一种用于CMC设备清洗的洗涤池制造技术

本发明专利技术公开了一种用于CMC设备清洗的洗涤池，洗涤池为双轴洗涤池，包括池体和两个搅拌装置，搅拌装置分别以池体竖直中线为对称轴对称固定在池体两侧的内部，两个搅拌装置的搅拌轴均垂直与池体底部，相互平行；搅拌装置的搅拌轴的上端固定连接在池体上部，搅拌轴的下端连接在池体下部。本发明专利技术的洗涤池清洗效果好、安全可靠、操作方便的设备，能有效的除去CMC残留、水垢，提高清洗效率。降低流体在设备中的损失，降低能耗，同时延长设备的使用寿命，而且保证清洗过程中，设备不会受影响。采用倒圆锥的池体，有利于CMC物料的集中下滑，同时也方便清洗液的集中流出，更重要的是，池体采用卧式的形状格局，更有利于清洗的进行和扩大清洗空间。

【技术实现步骤摘要】
—种用于CMC设备清洗的洗涤池
本专利技术涉及一种用于CMC设备清洗的洗涤池，属于设备清洗装置领域。
技术介绍
羧甲基纤维素钠，(又称:羧甲基纤维素钠盐，羧甲基纤维素，CMC, Carboxymethyl,Cellulose Sodium, Sodium salt of Caboxy Methyl Cellulose)是当今世界上使用范围最广、用量最大的纤维素种类。 许多的用于处理CMC生产过程中的设备、设施(如输送装置、干燥装置、回收设备等)，长期运行后。都需要得到有效的清洗。清洗的目的是除去其系统中的污垢、腐蚀产物、微生物及其衍生物等，提高系统的工作效率。 如何研发一种清洗效果好、安全可靠、操作方便的设备，能有效的除去CMC残留、水垢，提高清洗效率，降低流体在设备中的损失，降低能耗，同时延长设备的使用寿命，而且保证清洗过程中，设备不会受影响。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种用于CMC设备清洗的洗涤池，清洗效果好、安全可靠、操作方便的设备，能有效的除去CMC残留、水垢，提高清洗效率。 本专利技术采用的技术方案为:一种用于CMC设备清洗的洗涤池，其创新点在于:所述洗涤池为双轴洗涤池，包括池体和两个搅拌装置，所述搅拌装置分别以池体竖直中线为对称轴对称固定在池体两侧的内部，两个搅拌装置的搅拌轴均垂直与池体底部，相互平行；所述搅拌装置的搅拌轴的上端固定连接在池体上部，搅拌轴的下端连接在池体下部。 进一步的，所述池体分为上中下三段，上段为平盖，平盖上面开设有进液口 ；中段为槽型桶体，下段呈一个倒圆锥形状，倒圆锥形状在推进式搅拌器的下端接触部位设置有凹槽，搅拌装置的下端设置在凹槽内，可旋转但不脱离，下段倒圆锥形状的中心位置还开设有出液口。 进一步的，所述搅拌装置包括设置有一个搅拌轴，搅拌轴上带有一对搅拌叶的推进式搅拌器和电动机，推进式搅拌器与电动机通过皮带连接；所述电动机固定连接在桶体侧面壁上，实现驱动推进式搅拌器的搅拌。 进一步的，所述池体中段槽型桶体的侧面还设有四个耳座，所述四个耳座在同一水平面并均匀分布在池体中段槽型桶体的外侧。 进一步的,所述进液口与出液口的个数为一个或多个。 进一步的,所述池体为卧式池体。 本专利技术的有益效果如下:(I)本专利技术的洗涤池清洗效果好、安全可靠、操作方便的设备，能有效的除去CMC残留、水垢，提高清洗效率。能降低流体在设备中的损失，降低能耗，同时延长设备的使用寿命，而且保证清洗过程中，设备不会受影响。 (2)本专利技术的洗涤池采用两个搅拌装置进行搅拌，将两个搅拌装置的搅拌轴均垂直与池体底部，相互平行；搅拌装置的搅拌轴的上端固定连接在池体上部，搅拌轴的下端连接在池体下部，这样的设置不仅提高了搅拌效果，而且不影响了清洗池的清洗空间，两个搅拌装置也不会相互妨碍，设计合理。 (3)本专利技术的洗涤池采用倒圆锥的池体，有利于CMC物料的集中下滑，便于收集CMC物料，同时也方便清洗液的集中流出，更重要的是，池体采用卧式的形状格局，更有利于清洗的进行和扩大清洗空间。 (4)本专利技术的洗涤池设置的耳座，便于使用人员可以握住耳座，以便对池体进行方便的移动，或者在耳座上可以寄上绳子进行固定作用。 【附图说明】 下面结合附图和【具体实施方式】对本专利技术做进一步详细说明。 