非接触式基板传送旋转器制造技术

本发明专利技术公开一种非接触式基板传送旋转器，该非接触式基板传送旋转器能够以非接触状态执行基板的传送和翻转。该非接触式基板传送旋转器包括：传送构件，该传送构件沿着导轨移动；基板支撑构件，该基板支撑构件安装在传送构件处并且通过阻力和升力非接触地支撑基板；以及动力传输构件，该动力传输构件将动力提供到基板支撑构件以使基板支撑构件旋转。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开一种非接触式基板传送旋转器，该非接触式基板传送旋转器能够以非接触状态执行基板的传送和翻转。该非接触式基板传送旋转器包括：传送构件，该传送构件沿着导轨移动；基板支撑构件，该基板支撑构件安装在传送构件处并且通过阻力和升力非接触地支撑基板；以及动力传输构件，该动力传输构件将动力提供到基板支撑构件以使基板支撑构件旋转。【专利说明】非接触式基板传送旋转器 相关申请的交叉引用 本申请要求于2013年4月17日提交的题为"Non-Contact Substrate Transfer Turner (非接触式基板传送旋转器)"的韩国专利申请序列No. 10-2013-0042382的权益，通 过引用的方式将其全部内容结合到本申请中。
本专利技术涉及一种非接触式基板传送（transfer,转移）旋转器（turner),并且更特 别地，涉及能够以非接触式状态进行基板的传送和翻转的非接触式基板传送旋转器。
技术介绍
通常地，主要用于制造基板或者半导体的过程中的曝光设备被用于实现精密电路 图案、固化阻焊剂等。 在使用曝光设备的过程期间，因为基板的电路行宽最近变得更小并且对多层基板 的需求增加，所以由于在制造过程期间由异物所导致的光学特性干扰使得频繁产生电路缺 陷。 产生这个问题是因为基板是以这样状态被传送和翻转：在该状态下基板直接接触 诸如传送台的设备。 也就是说，由异物所导致的缺陷表示在传送基板的时候异物通过产品与传送输送 机、传送辊等之间的摩擦而被吸附到基板的表面上。 特别地，因为具有增加的基板层压层数的多层基板反复执行数个过程，所以其严 重地受到由异物所导致的污染，并且这个污染最终导致产品质量改善中的致命问题。 (专利文献1)日本专利特开公布No. 2008-147291
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种非接触式基板传送旋转器，该旋转器能够通过使基 板的传送和翻转在基板不接触传送台的状态下被执行而使由异物所导致的光学特性干扰 最小化。 此外，本专利技术的另一个目的是提供一种非接触式基板传送旋转器，该旋转器能够 通过使基板的传送和翻转被快速执行来预期提高生产率。 根据本专利技术的示例性实施方式，提供一种非接触式基板传送旋转器，该旋转器包 括：传送构件，该传送构件沿着导轨移动；基板支撑构件，该基板支撑构件安装在传送构件 处并且通过阻力（drag force,抗力，曳力）和升力（lift force)非接触地支撑基板；以及 动力传输构件，该动力传输构件将动力提供到基板支撑构件以使基板支撑构件旋转。 导轨可以设置有限制传送构件的移动距离的限位开关 基板支撑构件可以包括：框架；空气抽吸部，该空气抽吸部安装在框架处并且抽 吸吸附在基板上的异物；以及空气排放部，该空气排放部安装在框架处并且通过空气排放 而以非接触状态支撑基板。 空气抽吸部和空气排放部可以分别交替地安装，并且空气排放部可以包括形成为 以预定角度倾斜的空气排放孔。 可以在传送构件的上侧处设置一对基板支撑构件，并且基板支撑构件可以分别在 顺时针方向和逆时针方向上旋转。 这对基板支撑构件可以构造成翻转供应部和翻转接收部，该翻转供应部非接触地 传送基板，该翻转接收部接收通过翻转供应部所供应的基板。 动力传输构件可以包括：马达，该马达提供动力以根据旋转方向使基板支撑构件 上升和下降；减速器，该减速器减慢马达的转数；以及旋转式旋转马达，该旋转式旋转马达 使基板支撑构件旋转。 传送构件可以通过使用线性马达、螺杆（screw，螺纹件)、带、以及链条中的任一者 而构造。 【专利附图】【附图说明】 图1是示出了根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的透视图； 图2是根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的平面图； 图3是根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的侧视图； 图4是根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的侧视图； 图5是仅示出了根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的部件 的非接触式传送模块的透视图； 图6是示出了根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的基板传 送构件的分解透视图； 图7是根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的基板传送构件 的横截面视图； 图8是示出了通过根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器来翻 转基板的过程的侧视图；以及 图9是示出了通过根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器来翻 转基板的状态的透视图。 【具体实施方式】 在下文中，将参照附图详细描述本专利技术的示例性实施方式。 图1是示出了根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的透视图， 图2是根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的平面图，图3是根据本发 明示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的侧视图，图4是根据本专利技术示例性实施方 式的非接触式基板传送旋转器的侧视图，图5是仅示出了根据本专利技术示例性实施方式的非 接触式基板传送旋转器的部件的非接触式传送模块的透视图，图6是示出了根据本专利技术示 例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的基板传送构件的分解透视图，图7是根据本发 明示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器的基板传送构件的横截面视图，图8是示出 了通过根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器来翻转基板的过程的侧视 图，以及图9是示出了通过根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器来翻转 基板的状态的透视图。 如图1到图5所示，根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器100 被构造为使由异物所导致的污染最小化并且被构造为通过以非接触式状态传送和翻转基 板来快速地供应基板。 在根据本专利技术示例性实施方式的非接触式基板传送旋转器100中，线性马达10被 设置为传送基板并且传送构件20沿着安装在线性马达10中的导轨(未示出）移动，使得基 板被供应至下一个过程。 可以根据旋转器100的设计规格设置一个或多个导轨。在这种情况下，导轨可以 安装有限位开关(未示出）以便限制传送构件20的移动距离，其中限位开关可以安装在传送 构件20处而不是导轨处。 传送构件20在沿着导轨移动的时候通过线性马达、螺杆、带、链条等中的任一者 接收动力。 在这些之中，因为线性马达10是最广泛地用于沿着导轨移动的设备，所以本专利技术 还示出了使用线性马达10的情形。 传送构件20具有安装在其上侧处的基板支撑构件30,使得基板可以以非接触式 状态被传送和翻转。 -对基板支撑构件30可以被构造成以能旋转的状态位于传送构件的上部处。基 板支撑构件30包括翻转供应部31和接收通过翻转供应部31所供应的基板的翻转接收部 35,以便在传送基板的过程中保持非接触式状态。 也就是说，基板支撑构件30被构造成翻转供应部31和翻转接收部35,其中翻转供 应部31和翻转接收部35根据它们安装在传送构件20处的位置可具有相同的结构。 基板支撑构件30被构造为在传送和翻转基板的时候利用由空气产生的阻力和升 力而保持基板不接触的状本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非接触式基板传送旋转器，包括：传送构件，所述传送构件沿着导轨移动；基板支撑构件，所述基板支撑构件安装在所述传送构件处并且通过阻力和升力非接触地支撑基板；以及动力传输构件，所述动力传输构件将动力提供到所述基板支撑构件以使所述基板支撑构件旋转。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李庸宽，金善，金贤洙，
申请(专利权)人：三星电机株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR