阵列基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的导电金属图形，所述阵列基板还包括：彩色滤光层；能够遮挡所述导电金属图形的黑矩阵。本发明专利技术的技术方案能够降低阵列基板与彩膜基板对位偏差对显示面板透过率的影响。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，特别是指一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示器现已广泛的应用于各个显示领域，如家庭、公共场所、办公场所以及个人电子相关产品等，目前液晶显示面板的制作工艺是分别制作阵列基板和彩膜基板，在阵列基板和彩膜基板分别制作完成后再进行对位、成盒。图1是现有彩膜基板的结构示意图，彩膜基板主要包括衬底基板1、彩色滤光单元2、黑矩阵3、取向层4和隔垫物5。另外还有将彩色滤光单元做到阵列基板上的COA技术，图2为现有采用COA技术的TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)模式的阵列基板的结构示意图，该阵列基板主要包括衬底基板6、栅电极7、栅绝缘层8、有源层9、源电极10、漏电极11、彩色滤光单元12、钝化层13及像素电极14。在阵列基板与彩膜基板对位成盒时，由于对位精度的限制，很容易出现因为对位偏差而导致的漏光等不良。为了避免漏光，彩膜基板上的黑矩阵(Black Matrix，BM)要做的足够宽，但是这样将会损失显示面板的透过率，增加背光的成本，并且导致彩膜基板具有较大的段差。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，能够降低阵列基板与彩膜基板对位偏差对显示面板透过率的影响。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种阵列基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的导电金属图形，所述阵列基板还包括：彩色滤光层；能够遮挡所述导电金属图形的黑矩阵。进一步地，所述导电图形包括栅电极和栅线，所述彩色滤光层为覆盖所述栅电极和栅线的栅绝缘层。进一步地，所述导电图形包括源电极、漏电极和数据线，所述彩色滤光层为覆盖所述源电极、漏电极和数据线的钝化层。进一步地，所述黑矩阵位于所述彩色滤光层上。进一步地，所述导电图形包括源电极、漏电极和数据线，所述彩色滤光层和所述黑矩阵组成覆盖所述源电极、漏电极和数据线的钝化层。进一步地，所述阵列基板还包括：形成在所述黑矩阵上的隔垫物。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括上述的阵列基板。本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成导电金属图形，所述制作方法还包括：形成彩色滤光层；形成能够遮挡所述导电金属图形的黑矩阵。进一步地，形成所述导电金属图形包括：形成栅电极和栅线；形成所述彩色滤光层具体为：形成覆盖所述栅电极和栅线的栅绝缘层，所述栅绝缘层采用彩色滤光材料。进一步地，形成所述导电金属图形包括：形成源电极、漏电极和数据线；形成所述彩色滤光层具体为：形成覆盖所述源电极、漏电极和数据线的钝化层，所述钝化层采用彩色滤光材料。进一步地，形成所述黑矩阵具体为：在所述彩色滤光层上形成所述黑矩阵。进一步地，形成所述导电金属图形包括：形成源电极、漏电极和数据线；形成所述彩色滤光层和所述黑矩阵包括：形成覆盖所述源电极、漏电极和数据线的钝化层，所述钝化层的部分为所述黑矩阵，所述钝化层的其他部分采用彩色滤光材料。进一步地，所述方法还包括：在所述黑矩阵上形成隔垫物。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，将黑矩阵和彩色滤光层都形成在阵列基板上，这样在阵列基板与彩膜基板对位成盒时，不管是否出现对位偏差，阵列基板上的黑矩阵都能够遮挡住漏光处，阵列基板上的黑矩阵不必设置的过宽，从而可以降低阵列基板与彩膜基板对位偏差对显示面板透过率的影响；另外，相比于现有的采用COA技术的显示装置，不需要在彩膜基板上形成黑矩阵，降低了彩膜基板上的段差；此外，彩色滤光层还可以充当阵列基板上的绝缘层，能够减少制作阵列基板所需构图工艺的次数，缩短阵列基板的制作时间，降低阵列基板的制作成本。附图说明图1为现有彩膜基板的结构示意图；图2为现有将彩色滤光单元形成在阵列基板上的示意图；图3为本专利技术实施例阵列基板的结构示意图；图4为本专利技术另一实施例阵列基板的结构示意图。