相移板的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种相移板的制造方法，该相移板具有形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案，该方法包括：在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序；准备具有取向图案的相移掩模的工序，该取向图案形成有与相移板的取向图案的多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域；向相移掩模照射椭圆偏光，从而使从相移掩模射出的偏光照射光取向层，由此使光取向层取向的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相移板的制造方法
本专利技术涉及一种相移板(phase-shiftplate)的制造方法。
技术介绍
已知一种形成光学部件的技术，该技术是对形成有取向方向不同的多个区域的掩模照射直线偏光，从而形成具有取向图案的光学部件的技术，所述取向图案具有取向方向彼此不同的多个区域(例如，参照专利文献1)。专利文献1：日本专利公开平成9-33914号公报
技术实现思路
(一)要解决的技术问题然而，在掩模的多个区域中，根据所照射的直线偏光的偏光方向与区域的取向方向之间的角度，使区域的退化程度会有所不同。由此，会造成在光学部件的多个区域间，取向的散乱程度不规则的问题。(二)技术方案在本专利技术的第一方式中提供一种相移板的制造方法，该相移板具有形成有在彼此不同方向上取向的光轴的多个区域的取向图案，该方法包括：在基材的一面上配置能够由光进行取向的未取向的光取向层的工序；准备具有取向图案的相移掩模的工序，该取向图案上形成有与相移板的取向图案的多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域；及向相移掩模照射椭圆偏光，使从相移掩模射出的偏光照射光取向层，从而将光取向层取向的工序。在本专利技术的第二方式中提供一种相移板的制造方法，该相移板上重复出现形成有在彼此不同方向上取向的光轴的多个区域的取向图案，该方法包括：在基材的一面上配置能够由光进行取向的未取向的光取向层的工序；准备使多个具有取向图案的相移板并排排列的相移掩模的工序，该取向图案上形成有与相移板的取向图案的多个区域的至少一部分相对应的多个区域；向相移掩模照射偏光，使从相移掩模射出的偏光照射光取向层，从而将光取向层取向的工序。另外，上述
技术实现思路
并未列举出本专利技术的全部必要特征，特征组的子组合也有可能构成专利技术。附图说明图1为由本实施方式制造的相移板100的整体平面图。图2为沿图1的II-II线的纵截面图。图3为本实施方式的相移板制造装置10的整体结构图。图4为曝光部18的整体立体图。图5为相移掩模38的纵截面图。图6为说明使用相移掩模38的掩模板58而进行薄膜90的曝光的立体图。图7为表示掩模板58的退化与累计照射能量之间关系的图。图8为表示掩模板58的退化与累计照射能量之间关系的图。图9为相移掩模39的截面图。图10为表示形成了保护膜64的掩模板58的退化与累计照射能量之间关系的图。图11为说明使用变更的相移掩模338进行取向而得的相移板300的取向图案306的平面图。图12为相移掩模338的掩模部件370及掩模部件372的纵截面图。图13为表示相移掩模338的分解立体图与薄膜90的关系的图。图14为变更的相移掩模438的平面图。图15为变更了掩模部件370、372的实施方式的说明图。具体实施方式以下通过专利技术实施方式对本专利技术进行说明，但以下实施方式并非对权利要求书所涉及的专利技术进行限定。并且，实施方式中说明的特征的全部组合对于本专利技术的解决方案来说也不一定是必需的。图1为根据本实施方式的制造方法制造的相移板100的整体平面图。将图1中箭头所示的垂直及水平作为相移板100的垂直方向及水平方向。相移板100被设置为例如光学低通滤波器的衍射光栅的一部分。相移板100形成为一边为数十厘米(cm)～数米(m)的长方形。如图1所示，相移板100具备树脂基材102和取向图案106。树脂基材102通过将后述树脂制的长条状的薄膜切割成一定长度而形成。树脂基材102使光透过。树脂基材102的厚度的一例为50μm～100μm。树脂基材102支承取向图案106。树脂基材102可以由环烯烃类的薄膜构成。作为环烯烃类薄膜，可以使用环烯烃聚合物(COP，Cyclo-OlefinPolymer)，更优选使用作为环烯烃聚合物的共聚物的环烯烃共聚物(COC，Cyclo-OlefinCopolymer)。作为COP薄膜，可以举出日本瑞翁公司(ZeonCorporation)制备的ZEONOR薄膜ZF14。另外，树脂基材102可以由包含三醋酸纤维素(TAC，Tri-AcetylCellulose)的材料构成。TAC薄膜可以举出富士照片胶卷公司(FujiPhotoFilmCorporation)制备的FUJITACT80SZ及TD80UL等。另外，在使用环烯烃类薄膜的情况下，从脆弱性的观点考虑，优选使用高韧性类型的薄膜。取向图案106形成于树脂基材102的一面上。在取向图案106中形成有多个相移区域104。相移区域104在平面视图中形成为相同的形状。各个相移区域104是沿树脂基材102的垂直方向延伸的长方形。相移区域104沿垂直方向的边彼此相接触，并沿水平方向排列。另外，各个相移区域104可以为沿树脂基材102的水平方向延伸的长方形，并可以沿垂直方向排列。相移区域104对透过的偏光的偏光状态进行调制。相移区域104例如具有1/2波长板的相移功能。另外，相移区域104也可以具有1/4波长板的相移功能。以下，对相移区域104具有1/2波长板的相移功能的情况进行说明。