底泥中污染物的浓度通常比上覆水中的高出几倍。同时,污染物在底泥与上覆水之间保持着一种吸附与解吸的动态平衡,一旦外界环境条件发生改变,污染物质会从底泥中释放到上覆水。因此,底泥污染的研究和治理是解决水体污染问题的重要途径之一。目前,对底泥污染原位修复试验装置的研究不多,公开号为CN102092908A的我国专利披露了一种底泥污染物释放的模拟装置。该装置由贮存槽、缓冲槽和污染物释放槽三部分组成。可以用于研究pH值、温度、溶解氧等外界环境因素对底泥污染物释放的影响。公开号为CN 201681074 U的我国专利披露了一种用于水体底泥营养盐释放机理研究的柱形试验装置。但是这些现有技术中的装置和方法在试验过程中,会对整体的底泥和水样造成扰动,造成试验结果不准确。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种可实现无扰动分层连续采样,实时监测水样修复效果和环境条件变化,方便快捷,准确可靠的一种模拟底泥污染原位修复的试验系统。 ...
【技术保护点】
一种模拟底泥污染原位修复的试验系统,其特征在于,所述系统包括水槽、水质分析探头、计算机、光源和风扇,所述水槽底部设置有底泥,底泥的上部加入有水样,所述水槽侧壁设置有用于采集底泥样品的取样孔,所述水槽的上方及水槽上方的一侧分别设置光源和风扇,所述水质分析探头至少分为两组并分别放置于水样的深水区和浅水区,所述水质分析探头连接有计算机。
【技术特征摘要】
1.一种模拟底泥污染原位修复的试验系统,其特征在于,所述系统
包括水槽、水质分析探头、计算机、光源和风扇,所述水槽底部设置
有底泥,底泥的上部加入有水样,所述水槽侧壁设置有用于采集底泥
样品的取样孔,所述水槽的上方及水槽上方的一侧分别设置光源和风
扇,所述水质分析探头至少分为两组并分别放置于水样的深水区和浅
水区,所述水质分析探头连接有计算机。
2.根据权利要求1所述的一种模拟底泥污染原位修复的试验系统,
其特征在于,所述水质分析探头为多参数的水质分析探头。
3.根据权利要求1或2所述的一种模拟底泥污染原位修复的试验系
统,其特征在于,所述水质分析探头定时监测水样中温度、酸碱度、
氧化还原电位、溶解氧和盐度。
4.根据权利要求1所述的一种模拟底泥污染原位修复的试验系统,
其特征在于,...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵林,胡保安,宋伟男,王苗苗,毛国柱,宋文杰,
申请(专利权)人:天津大学,
类型:新型
国别省市:天津;12
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