负载电流控制电路制造技术

公开了一种用于操作一个或多个发光设备的系统和方法。在一个示例中，由所述一个或多个发光设备提供的光强度响应于来自所述一个或多个发光设备的电流反馈来被调整。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】负载电流控制电路相关申请的交叉引用本申请要求于2012年3月29日提交的美国临时专利申请N0.61/617，496、以及于2013年3月14日提交的美国非临时申请N0.13/830,887的优先权，这些申请的全部内容出于所有目的通过引用被合并于此。
技术介绍
固态照明设备在工业应用方面具有很多用途。紫外线(UV)照明设备相当普遍地用于对感光媒介(例如，涂料(包括油墨、粘合剂、防腐剂等))进行固化。这些感光媒介的固化时间可以经由对被定向到该感光媒介处的光强度、或者该感光媒介被暴露给来自所述固态照明设备的光的时间量进行调整来被控制。比起当前的汞弧灯设备，固态照明设备通常使用起来耗电量更小、成本更低，并且可以被更简便地处置。 固态照明设备可以例如包括激光二极管或发光二极管(LED)。该设备通常具有被配置成提供具有特定剖面(例如，长、薄的光区域，或者更宽且更深的光区域)的光的一个或一些阵列。独个元件位于阵列中，照明设备可以包括一些阵列，或排列在模块中的一些阵列，并且该照明设备具有一些模块。如果该固态照明设备被提供有变化数量的电流，或者如果不同的感光媒介组被暴露给光不同的持续时间，则感光固化时间可能变化，或者可能不足以提供期望的固化水平。
技术实现思路
在这里，专利技术人已经意识到上述缺点，并且已经开发了一种用于操作一个或多个发光设备的系统，该系统包括:包括反馈输入的电压调节器，该电压调节器与所述一个或多个发光设备电气通信；以及电流感测设备，设置在电流通路中，通过该电流通路，电流流过所述一个或多个发光设备。 通过基于电流反馈来控制流经照明阵列的电流，可能对照明阵列的光强度进行更精准的控制。例如，流经可变电阻设备的电流可以响应于所测量的流经照明阵列的电流来被控制。因此，被提供给该照明阵列的电流和光强度可以收敛到期望值。在其他示例中，降压型(buck)电压调节器的电压输出可以响应于流经照明阵列的电流来被调整。流经该照明阵列的电流经由改变被施加给该照明阵列的电压来被调整。通过这一方式，降压型电压调节器响应于流经照明阵列的电流来被调整，以提供对流经该照明阵列的电流的闭环反馈控制。 本专利技术可以提供一些优势。具体地，该方式可以改善照明系统光强度控制。此外，该方式可以经由提供有效的电流控制来提供更低的能耗。再者，该方式可以经由替换的设备来被提供，以使该设计保持灵活且划算。 在单独或与附图联系时，本专利技术的以上优势以及其他优势和特征将从以下【具体实施方式】中显而易见。 应当理解的是，提供本
技术实现思路
是为了以简化的形式介绍概念的选择，这些概念在【具体实施方式】中被进一步描述。该
技术实现思路
并不意图标识所要求保护的主题的关键或必要特征，该主题的范围唯一地由【具体实施方式】之后的权利要求书来定义。此外，所要求保护的主题并不限于解决上述或本公开文件的任意部分中记录的任何缺点的实施。 【附图说明】 图1示出了照明系统的示意图描述； 图2-图4示出了示例电流调节系统的示意图；以及 图5示出了用于在光反应系统中控制电流的示例方法。 【具体实施方式】 本专利技术涉及具有调节电流的照明系统。图1示出了一个示例照明系统，在该照明系统中提供调节电流控制。照明电流控制可以根据在图2-图4中示出的示例电路来被提供。然而，提供所描述的功能或以与示出的电路类似的方式操作的替换电路也被包括在本专利技术的范围之内。照明系统可以根据图5的方法来操作。在各种电气图中的组件之间示出的电气互连表示所示出的设备之间的电流通路。 现在参考图1，示出了根据此处描述的系统和方法的光反应系统10的框图。在该示例中，该光反应系统10包括照明子系统100、控制器108、电源102和冷却子系统18。 照明子系统100可以包括多个发光设备110。发光设备110可以例如是LED设备。所述多个发光设备110中选中的一些发光设备被实施成提供辐射输出24。该辐射输出24被定向到工件26。返回的辐射28可以被从该工件26反向定向到照明子系统100 (例如，经由辐射输出24的反射)。 福射输出24可以经由f禹合光学器件30被定向到工件26。如果使用的话,I禹合光学器件30可以以各种方式被实施。例如，耦合光学器件可以包括介于提供辐射输出24的发光设备110与工件26之间的一个或多个层、物质或其他结构。例如，耦合光学器件30可以包括微透镜阵列，用于增强聚集、冷凝、校准，或者另外增强该辐射输出24的质量或有效数量。如另一个示例，耦合光学器件30可以包括微反射镜阵列。在采用这种微反射镜阵列时，在一对一的基础上，提供辐射输出24的每个半导体设备可以被布设在各自的微反射镜中。 所述层、物质或其他结构中的每一者可以具有选中的折射率。通过正确地选择每个折射率，可以选择性地控制在辐射输出24(和/或返回的辐射28)的路径中的层、物质与其他结构之间的接触面处的反射。