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本申请提供了一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元，所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；设置于所述槽体的内部的隔膜；所述隔膜将槽体分为阴极室和阳极室；设置于所述槽体的内部的阳极；设置于所述...
该专利属于章明歅;章俊杰所有，仅供学习研究参考，未经过章明歅;章俊杰授权不得商用。

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