能够形成图案的沉积装置制造方法及图纸

技术编号:10784194 阅读:85 留言:0更新日期:2014-12-17 11:34
本发明专利技术涉及一种能够形成图案的沉积装置,本发明专利技术的能够形成图案的沉积装置,其为用于在基板上沉积原料的装置,其特征在于,进一步包括:喷嘴部,形成有喷射口,用于向所述基板侧喷射原料;快门部,用于选择性地开闭喷嘴部的喷射口,从而选择性地喷射所述原料;及移送部,用于移送所述基板或所述喷嘴部中的至少一个。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及一种能够形成图案的沉积装置,本专利技术的能够形成图案的沉积装置,其为用于在基板上沉积原料的装置,其特征在于,进一步包括:喷嘴部,形成有喷射口,用于向所述基板侧喷射原料;快门部,用于选择性地开闭喷嘴部的喷射口,从而选择性地喷射所述原料;及移送部,用于移送所述基板或所述喷嘴部中的至少一个。【专利说明】能够形成图案的沉积装置
本专利技术涉及一种能够形成图案的沉积装置,更为详细地涉及一种能够以所希望的 图案沉积大面积基板的能够形成图案的沉积装置。
技术介绍
显示装置通过多种形式的具体工序而制造。在显示装置的制造工艺中的一个主要 工序为在基板等上形成多个薄膜的工序,在这种形成薄膜的工序中广泛使用沉积工序。 这种沉积工序可分为在整个基板表面上涂敷均匀厚度薄膜的工序和只对基板的 一部分进行选择性的沉积而形成图案的工序。 图1表示以往的沉积装置的一例。 参照图1,在所述的沉积工序中,只对基板的一部分进行选择性的沉积而在基板上 使沉积物形成规定图案的以往的工序10如下:在腔室11内,在基板20与喷嘴12之间设置 与基板20的面积相同大小的荫罩13,并且使从供给部14提供的原料通过形成在荫罩130 上的图案后沉积在基板上,从而在基板20上形成规定的图案30。 但是,如上所述的过程,需要额外地设置与基板的面积相同面积的荫罩13,因此以 往的沉积装置10具有难以紧凑地构成的问题。 此外,为了处理大面积基板,需要利用大型荫罩、或者利用小型荫罩并进行反复沉 积的方法,因此难以迅速进行沉积工序。 【
技术实现思路
】 因此,本专利技术是为了解决所述以往的问题而提出的,其目的是提供一种能够形成 图案的沉积装置,该能够形成图案的沉积装置能够由规定的原料迅速地沉积大面积基板, 以使基板具有规定的图案形状。 所述目的通过本专利技术的能够形成图案的沉积装置而实现,该能够形成图案的沉积 装置为用于在基板上沉积原料的装置,其特征在于,进一步包括:喷嘴部,形成有喷射口,用 于向所述基板侧喷射原料;快门部,用于选择性地开闭喷嘴部的喷射口,从而选择性地喷射 所述原料;及移送部,用于移送所述基板或所述喷嘴部中的至少一个。 此外,可进一步包括:控制部,用于控制所述快门部或移送部中的至少一个,以从 而使所述原料在所述基板上形成规定形状的图案而沉积。 此外,所述控制部可调节所述喷射口的开闭时间。 此外,所述控制部可控制所述基板或喷嘴部中的至少一个的移送速度。 此外,所述快门部可以以板状安装在所述喷嘴部的端部,并且通过端部从所述喷 射口的一侧至另一侧的滑动,开放或阻断所述喷射口。 此外,所述快门部可形成为在端部上形成有开口部的气缸形状,并且包覆所述喷 嘴部,通过旋转转动而使所述开口部移动位置,从而开放或阻断所述喷射口。 此外,所述移送部可通过辊轮的旋转力而移送所述基板。 根据本专利技术,提供一种能够形成图案的沉积装置,该能够形成图案的沉积装置能 够选择性地喷射原料,从而在基板上沉积使用者所希望的形状的图案。 此外,由于通过移送部移送基板或喷嘴部的同时实现沉积工序,因此能够迅速处 理大面积基板。 此外,控制部控制通过移送部所进行的基板或喷嘴部的移送速度,从而能够调节 在基板上形成的图案的形状。 此外,控制部控制喷射口的开放或关闭的时间,从而能够调节在基板上形成的图 案的形状。 此外,可通过形成在喷嘴部的喷射口的形状,调节在基板上形成的图案的形状。 