图1为本专利技术的整体结构主视图。 图2为本专利技术的整体结构左视图。 图3为本专利技术的整体结构俯视图。 【具体实施方式】 如图1、3所示:本专利技术公开了一种用于CMC设备清洗的洗涤池，该洗涤池为双轴洗涤池，包括池体12和两个搅拌装置2，搅拌装置2分别以池体12竖直中线为对称轴对称固定在池体12两侧的内部，两个搅拌装置2均垂直与池体12底部，相互平行；搅拌装置2的上端固定连接在池体12上部，搅拌装置2的下端连接在池体12下部。本专利技术将两个搅拌装置的搅拌轴均垂直与池体底部，相互平行；搅拌装置的搅拌轴的上端固定连接在池体上部，搅拌轴的下端连接在池体下部，这样的设置不仅提高了搅拌效果，而且不影响了清洗池的清洗空间，两个搅拌装置也不会相互妨碍，设计合理。 具体的，如图1?3所示:池体12分为上中下三段，上段为平盖9，平盖9上面开设有进液口 3 ;中段10为槽型桶体，下段11呈一个倒圆锥形状，倒圆锥形状在搅拌装置2的下端接触部位设置有凹槽13，搅拌装置2的下端设置在凹槽13内，可旋转但不脱离，下段11倒圆锥形状的中心位置还开设有出液口 7，进液口 7个数为三个，出液口 3的个数为一个。本专利技术采用倒圆锥的池体，有利于CMC物料的集中下滑，便于收集CMC物料，同时也方便清洗液的集中流出，更重要的是，池体采用卧式的形状格局，更有利于清洗的进行和扩大清洗空间。 具体的，如图1所示:搅拌装置2包括设置有一个搅拌轴6，搅拌轴6上带有一对搅拌叶5的推进式搅拌器和电动机I，推进式搅拌器与电动机I通过皮带8连接；电动机I固定连接在池体12的上段9侧面壁上，实现驱动推进式搅拌器的搅拌。 为了便于使用人员可以便对池体12进行方便的移动，或者在耳座4上可以寄上绳子进行固定作用，如图1、2所示:池体12中段10槽型桶体的侧面还设有四个耳座4，所述四个耳座4在同一水平面并均匀分布在池体12中段10槽型桶体的外侧。 为了更有利于清洗的进行和扩大清洗空间，本专利技术的池体采用卧式的形状格局， 使用方法:如图1?3所示，将带有CMC物料的设备放在洗涤池池体12中，从进液口3中放入适量清洗液，开启搅拌装置2的电动机1，可以根据实际情况开启一个搅拌装置2或者两个搅拌装置2同时开启，搅拌一段时间后，关闭电动机1，停止搅拌，设备清洗干净符合规定的条件下，可以打开出液口 7进行清洗液的释放，也可以根据需要，重复搅拌一段时间。如有需要，也可以握住耳座4，进行清洗池位置的调节。 以上所述是本专利技术的优选实施方式，不能以此来限定本专利技术之权利范围。应当指出，对于本
的普通技术人员来说，对本专利技术的技术方案进行修改或者等同替换，都不脱离本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于CMC设备清洗的洗涤池，其特征在于：所述洗涤池为双轴洗涤池，包括池体和两个搅拌装置，所述搅拌装置分别以池体竖直中线为对称轴对称固定在池体两侧的内部，两个搅拌装置均垂直于池体底部，相互平行；所述搅拌装置的上端固定连接在池体上部，搅拌装置的下端连接在池体下部。

【技术特征摘要】
1.一种用于CMC设备清洗的洗涤池，其特征在于:所述洗涤池为双轴洗涤池，包括池体和两个搅拌装置，所述搅拌装置分别以池体竖直中线为对称轴对称固定在池体两侧的内部，两个搅拌装置均垂直于池体底部，相互平行；所述搅拌装置的上端固定连接在池体上部，搅拌装置的下端连接在池体下部。2.根据权利要求1所述的用于CMC设备清洗的洗涤池，其特征在于:所述池体分为上中下三段，上段为平盖，平盖上面开设有进液口 ；中段为槽型桶体，下段呈一个倒圆锥形状，倒圆锥形状在推进式搅拌器的下端接触部位设置有凹槽，搅拌装置的下端设置在凹槽内，可旋转但不脱离，下段倒圆锥形状的中心位置还开设有出液口。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王均炎，
申请(专利权)人：南通密炼捏合机械有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32