【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，无需进行曝光后加热而进行显影，从而获得固化膜。【专利说明】负型感光性硅氧烷组合物
本专利技术涉及负型感光性硅氧烷组合物。另外，本专利技术也涉及使用了该负型感光性 硅氧烷组合物的固化膜的制造方法、由该负型感光性硅氧烷组合物形成的固化膜、以及具 有该固化膜的元件。
技术介绍
近年来，在显示器、发光二极管、太阳能电池等的光学元件方面，以提高光利用效 率和/或节能为目的而提出了各种各样的提案。例如，在液晶显示器方面已知有如下方法： 将透明的平整化膜覆盖形成于薄膜晶体管（以下有时会称为TFT)元件上，在该平整化膜上 形成像素电极，从而提高显示装置的开口率（参照专利文献1)。在有机电场发光元件（以 下有时会称为有机EL元件）的构成方面，也提出了如下的方法：通过由在形成于基板上的 透明像素电极上蒸镀形成发光层并且从基板侧将发...
【技术保护点】
一种负型感光性硅氧烷组合物，其特征在于包含：聚硅氧烷、具有脲基键的含硅的化合物、聚合引发剂、以及溶剂。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：横山大志，能谷敦子，田代裕治，吉田尚史，田中泰明，福家崇司，高桥惠，谷口克人，野中敏章，
申请(专利权)人：AZ电子材料卢森堡有限公司，
类型：发明
国别省市：卢森堡;LU
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。