相移区域104具有在图1的相移区域104的上端处以箭头所示方向的光轴。此处所称的光轴为进相轴或滞相轴。多个相移区域104的光轴取向于相互不同方向。相移区域104的光轴与相邻接的相移区域104的光轴的角度差为等角度。例如，该光轴的角度差为2.81°。因此，如图1所示，在右端的相移区域104的光轴为水平方向的情况下，则从右端数第二个相移区域104的光轴处于从水平方向倾斜2.81°的方向。进一步地，从右端数第n个相移区域104的光轴则处于从水平方向倾斜2.81×(n-1)°的方向。另外，多个相移区域104的全部光轴也可以不为不同方向，在多个相移区域104中也可以存在光轴被取向为相同方向的区域。图2为沿图1的II-II线的纵截面图。如图2所示，相移区域104具有作为光取向层一例的取向膜120及液晶膜122。另外，在图2的相移区域104中所示的箭头表示在平面视图中的相移区域104的光轴方向。取向膜120形成于树脂基材102的面上。取向膜120可以适用光取向性化合物。光取向性化合物是在被紫外线等直线偏光照射时，分子会沿该直线偏光的偏光方向规则性地取向的材料。进一步地，光取向性化合物具有使在自己之上形成的液晶膜122的分子沿着自己的取向排列的功能。作为光取向性化合物的例子，可以列举出光分解型、光二聚化型、光异构化型等化合物。取向膜120的分子沿着与相移区域104的光轴相对应的方向取向。液晶膜122形成于取向膜120上。作为液晶膜122的一例，是通过紫外线或加热等方式而能够硬化的液晶聚合物。使液晶膜122沿着取向膜120的取向进行取向。图3为本实施方式的相移板制造装置10的整体结构图。将图3中由箭头所示的上下作为相移板制造装置10的上下方向。另外，上游及下游是指沿输送方向的上游及下游。另外，输送方向是与薄膜90的长度方向及相移板100的垂直方向相同的方向，与相移区域104的排列方向及相移板100的水平方向垂直相交。如图3所示，相移板制造装置10具有送出辊12、取向膜涂敷部14、取向膜干燥部16、曝光部18、液晶膜涂敷部20、液晶膜取向部22、液晶膜硬化部24、分离薄膜供给部26及卷取辊28。送出辊12配置于薄膜90的输送路径的最上游侧。在送出辊12的外周卷绕有供给用的薄膜90。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种相移板的制造方法，其特征在于，该相移板具有形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案，该方法包括：在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序；准备具有取向图案的相移掩模的工序，该取向图案形成有与所述相移板的所述取向图案的所述多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域；向所述相移掩模照射椭圆偏光，从而使从所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向层，由此使所述光取向层取向的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.03.26 JP 2012-0701531.一种相移板的制造方法，其特征在于，该相移板具有形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案，该方法包括：在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序；准备具有取向图案的相移掩模的工序，该取向图案形成有与所述相移板的所述取向图案的所述多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域；以及向所述相移掩模照射椭圆偏光，从而使从所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向层，由此使所述光取向层取向的工序，其中，在所述相移掩模的所述取向图案的一面上，形成有防止所述相移掩模的所述取向图案发生氧化的保护膜。2.一种相移板的制造方法，其特征在于，该相移板具有形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案，该方法包括：在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序；准备具有取向图案的相移掩模的工序，该取向图案形成有与所述相移板的所述取向图案的所述多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域；以及向所述相移掩模照射椭圆偏光，从而使从所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向层，由此使所述光取向层取向的工序，其中，所述相移掩模具有使形成有所述相移掩模的所述取向图案的多个相移板排列的结构。3.根据权利要求1或2所述的相移板的制造方法，所述相移掩模的所述多个区域的宽度等于所述相移板的所述多个区域的宽度。4.根据权利要求1或2所述的相移板的制造方法，所述相移掩模的相邻区域的光轴间的角度差等于所述相移板的相邻区域的光轴间的角度差。5.根据权利要求1或2所述的相移板的制造方法，所述相移掩模具备保持所述取向图案的掩模基材；所述取向图案具有取向膜、液晶膜以及形成有所述取向膜的基材；所述液晶膜配置于所述光取向层侧。6.根据权利要求1或2所...

【专利技术属性】
技术研发人员：角张祐一，渡部贤一，
申请(专利权)人：株式会社有泽制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP