掩模调整单元、掩模装置以及掩模的制造装置和制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够适当地调整掩模图案的位置的诸如掩模调整单元等技术。这种掩模调整单元设置有基体、可动部件和调整机构。可动部件支撑具有外缘部的掩模主体的外缘部侧并可移动地设置在基体上。调整机构将从掩模主体的外缘部拉向掩模主体的外侧的张力和从外缘部压向掩模主体的内侧的压力经由可动部件施加到由可动部件支撑的掩模主体上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种能够适当地调整掩模图案的位置的诸如掩模调整单元等技术。这种掩模调整单元设置有基体、可动部件和调整机构。可动部件支撑具有外缘部的掩模主体的外缘部侧并可移动地设置在基体上。调整机构将从掩模主体的外缘部拉向掩模主体的外侧的张力和从外缘部压向掩模主体的内侧的压力经由可动部件施加到由可动部件支撑的掩模主体上。【专利说明】
本技术涉及一种调整施加到沉积等用的掩模上的应力的掩模调整单元、其上安装有掩模调整单元的掩模装置以及掩模装置的制造装置和制造方法。
技术介绍
过去，例如，在使用有机EL(电致发光)器件制造显示装置的过程中，通过使用沉积用掩模的真空沉积在基板的红、绿和蓝(RGB)各像素上形成材料膜的图案。 按以下方式制造这种沉积用掩模。首先，通过电铸法和光刻法等制备其中设置有许多微细开口图案的掩模箔。其次，在向该掩模施加张力的状态下，通过焊接等将掩模固定到支撑框架上。如果如上所述固定掩模，那么在固定后很难调整掩模的张力。 通常，掩模取决于开口图案的形成密度的粗密度或者在电铸或轧制过程中引起的膜厚的不均匀分布而具有不同的应力分布。此外，因为存在掩模的支撑框架本身的变形量的个体差异，所以提前通过变形分析等预见变形非常难。鉴于以上所述，在专利文献I中提出了一种在将掩模固定到框架上之后修正开口图案的位置的方法。 专利文献I中记载的沉积用掩模包括由掩模框架保持的掩模主体、与掩模主体的至少一侧连接的导引构件和用于经由导引构件向掩模主体施加预定张力的张力施加部件。张力施加部件包括在导引构件的侧壁上形成的螺丝孔和可以插入螺丝孔并且其前端部与掩模框架的侧面接触的螺丝。操作员可以通过拧紧或放松螺丝向掩模主体施加张力(例如，参照专利文献I的说明书第 ~ 段和图4)。 引用文献列表 专利文献 专利文献1:日本专利申请特开N0.2004-6257
技术实现思路
专利技术要解决的问题 然而,专利文献I中记载的张力施加部件的结构是其中张力随着拧紧度增大而增大的结构。具体地，因为它仅是其中向掩模主体施加张力的结构，所以难以适当地调整在掩模上形成的掩模图案的位置。 本专利技术的目的是提供一种能够适当地调整掩模图案的位置的诸如掩模调整单元等的技术。 解决问题的手段 为了实现上述目的，根据本技术的掩模调整单元包括基体、可动部件和调整机构。 所述可动部件支撑具有外缘部的掩模主体的外缘部侧并可移动地设置在所述基体上。 所述调整机构将从所述掩模主体的外缘部拉向所述掩模主体的外侧的张力和从所述外缘部压向所述掩模主体的内侧的压力经由所述可动部件施加到所述掩模主体上，所述掩模主体由所述可动部件支撑。 因为调整机构可以同时向掩模主体施加张力和压力，所以可以适当地微细调整设置在掩模主体上的掩模图案的位置。 所述调整机构可以包括作用在所述可动部件上的至少一个螺栓。螺栓可以直接地或间接地作用在可动部件上。 所述调整机构可以包括向所述掩模主体施加所述张力的第一螺栓，和向所述掩模主体施加所述压力的第二螺栓。 所述调整机构可以具有支撑第一螺栓和第二螺栓的支撑部，所述支撑部设置在所述基体上。另外，所述可动部件可以具有将第一螺栓插入其中的螺丝孔和与第二螺栓的端部接触的接触区域。 通过第一和第二螺栓这两个螺栓，可以产生张力和压力。 所述调整机构还可以包括与第一螺栓和第二螺栓中的至少一个连接的转换部件。所述转换部件将所述至少一个螺栓在第一移动方向上的动力转换成在第二移动方向上的动力并将所转换的动力传递到所述可动部件，第二移动方向不同于第一移动方向。 如上所述，转换部件可以将在螺栓的移动方向上的动力转换成在不同于该方向的方向上的动力，并且移动可动部件。 