例如，通过对位于被布设在半导体设备到工件26之间的选中的接触面处的这种折射率的差异进行控制，可以减小、消除或最小化该接触面处的反射，以增强在该接触面处的辐射输出的传输，以便最终传递到工件26。 耦合光学器件30可以用于各种目的。除其他之外，示例目的包括保护发光设备110，保留与冷却子系统18关联的冷却液，聚集、冷凝和/或校准辐射输出24，聚集、定向或拒绝返回的辐射28，或用于其他目的，这些目的是单独的或被结合。如又一个示例，光反应系统10可以采用耦合光学器件30，以增强辐射输出24的有效质量或数量，特别是在传递到工件26时。 多个发光设备110中被选中的发光设备可以经由I禹合电子设备22被I禹合到控制器108，以向该控制器108提供数据。如下文进一步描述的，控制器108还可以被实施为控制这些提供数据的半导体设备，例如，经由耦合电子设备22。 控制器108优选地还连接至电源102和冷却子系统18中的每个，并且被实施为对所述电源102和冷却子系统18中的每个进行控制。此外，控制器108可以从电源102和冷却子系统18接收数据。 由控制器108从电源102、冷却子系统18、照明子系统100中的一者或多者接收的数据可以具有多种类型。例如，该数据可以表示分别与耦合的半导体设备110关联的一个或多个特性。如另一个示例，该数据可以表示与提供该数据的各个组件12、102、18关联的一个或多个特性。如又一个示例，该数据可以表示与工件26关联的一个或多个特性(例如，表示被定向到该工件的辐射输出能量或光谱成分)。此外，该数据可以表示这些特性的一些组合。 在已经接收到任意所述数据时，控制器108可以被实施为对该数据进行响应。例如，响应于来自任意这些组件的所述数据，控制器108可以被实施为对电源102、冷却子系统18和照明子系统100 (包括一个或多个所述耦合的半导体设备)中的一者或多者进行控制。例如，响应于来自照明子系统的、指示在与工件关联的一个或多个点处光能量不充足的数据，控制器108可以被实施为:(a)增加电源对一个或多个半导体设备110的电流和/或电压供给，(b)经由冷却子系统18增加对照明子系统的冷却(即，如果被冷却，某些发光设备提供更大的辐射输出)，(c)增加电力被提供到这些设备的持续时间，或者(d)上述的组入口 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于操作一个或多个发光设备的系统，该系统包括：包括反馈输入的电压调节器，该电压调节器与所述一个或多个发光设备电气通信；以及电流感测设备，设置在电流通路中，通过该电流通路，电流流过所述一个或多个发光设备。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.03.29 US 61/617,496;2013.03.14 US 13/830,8871.一种用于操作一个或多个发光设备的系统，该系统包括: 包括反馈输入的电压调节器，该电压调节器与所述一个或多个发光设备电气通信；以及 电流感测设备，设置在电流通路中，通过该电流通路，电流流过所述一个或多个发光设备。2.根据权利要求1所述的系统，该系统还包括:电流控制设备，设置在所述电流通路中所述电流感测设备的上游以及所述一个或多个发光设备的下游。3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述电流控制设备是可变电阻器。4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述可变电阻器是FET。5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述电压调节器是降压型调节器。6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述电流感测设备直接与所述反馈输入电气通?目。7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述反馈输入直接与电节点进行电气通信，该电节点被设置在所述一个或多个发光设备与可变电阻器之间，并且其中，该可变电阻器被设置在所述电流通路中所述电流感测设备的上游。8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述反馈输入是接收所述一个或多个发光设备的阴极处的电压的电压输入。9.一种用于操作一个或多个发光设备的系统，该系统包括: 包括电流反馈输入的电流控制的电压调节器，该电流控制的电压调节器与所述一个或多个发光设备电气通信；以及 电流感测设备，设置在电流通路中，通过该电流通路，电流流过所述一个或多个发光设备，所述电流感测设备直...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·巴塔利亚，
申请(专利权)人：锋翔科技公司，
类型：发明
国别省市：美国;US