【专利附图】【附图说明】 图1为表示以往的沉积装置的一例的图, 图2为本专利技术的第一实施例的能够形成图案的沉积装置的立体图, 图3为用于说明图2的能够形成图案的沉积装置的示意的剖视图, 图4为从下方表示图2的能够形成图案的沉积装置的喷嘴部的图, 图5为图2的能够形成图案的沉积装置的喷嘴部的变形例的示意的剖视图, 图6为用于说明图2的能够形成图案的沉积装置的喷嘴部的运行的图, 图7为本专利技术的第二实施例的能够形成图案的沉积装置的立体图, 图8为本专利技术的第三实施例的能够形成图案的沉积装置的喷嘴部及快门部的立 体图, 图9为表示图8的能够形成图案的沉积装置的喷嘴部及快门部的沿IX-IX'线剖 开的面的动作的图。 【具体实施方式】 在对本专利技术进行说明之前需要说明的是,在多个实施例中,对于具有相同结构的 构件使用相同的附图标记,并在第一实施例中进行代表性的说明,在其他实施例中针对与 第一实施例不同的结构进行说明。 以下,参照附图对本专利技术的第一实施例的能够形成图案的沉积装置100进行详细 的说明。 图2为本专利技术的第一实施例的能够形成图案的沉积装置的立体图,图3为用于说 明图2的能够形成图案的沉积装置的示意的剖视图。 参照图2及图3,本专利技术的第一实施例的能够形成图案的沉积装置100包括腔室部 110、喷嘴部120、快门部130、供给部140、移送部150、输入部160及控制部170。 所述腔室部110在内部配置有后述的喷嘴部120及移送部150,因此相当于进行沉 积工序的场所,并且利用规定的泵来去除在内部包含的空气并保持真空状态,从而能够进 行沉积工序。 在腔室部110的内部用于收容基板20、后述的喷嘴部120及移送部150。 图4为从下方表示图2的能够形成图案的沉积装置的喷嘴部的图。 参照图4,所述喷嘴部120收容在所述腔室部110内,用于对基板20上喷射原料, 沿与通过后述的移送部150移送基板20的方向垂直的方向较长地形成,横剖面形成为四边 形形状。 在喷嘴部120的内部形成有用于使从外部供给的原料移动的流道即供给通道 121,在与基板20相对的面上形成有喷射口 122,从而使从供给通道121流动的原料能够向 基板20侧喷射。 在本实施例中,多个所述喷射口 122在喷嘴部120的端部上沿长度方向较长地形 成,并且相邻的喷射口 122形成为彼此隔开规定间隔。只是,喷射口 122为根据喷射的原料 而决定在基板上形成的图案的形状的要素,因此这种喷射口 122的宽度、长度、数量及隔开 间隔等可考虑在基板20上所要形成的图案的形状及基板或喷嘴部120的移送速度等而决 定。 所述快门部130用于选择性地开放或阻断喷射口 122,设置为板状。快门部130被 安装为能够在喷嘴部122的内部滑动,并且通过滑动选择性地开放或阻断喷射口 122的表 面。 图5为图2的能够形成图案的沉积装置的喷嘴部的变形例的示意的剖视图。 根据上述内容,本实施例的快门部130安装在喷嘴部120的内部,但参照图5,在本 实施例的变形例中,快门部130可构成为未被安装在喷嘴部120内而被设置在快门部130 与喷嘴部120之间,并且能够通过往返移动来开放或阻断通过喷射口所进行的原料的排 出。 所述供给部140与所述喷嘴部120连接,用于供给将在基板20上沉积的原料。 所述移送部150是为了实现流水线(in-line)工序而用于沿规定的路径输送被沉 积物即基板20的部件,在本实施例中构成为包括多个移送辊轮151。 所述移送辊轮151沿着基板的流水线工序的移送路径而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种能够形成图案的沉积装置,其为用于在基板上沉积原料的装置,其特征在于,进一步包括:喷嘴部,形成有喷射口,用于向所述基板侧喷射原料;快门部,用于选择性地开闭喷嘴部的喷射口,从而选择性地喷射所述原料;及移送部,用于移送所述基板或所述喷嘴部中的至少一个。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:金泰焕柳云善南宫晟泰
申请(专利权)人:SNU精度株式会社
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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