所述调整机构还可以包括固定体和传递部件。所述固定体设置在所述基体上。所述传递部件可以通过所述固定体和所述可动部件之间的第一螺栓和第二螺栓中的任一个与所述基体连接、将第一螺栓和第二螺栓中的任一个在第一移动方向上的动力转换成在第二移动方向上的动力并将所转换的动力传递到所述可动部件，第二移动方向不同于第一移动方向。 所述传递部件可以是通过弹性变形作用在所述可动部件上的弹性体。因为利用弹性体的弹性变形，所以可以高精度地微细调整掩模图案的位置。 所述可动部件可以具有锥形面。所述固定体可以具有面向所述可动部件的锥形面的锥形面并可以设置在所述基体上，使得所述可动部件的锥形面和所述固定体的锥形面之间的间隔朝着其上形成有掩模图案的图案面的垂直方向改变，所述掩模主体具有所述图案面。所述传递部件可以是在所述可动部件的锥形面和所述固定体的锥形面之间配置的阻挡部件，使得所述阻挡部件与所述锥形面接触。 所述调整机构还可以具有设置在所述基体上并支撑所述螺栓的支撑部，和调节所述螺栓沿着所述螺栓的插入和取出方向相对于所述支撑部的移动的调节部。因此，调整机构可以通过调整用的一个螺栓同时产生张力和压力。 所述调整机构可以包括向所述掩模主体施加所述张力的第一凸轮部件，和向所述掩模主体施加所述压力的第二凸轮部件。因此，调整机构可以不用调整用的螺栓同时产生张力和压力。 所述调整机构可以包括能够向所述掩模主体施加所述张力和所述压力的压电元件。 所述掩模调整单元还可以包括调整框架和调整部件。 所述调整框架与所述基体连接，使得所述调整框架在与其上形成有掩模图案的图案面垂直的方向上面向所述基体并且在所述调整框架和所述基体之间形成间隙，所述掩模主体具有所述图案面。 所述调整部件调整在所述垂直方向上的间隙的距离。因此，因为在调整框架和基体之间形成间隙并且由调整部件调整间隙的距离，所以可以修正掩模主体的偏斜或在与重力方向相反的方向上向上拉掩模主体。 根据本技术的掩模装置包括掩模主体和上述的支撑所述掩模主体的掩模调整单 根据本技术的掩模制造装置是通过调整具有外缘部、图案面和在所述图案面上形成的掩模图案的掩模主体的掩模图案的位置来制造掩模装置的掩模制造装置。 所述掩模制造装置包括检测部、操作装置和控制器。 所述检测部在所述掩模装置的掩模主体由可动部件支撑的状态下检测作为所述图案面内的所述掩模图案的位置信息的实际位置信息。 所述操作装置驱动所述掩模装置的调整机构。 所述控制器从所述掩模主体的设计信息获取作为所述掩模图案的位置信息的设计位置信息，并基于所获取的设计位置信息和所检测的实际位置信息计算所述实际位置信息相对于所述设计位置信息的位移量。然后，所述控制器基于所算出的位移量控制所述操作装置。 因此，可以自动地适当调整掩模主体的掩模图案的位置。因此，可以提高由所述掩模装置制造的装置的生产性。 所述操作装置可以包括电机和使所述电机的驱动减速的减速器。因此，可以高精度地微细调整掩模图案的位置。 所述掩模制造装置还可以包括使所述操作装置能够沿着所述掩模主体移动的引导机构。因此，可以改变由操作装置经由调整机构施加应力的位置。 根据本技术的掩模制造方法是通过调整具有外缘部、图案面和在所述图案面上形成的掩模图案的掩模主体的掩模图案的位置来制造掩模装置的掩模制造方法。 在所述掩模装置的掩模主体由可动部件支撑的状态下检测作为所述图案面内的所述掩模图案的位置信息的实际位置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模调整单元，包括：基体；可动部件，所述可动部件支撑具有外缘部的掩模主体的外缘部侧并可移动地设置在所述基体上；和调整机构，所述调整机构将从所述掩模主体的外缘部拉向所述掩模主体的外侧的张力和从所述外缘部压向所述掩模主体的内侧的压力经由所述可动部件施加到所述掩模主体上，所述掩模主体由所述可动部件支撑。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：栗山健太朗，久保智弘，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP