本发明专利技术提供了一种显示用基板、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有技术中的显示装置难以满足超薄化和低成本的问题。一种显示用基板，包括衬底，所述衬底包括相对的上表面和下表面，所述衬底的下表面形成有散射微结构，所述衬底的上表面形成有显示用层结构。用于显示用基板、包含该显示用基板的显示面板和显示装置。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种显示用基板、显示面板及显示装置，涉及显示
，解决了现有技术中的显示装置难以满足超薄化和低成本的问题。一种显示用基板，包括衬底，所述衬底包括相对的上表面和下表面，所述衬底的下表面形成有散射微结构，所述衬底的上表面形成有显示用层结构。用于显示用基板、包含该显示用基板的显示面板和显示装置。【专利说明】—种显示用基板、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示用基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
目前，LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)已经广泛应用于社会生活中。众所周知，液晶不具有发光特性，故LCD需要背光源才能实现显示。目前，侧入式背光源已占据中小尺寸的主流市场。 侧入式背光源一般包括导光板和发光体,其中，发光体设置在导光板的侧面。由于发光体一般为线光源例如CCFL(Cold Cathode Fluorescent Light，冷阴极荧光灯)或者点光源例如LED (Light-Emitting D1de，发光二极管)，则导光板主要用于将线光源或者点光源转换为面光源，以提高背光源的发光均匀性进而提高显示装置的显示效果。 具体的，如图1所示，显示装置主要包括上基板10、下基板20、位于上基板10和下基板20之间的液晶30、以及位于下基板20下方的背光源40，其中，在上基板10的上方设置有上偏光片101，在下基板20的下方设置有下偏光片201，背光源40包括导光板401、以及设置在导光板401的侧面上的发光二极管402。发光二极管402发出的光从导光板401的侧面进入导光板401之后，经过多次反射转换成面光源从导光板401的上表面射出，照射在下基板20上。 在上述显示装置中，导光板相对较厚且造价不菲。而随着空间资源的愈加紧张、商家对生产成本的严格控制、以及用户对于便携性的苛刻要求，该显示装置已经难以满足超薄化和低成本的要求。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种显示用基板、显示面板及显示装置，解决了现有技术中的显示装置难以满足超薄化和低成本的问题。 为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案: 一方面，本专利技术实施例提供了一种显示用基板，该显示用基板包括衬底，所述衬底包括相对的上表面和下表面，所述衬底的下表面形成有散射微结构，所述衬底的上表面形成有显示用层结构。 另一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括对盒的上基板和下基板，所述下基板为包括上述任一项所述的显示用基板，所述显示用基板衬底的上表面靠近所述上基板，且所述显示用层结构包括偏光层。 再一方面，本专利技术实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括发光体以及本专利技术实施例提供的任一所述的显示面板，其中，所述发光体位于所述衬底的侧面或位于所述衬底的下面。 本专利技术实施例提供了一种显示用基板、显示面板及显示装置，所述显示装置包括发光体以及本专利技术实施例提供的显示用基板，通过在所述显示用基板的衬底的下表面形成有散射微结构，从而使发光体进入到衬底内部的光发生散射，形成面光源从衬底的上表面射出进入到偏光层，这样，所述显示装置无需设置导光板，相比于现有技术减少了显示装置的厚度且降低了生产成本。 【专利附图】【附图说明】 为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 图1为现有技术提供的一种显示装置结构示意图； 图2为本专利技术实施例提供的一种显示用基板结构示意图； 图3为图2中散射微结构是凸起的示意图； 图4为图2中散射微结构是凹槽的示意图； 图5为图2中散射微结构是凸起和凹槽的示意图； 图6为不同顶角的圆锥形凹槽的光通量数值图； 图7为本专利技术实施例提供的一种显示装置结构示意图； 图8为本专利技术实施例提供的另一种显示装置结构示意图。 附图标记: 10-上基板；101-上偏光片；20_下基板；201_下偏光片；200_衬底；202_上表面；203-下表面；204_偏光层；205_散射微结构；206_凸起；207_凹槽；208_阵列层；209_绝缘层；210-发光体；211-反射层；30_液晶；40_背光源；401_导光板；402_发光二极管。 【具体实施方式】 下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。 需要说明的是，本专利技术实施例中所述“上”、“下”以光线传播的方向为依据，光线先通过的层结构或薄膜即在下，后通过的层结构或薄膜即在上。 本专利技术实施例提供了一种显示用基板，如图2所示，该显示用基板包括衬底200，衬底200包括相对的上表面202和下表面203，衬底200的下表面203形成有散射微结构205，衬底200的上表面202形成有显示用层结构，例如可以是图2所示的偏光层204、阵列层208等层结构。 需要说明的是，该显示用基板可以作为显示面板的阵列基板，也可以作为显示面板的彩膜基板，这里具体不作限定。当显示用基板为阵列基板则对应的显示用层结构可以是包括偏光层、薄膜晶体管、像素电极层等薄膜层结构；当显示用基板为彩膜基板则对应的显示用层结构可以是包括彩色膜层以及黑矩阵等层结构。 该显示用基板通过在衬底的下表面形成有散射微结构，使得从衬底的下表面或侧面进入的光线射到散射微结构后发生散射形成面光源，并从上表面射出，射出的光线亮度更加均匀。 进一步的，散射微结构为凸起和/或凹槽，具体的，如图3所示，该显示用基板的散射微结构可以是凸起206 ;或者如图4所示，散射微结构也可以是凹槽207 ;或者如图5所示，散射微结构还可以是凸起206和凹槽207。需要说明的是，凸起或凹槽可以是纳米级，也可以是毫米级，纳米级的凸起或凹槽相比毫米级的，散射更加均匀。 其中，若散射微结构为纳米级凹槽，则该散射微结构可以采用纳米刻蚀的方法，即利用刻蚀液刻蚀形成纳米级凹槽；若散射微结构为纳米级凸起，则可以在衬底的下表面直接印刷纳米级颗粒形成凸起。 进一步优选的，为了更好的提高散射微结构的散射能力，在散射微结构为凹槽的情况下，凹槽内可以填充有与衬底折射率不同的其他材料。在散射微结构为凸起的情况下，凸起的折射率与衬底可以相同，也可以不同，这里不作具体限定。 进一步可选的，为了降低加工难度，上述凸起或凹槽可以是半球形，或是圆锥形。 更进一步优选的，在凸起或凹槽是圆锥形的情况下，圆锥的顶角取值范围为90° -132°。对于90° -132°顶角范围内的圆锥形凸起或凹槽，光线经过凸起或凹槽反射后直接从衬底的上表面射出而不再发生反射；对于其他角度的圆锥形凸起或凹槽，光线经过凸起或凹槽反射后射向上表面时，会有部分光线发生全反射后再次回到衬底中，当这些光线射向衬底的侧面时有可能会直接射出，造成光能的损失。 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示用基板，包括衬底，所述衬底包括相对的上表面和下表面，其特征在于，所述衬底的下表面形成有散射微结构，所述衬底的上表面形成有显示用层结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：武延兵，王东升，董友梅，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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