本发明专利技术的液浸构件(5)，是在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)，使得从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满。液浸构件具备配置在光学构件周围至少一部分的第1构件(21)与能在第1构件的至少一部分的外侧移动、具有回收液浸空间的液体的至少一部分的回收口(24)的第2构件(22)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术的液浸构件(5)，是在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)，使得从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满。液浸构件具备配置在光学构件周围至少一部分的第1构件(21)与能在第1构件的至少一部分的外侧移动、具有回收液浸空间的液体的至少一部分的回收口(24)的第2构件(22)。【专利说明】液浸构件及曝光装置
技术介绍
本专利技术是关于液浸构件、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、程序、及记录媒体。 本申请案主张2012年4月10日申请的美国专利暂时申请61/622，235及2013年3月11日申请的美国专利申请第13/793，667号的优先权，并将其内容援用于此。 在光刻制造工艺所使用的曝光装置中，已知一种通过液体以曝光用光使基板曝光的液浸曝光装置，例如下述的美国专利第7，864，292号。
技术实现思路
液浸曝光装置中，例如当液体从既定空间流出、或残留在基板等物体上时，即有可能发生曝光不良的情形。其结果，有可能产生不良元件。 本专利技术的态样，其目的在提供一种能抑制曝光不良的发生的液浸构件、曝光装置及曝光方法。此外，本专利技术的态样，其目的在提供一种能抑制不良元件的产生的元件制造方法、程序及记录媒体。 本专利技术第I态样，提供一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备:第I构件，配置在该光学构件周围的至少一部分；以及第2构件，能与该第I构件隔着间隙在该第I构件的下方移动，具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。 本专利技术第2态样，提供一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备:第I构件，配置在该光学构件周围的至少一部分；以及第2构件，能相对该曝光用光的该光路在该第I构件的至少一部分的外侧移动，具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收□。 本专利技术第3态样，提供一种曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光，其具备第I态样的液浸构件。 本专利技术第4态样，提供一种元件制造方法，包含:使用第I至3态样中的任一态样的曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的该基板显影的动作。 本专利技术第5态样，提供一种曝光方法，是通过液体以曝光用光使基板曝光，包含:形成从光学构件的射出面射出的该曝光用光的光路被该液体充满的液浸空间的动作；通过该液浸空间的液体以从该射出面射出的该曝光用光使该基板曝光的动作；以及移动第2构件的动作，该第2构件是与配置在该光学构件周围的至少一部分的第I构件隔着间隙配置在该第I构件下方、具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。 本专利技术第6态样,提供一种兀件制造方法,包含:使用第5态样的曝光方法使基板曝光的动作，以及使曝光后基板显影的动作。 本专利技术第7态样，提供一种程序，是使电脑实施通过液体以曝光用光使基板曝光的曝光装置的控制，包含:形成从光学构件的射出面射出的该曝光用光的光路被该液体充满的液浸空间的动作；通过该液浸空间的液体以从该射出面射出的该曝光用光使该基板曝光的动作；以及移动第2构件的动作，该第2构件是与配置在该光学构件周围的至少一部分的第I构件隔着间隙配置在该第I构件下方、具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。 本专利技术第8态样，提供一种电脑可读取的记录媒体，其记录有第7态样的程序。 根据本专利技术的态样，能抑制曝光不良的发生。此外，根据本专利技术的态样，能抑制不良元件的产生。 【专利附图】【附图说明】 图1显示第I实施形态的曝光装置的一例的图。 图2显示第I实施形态的液浸构件的一例的侧视剖面图。 图3从下方观察第I实施形态的液浸构件的图。 图4显示第I实施形态的液浸构件的一部分的侧视剖面图。 图5显示第I实施形态的液浸构件的一动作例的图。 图6显示第I实施形态的液浸构件的一动作例的图。 图7是用以说明第I实施形态的曝光装置的一动作例的图。 图8是用以说明第I实施形态的曝光装置的一动作例的示意图。 图9是用以说明第I实施形态的液浸构件的一动作例的示意图。 图10是用以说明第I实施形态的液浸构件的一动作例的示意图。 图11是用以说明速度剖线(speed profile)的一例的图。 图12是用以说明速度剖线的一例的图。 图13是用以说明第I实施形态的曝光装置的一动作例的示意图。 图14显示第2实施形态的液浸构件的一例的侧视剖面图。 图15显示第3实施形态的液浸构件的一例的侧视剖面图。 图16是从下方观察第4实施形态的液浸构件的图。 图17是从下方观察第5实施形态的液浸构件的图。 图18显示基板载台的一例的图。 图19是用以说明元件制造方法的一例的流程图。 符号说明: 2:基板载台 3:测量载台 5:液浸构件 6:控制装置 7:存储装置 12:射出面 13:终端光学元件 21:第 I 构件 2IB:下面 21C:内面 2ID:外面 21G:导引面 2IH:开口 22:第 2 构件 22A:移动面 22B:下面 22C:内面 22D:外面 23:供应口 24:回收口 25:多孔构件 30:抑制部 31:膜 32:供气部 33:供气口 34:排气口 40:驱动系统 EL:曝光用光 EX:曝光装置 IL:照明系统 K:光路 LQ:液体 LS:液浸空间 P:基板 【具体实施方式】 以下，一边参照图示一边说明本专利技术的实施形态，但本专利技术并不限定于此。以下的说明中，设定一 XYZ正交坐标系统，一边参照此XYZ正交坐标系统一边说明各部的位置关系。并设水平面内的既定方向为X轴方向、于水平面内与X轴方向正交的方向为Y轴方向、分别与X轴方向及Y轴方向正交的方向(亦即铅直方向)为Z轴方向。此外，设绕X轴、Y轴及z轴旋转(倾斜)方向分别为θ X、Θ Y及Θ Z方向。 〈第I实施形态〉 首先，说明第I实施形态。图1显示第I实施形态的曝光装置EX的一例的概略构成图。本实施形态的曝光装置EX是通过液体LQ以曝光用光EL使基板P曝光的液浸曝光装置。于本实施形态，形成有将曝光用光EL的光路以液体LQ加以充满的液浸空间LS。液浸空间是被液体充满的部分(空间、区域)。基板P是通过液浸空间LS的液体LQ以曝光用光EL加以曝光。本实施形态中，液体LQ是使用水(纯水)。 又，本实施形态的曝光装置EX，例如美国专利第6，897，963号说明书、欧洲专利公开第1，713，113号说明书等所揭示的具备基板载台与测量载台的曝光装置。 图1中，曝光装置EX，具备:可保持掩膜M移动的掩膜载台1、可保持基板P移动的基板载台2、不保持基板P而可搭载测量曝光用光EL的测量构件及测量器移动的测量载台3、测量基板载台2及测量载台3的位置的测量系统4、以曝光用光EL照明掩膜M的照明系统IL、将经曝光用光EL照明的掩膜M的图案的像投影至基板P的投影光学系统PL、形成液浸空间LS的液浸构件5、控制曝光装置EX全体的动作的控制装置6、以及连接于控制装置6用以存储与曝光相关的各种信息本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分；以及第2构件，能与该第1构件隔着间隙在该第1构件的下方移动，具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎祐一，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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