掩膜组件制造技术

一种掩膜组件，包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向延伸，而且所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜，包括在该至少一个单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种掩膜组件，包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向延伸，而且所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜，包括在该至少一个单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个。【专利说明】掩膜组件
本公开涉及一种掩膜组件。
技术介绍
作为平板显示器，液晶显示器（IXD)和有机发光显示器（0LED)已经被广泛使用。 平板显示器包括特定图案的金属层，并且在有机发光显示器的情况下，特定图案的有机发 光层针对每个像素形成。作为用于形成金属层和有机发光层的方法，可应用使用掩膜组件 的沉积方法。 掩膜组件可包括具有对应于金属层或有机发光层的图案的开口的掩膜，和支撑掩 膜的掩膜框架。例如，在分割掩膜方法中，掩膜被分成带状的多个单元掩膜，并且各个单元 掩膜在单元掩膜沿长度方向被延伸的状态下通过焊接而被固定到掩膜框架。分割掩膜方法 具有的优点例如为能够选择性地使用良好的产品并且能够容易地对其进行维修。
技术实现思路
单元掩膜可沿长度方向延伸并且可被固定到掩膜框架。然而，在此情况下，沿与延 伸方向正交的方向（也就是沿宽度方向）可能发生收缩现象，并且这可导致在整个掩膜上发 生波形。发生在掩膜上的波形随着单元掩膜的宽度变得更大而变得更严重。 进一步，单元掩膜的两侧的端部被固定到夹具并且被延伸，并且由于单元掩膜自 身由薄金属板材料形成，单元掩膜可能不能耐受夹具的拉力，因此围绕固定到夹具的端部 可发生波形。发生在单元掩膜的端部上的波形可能甚至到达单元掩膜的形成开口的中心部 分，从而导致沉积劣化。 另一方面，单元掩膜通过焊接被固定到掩膜框架，并且此时，部分地拉动单元掩膜 的力围绕焊接点发生，因此波形可能围绕焊接点发生在单元掩膜上。围绕单元掩膜的焊接 点发生的波形扩展到单元掩膜的中心部分，从而导致沉积劣化。 本专利技术示例性实施例提供一种掩膜组件，其能够通过抑制在单元掩膜上的波形的 发生而提高薄膜的沉积质量。 本专利技术示例性实施例提供一种制造掩膜组件的方法，其能够通过抑制在单元掩膜 上的波形的发生而提高薄膜的沉积质量。 根据本专利技术示例性实施例，提供一种掩膜组件包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜 框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向 延伸，所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜包括在所述单元掩膜的两端部处沿与所述 第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸 出部中的至少一个。 根据本专利技术示例性实施例，提供一种掩膜组件包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜 框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向 延伸，所述单元掩膜沿所述第一方向的最外部分的宽度大于所述单元掩膜的中心部分的宽 度。 toon] 根据本专利技术示例性实施例，提供一种用于制造掩膜组件的方法，其包括：准备掩膜 框架，其中多个延伸单元和多个单元掩膜被安装在该掩膜框架上，多个单元掩膜包括沿第 一方向从其两端部伸出的夹紧部分和沿与第一方向相交的第二方向从其两端部伸出的伸 出部；使所述掩膜框架上的所述多个单元掩膜中的任何一个的所述夹紧部分沿所述第一方 向延伸；将所述单元掩膜的沿所述第一方向延伸的伸出部固定到所述延伸单元的移动构 件；使所述单元掩膜的所述伸出部通过所述移动构件沿所述第二方向的移动而沿所述第二 方向延伸；将所述单元掩膜的沿所述第二方向延伸的两端部固定到掩膜框架；和将单元掩 膜的两端部固定的夹紧部分分离。 根据本专利技术示例性实施例，提供一种掩膜组件。该掩膜组件包括：掩膜框架，限定 所述掩膜组件的外框架并且包括在位于在其中的开口和在其一侧的凹形槽；和固定到所述 掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向延伸，并且所述多个单元掩膜中的至 少一个单元掩膜包括在所述单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出 到其第一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个。 所述掩膜组件进一步包括布置在所述掩膜框架的所述凹形槽内位于两个相邻的 单元掩膜之间的延伸单元。所述延伸单元包括布置为在所述凹形槽的底部上沿所述第二方 向成一条线的引导轨、联接到所述引导轨的移动构件和布置在所述移动构件的侧壁上并且 被配置为控制所述移动构件的移动的移动控制部分。所述移动构件被联接到所述引导轨并 且被配置为在所述凹形槽中沿所述第二方向滑动，并且所述移动控制部分包括具有齿条的 齿条联接部分和具有配置为与所述齿条接合的小齿轮的驱动轴，引导联接部分布置在所述 凹形槽的侧壁上并且被配置为通过沿所述第二方向与所述齿条联接部分进入表面接触而 引导所述齿条联接部分的移动。 另外，所述掩膜组件进一步包括焊接部分，该焊接部分包括被配置为通过焊接将 所述伸出部与所述延伸单元彼此固定的第一焊接部分和被配置为通过焊接将各个单元掩 膜的两端部与所述掩膜框架彼此固定的第二焊接部分。 根据本专利技术实施例，至少实现下面的优点。 由于根据本专利技术实施例的掩膜组件沿第一方向延伸，其上发生波形的多个单元掩 膜沿第二方向延伸从而有效地去除波形。因此，由于波形导致的多个单元掩膜的图案的开 口的变形被抑制，因此薄膜的沉积质量提高。 进一步，由于根据本专利技术实施例的掩膜组件将从多个单元掩膜中的至少一个的两 端部沿第二方向伸出的伸出部固定到延伸单元，因此即使在掩膜组件的形成完成之后，单 元掩膜仍能够稳定地维持沿第二方向的延伸状态。 【专利附图】【附图说明】 结合附图从下面的详细说明能够更详细地理解本专利技术的示例性实施例，附图中： 图1为根据本专利技术实施例的掩膜组件的俯视图； 图2为被提供为形成图1的掩膜组件的掩膜框架和多个单元掩膜的透视图； 图3为图1的部分"A"的放大透视图； 图4为图1的部分"B"的放大透视图； 图5为图1中例示的延伸单元的剖视图； 图6为图1中例示的延伸单元的局部透视图； 图7和图8为根据本专利技术实施例的掩膜框架的俯视图； 图9为例示出用于制造图1的掩膜组件的方法的流程图； 图10为例示出图9的伸出部固定的局部透视图； 图11为例示出图9的伸出部延伸的局部透视图； 图12为例示出图9的两端部固定的局部透视图； 图13为例示出图9的分离的局部透视图； 图14为根据本专利技术实施例的掩膜组件的俯视图；和 图15为根据本专利技术另一实施例的掩膜组件的俯视图。 【具体实施方式】 然而，本专利技术示例性实施例可被实施为很多不同的形式，并且不应被解释为限于 本文提出的示例性实施例。 还将理解的是，当层被提及为在另一层或基板"上"时，其能够直接在另一层或基 板上，或者还可存在中间层。相同的附图标记在整个说明书中指代相同的部件。 如这里所使用的那样，用语"和/或"包括一个或多个相关列出项中的任意一个和 所有组合。而且，如这里所使用的那样，单数形式的"一"、"一个"和"所述"旨在还包括复 数形式，除非上下文另外清楚指出之外。 下文中，将本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜组件，包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜；其中各个单元掩膜沿第一方向延伸，而且其中所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜，包括在所述至少一个单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金容焕，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR