一种平面等离子发生器制造技术

本实用新型专利技术提供一种平面等离子发生器，包括工作架，其中，还包括真空室、电感线圈、绝缘体、屏蔽筒、真空隔离装置、射频匹配器、射频源及电源地；所述工作架置于所述真空室中，将所述电感线圈设置于所述绝缘体中，同时将所述绝缘体设置于所述真空室中，所述电感线圈通过所述屏蔽筒及所述真空隔离装置与所述真空室外部的所述射频匹配器相连接，所述射频匹配器还设置依次与所述射频源及所述电源地相连接。采用上述方案，能够产生大面积、高密度、单向放电、相对均匀的等离子体发生器，使等离子体分布均匀、效率高，对基片表面损伤小，适合大面积等离子辅助薄膜沉积、刻蚀、表面清洗以及表面处理。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种平面等离子发生器，包括工作架，其中，还包括真空室、电感线圈、绝缘体、屏蔽筒、真空隔离装置、射频匹配器、射频源及电源地；所述工作架置于所述真空室中，将所述电感线圈设置于所述绝缘体中，同时将所述绝缘体设置于所述真空室中，所述电感线圈通过所述屏蔽筒及所述真空隔离装置与所述真空室外部的所述射频匹配器相连接，所述射频匹配器还设置依次与所述射频源及所述电源地相连接。采用上述方案，能够产生大面积、高密度、单向放电、相对均匀的等离子体发生器，使等离子体分布均匀、效率高，对基片表面损伤小，适合大面积等离子辅助薄膜沉积、刻蚀、表面清洗以及表面处理。【专利说明】一种平面等离子发生器
本技术属于平面等离子发生器
，尤其涉及的是一种平面等离子发生器。
技术介绍
现有技术中的平面等离子发生器广泛应用于车灯镀膜、装饰镀膜、光学镀膜的镀膜机一般在镀介质膜时采用中频电源镀膜。缺点产生的等离子体密度较低，离子密度相对较低，对于靠反应镀膜的应用，不利于真空室内离子反应的发生。为提高真空室内离子密度，可以外加由射频驱动的等离子发生器产生密度相对较高的等离子体。由于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面等离子发生器，包括工作架，其特征在于，还包括真空室、电感线圈、绝缘体、屏蔽筒、真空隔离装置、射频匹配器、射频源及电源地；所述工作架置于所述真空室中，将所述电感线圈设置于所述绝缘体中，同时将所述绝缘体设置于所述真空室中，所述电感线圈通过所述屏蔽筒及所述真空隔离装置与所述真空室外部的所述射频匹配器相连接，所述射频匹配器还设置依次与所述射频源及所述电源地相连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李树瑜，
申请(专利权)人：北京吉兆源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11