一种液刀清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种液刀清洗装置，以提高基板的均一性，进而提高产品品质。液刀清洗装置包括：固定于清洗腔室侧壁的防溅罩；液刀，位于防溅罩的下方；斜挡板，位于防溅罩和液刀之间，斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接，斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。斜挡板可将液刀和传送滚轮上的基板与大部分水汽隔离，滴落在斜挡板上的液滴可沿斜挡板的斜面流下，而不会滴落在液刀尚未冲洗的基板上。相比于现有技术，本方案可大大减少液滴对基板均一性的影响，从而提高了产品品质。

【技术实现步骤摘要】
一种液刀清洗装置
本专利技术涉及显示面板制造
，特别是涉及一种液刀清洗装置。
技术介绍
在平板显示装置中，TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器，简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。随着玻璃基板的尺寸大型化，为保证产品的合格率，每一步制造工艺都面临着更大的挑战。湿法刻蚀是显示面板制造过程中的重要一环，其利用刻蚀液刻蚀掉基板表面未覆盖光刻胶的金属区域，从而形成具有一定图案的金属层。如图1所示，湿法刻蚀后对基板进行清洗的设备包括液刀清洗装置100和喷淋装置200。在液刀清洗装置100中，液刀14的刀口为线状，可喷射出均匀的去离子水幕，从而对传送滚轮10上的基板13进行快速冲洗，去掉基板13上残留的刻蚀液。喷淋装置200设置在液刀清洗装置100的下游，包含多个喷头201，喷头201喷洒出的去离子水可对传送滚轮10上的基板进行淋洗，从而将基板进一步清洗干净。如图1所示，现有的液刀清洗装置100主要包括：支撑板24、L形防溅罩11和液刀14本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液刀清洗装置，其特征在于，包括：防溅罩，固定于清洗腔室的侧壁；液刀，位于防溅罩的下方；斜挡板，位于防溅罩和液刀之间，所述斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接，所述斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。

【技术特征摘要】
1.一种液刀清洗装置，其特征在于，包括：防溅罩，固定于清洗腔室的侧壁；液刀，位于防溅罩的下方；斜挡板，位于防溅罩和液刀之间，所述斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接，所述斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。2.如权利要求1所述的液刀清洗装置，其特征在于，所述斜挡板包括至少两节平板单元；相邻两节平板单元的上表面交汇处设置有竖挡板，所述竖挡板与较高一节的平板单元形成第一导流槽。3.如权利要求1所述的液刀清洗装置，其特征在于，所述斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁之间具有第一密封垫。4.如权利要求1所述的液刀清洗装置，其特征在于，所述斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部之间具有第二密封垫，所述斜挡板、第二密封垫和液刀的刀口顶部之间形成第二导流...

【专利技术属性】
技术研发人员：李登涛，郑载润，王世凯，金童燮，许亚东，梁渲祺，王华东，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34