附图标记1、6 基板 2、12 彩色滤光单元 3、15 黑矩阵 4 取向层5 隔垫物 7 栅电极 8 栅绝缘层 9 有源层 10 源电极11 漏电极 13 钝化层 14 像素电极具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，能够降低阵列基板与彩膜基板对位偏差对显示面板透过率的影响。本专利技术实施例提供了一种阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的导电金属图形，所述阵列基板还包括：彩色滤光层；能够遮挡所述导电金属图形的黑矩阵。本实施例将黑矩阵和彩色滤光层都形成在阵列基板上，这样在阵列基板与彩膜基板对位成盒时，不管是否出现对位偏差，阵列基板上的黑矩阵都能够遮挡住漏光处，阵列基板上的黑矩阵不必设置的过宽，从而可以降低阵列基板与彩膜基板对位偏差对显示面板透过率的影响；另外，相比于现有的采用COA技术的显示装置，不需要在彩膜基板上形成黑矩阵，降低了彩膜基板上的段差；此外，彩色滤光层还可以充当阵列基板上的绝缘层，能够减少制作阵列基板所需构图工艺的次数，缩短阵列基板的制作时间，降低阵列基板的制作成本。进一步地，本专利技术的另一实施例中，包括上述结构的基础上，所述导电图形包括栅电极和栅线，所述彩色滤光层为覆盖所述栅电极和栅线的栅绝缘层。进一步地，本专利技术的另一实施例中，包括上述结构的基础上，所述导电图形包括源电极、漏电极和数据线，所述彩色滤光层为覆盖所述源电极、漏电极和数据线的钝化层。进一步地，本专利技术的另一实施例中，包括上述结构的基础上，所述黑矩阵位于所述彩色滤光层上。进一步地，本专利技术的另一实施例中，包括上述结构的基础上，所述导电图形包括源电极、漏电极和数据线，所述彩色滤光层和所述黑矩阵组成覆盖所述源电极、漏电极和数据线的钝化层。进一步地，本专利技术的另一实施例中，包括上述结构的基础上，所述阵列基板还包括：形成在所述黑矩阵上的隔垫物。本实施例的阵列基板可以为TN模式的阵列基板，一实施例中，TN模式的阵列基板具体包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的栅电极和栅线；位于形成有所述栅电极和栅线的衬底基板上的栅绝缘层，该栅绝缘层采用彩色滤光材料制成；位于所述栅绝缘层上的有源层；位于形成有所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的导电金属图形，其特征在于，所述阵列基板还包括：彩色滤光层；能够遮挡所述导电金属图形的黑矩阵。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的导电金属
图形，其特征在于，所述阵列基板还包括：
彩色滤光层；
能够遮挡所述导电金属图形的黑矩阵。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导电图形包括栅
电极和栅线，所述彩色滤光层为覆盖所述栅电极和栅线的栅绝缘层。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导电图形包括源
电极、漏电极和数据线，所述彩色滤光层为覆盖所述源电极、漏电极和数据线
的钝化层。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述黑矩阵位于所述
彩色滤光层上。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导电图形包括源
电极、漏电极和数据线，所述彩色滤光层和所述黑矩阵组成覆盖所述源电极、
漏电极和数据线的钝化层。
6.根据权利要求4或5所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还
包括：形成在所述黑矩阵上的隔垫物。
7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一项所述的阵
列基板。
8.一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成导电金属图形，其
特征在于，所述制作方法还包括：
形成彩色滤光层；
形成能够遮挡...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷晓芳，王国磊，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34