氦气分离材料及其制造方法技术

本发明专利技术的氦气分离材料包含基部和与基部接合的气体分离部。基部由连通孔的平均直径为50nm～1000nm的α-氧化铝多孔质体构成，气体分离部具有含Ni元素的γ-氧化铝多孔质部和配置于该多孔质部中的连通孔内壁的二氧化硅膜部，由该二氧化硅膜部包围形成的细孔的平均直径为0.27nm～0.60nm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在温度为0℃～300℃、表压超过0.1MPa的条件下的氦气透过性及耐热性优异的氦气分离材料及其制造方法。本申请基于2012年7月3日于日本申请的日本特愿2012-149846号主张优先权，在此引用其内容。
技术介绍
近年来，研究了从含有分子直径小的氦气的混合气体中将氦气选择性分离的材料(分离膜)及其方法。作为氦气分离材料，已知由高分子构成的分离膜，专利文献1中公开了由含有银或铜的碳膜构成的气体分离膜。专利文献2中公开了对由具有特定结构的聚醚共聚物和四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷等多官能烷氧基硅烷构成的组合物进行水解及缩聚而获得的高分子型气体分离膜。另外，专利文献3中公开了含有具有连通孔的α-氧化铝基体、将α-氧化铝基体的表面覆盖的二氧化硅膜、和内接于二氧化硅膜表面的连通孔内的碳化硅膜的氦气分离材料。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2003-53167号公报专利文献2：日本特开2005-74317号公报<br>专利文献3：日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氦气分离材料，其特征在于，其包含基部和与基部接合的气体分离部，所述基部由连通孔的平均直径为50nm～1000nm的α‑氧化铝多孔质体构成，所述气体分离部具有含Ni元素的γ‑氧化铝多孔质部和配置于所述含Ni元素的γ‑氧化铝多孔质部中的连通孔内壁的二氧化硅膜部，由所述二氧化硅膜部包围形成的细孔的平均直径为0.27nm～0.60nm。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.07.03 JP 2012-1498461.一种氦气分离材料，其特征在于，其包含基部和与基部接合的气体
分离部，所述基部由连通孔的平均直径为50nm～1000nm的α-氧化铝多孔
质体构成，所述气体分离部具有含Ni元素的γ-氧化铝多孔质部和配置于所
述含Ni元素的γ-氧化铝多孔质部中的连通孔内壁的二氧化硅膜部，由所述
二氧化硅膜部包围形成的细孔的平均直径为0.27nm～0.60nm。
2.根据权利要求1所述的氦气分离材料，其在表压超过0.1MPa且
12MPa以下的范围的压力条件下使用。
3.根据权利要求1或2所述的氦气分离材料，其中，所述二氧化硅膜
部配置于所述γ-氧化铝多孔质部的连通孔内壁上的所述气体分离部的露出
面一侧。
4.权利要求1～3中任一项所述的氦气分离材料的制造方法，其具备以
下工序：
使用含有含Al成分的溶胶和Ni化合物的组合物在所述α-氧化铝多孔
质体的表面上...

【专利技术属性】
技术研发人员：永野孝幸，佐藤功二，千叶一元，若月俊也，竹内祐介，
申请(专利权)人：石油资源开发株式会社，日本精细陶瓷中心，
类型：发明
国别省市：日本;JP