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一种电化学水垢去除装置制造方法及图纸

技术编号:10930750 阅读:118 留言:0更新日期:2015-01-21 11:57
本申请提供了一种电化学水垢去除装置,包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元,所述水垢晶核生成单元包括槽体;所述槽体的底部设有进水口和排污口;设置于所述槽体的内部的隔膜;所述隔膜将槽体分为阴极室和阳极室;设置于所述槽体的内部的阳极;设置于所述阴极室内部的阴极和辅助电极;所述槽体的顶端设有阴极液出水口和阳极液出水口。随着电化学的进行,隔膜表面上会沉积水垢,水垢阻碍了离子通过隔膜的迁移,增加了电阻,降低了电流效率,需要对隔膜进行再生。本申请将阴极室排空,向阴极室中导入阳极液,然后接通作为阳极的辅助电极,阳极液在辅助电极附近产生氯气和盐酸,从而将隔膜表面的水垢清洗干净,隔膜得到原位再生。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种电化学水垢去除装置,包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元,所述晶核生成单元包括槽体;所述槽体的底部设有进水口和排污口;设置于所述槽体内部的隔膜,所述隔膜将槽体分为阳极室和阴极室;设置于所述阳极室内部的阳极;设置于所述阴极室内部的阴极和辅助电极;所述槽体的顶端设有阴极液出水口和阳极液出水口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:章明歅章俊杰
申请(专利权)人:章明歅章俊杰
类型:发明
国别省市:北京;11

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