【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】一种传感器装置,其用于在干扰物存在下测定开放式样品(130)中物质的浓度,所述传感器装置包括:第一光源(200),其发射被所述物质吸收的第一波长下的脉冲光(S1),第二光源(210),其发射透过所述物质的第二波长下的脉冲光(S2),光学装置(250、252、254、310、320、330、340),其用于沿相同的光路将发射的所述第一波长和第二波长的脉冲光(S1、S2)的至少一部分引导通过开放式样品(130),以及样品检测器(230),其布置在所述光路的末端用于接收透过所述样品(130)的所发射的所述第一波长和第二波长的光(S1、S2),其中所述干扰物作为沉积物形成在暴露于所述物质的所述光学装置(250、252、254、310、320、330、340)中的至少一个上,并且其中所述第一波长和第二波长被所述干扰物吸收。【专利说明】
本专利技术涉及传感器装置。更具体地讲,本专利技术涉及用于测量在灌装机灭菌单元内 的灭菌物质浓度的传感器装置。 测量物质浓度的传感器装置
技术介绍
用于测定物质的含量、存在或浓度的不同传感器是人们所熟知的 ...
【技术保护点】
一种用于在干扰物的存在下测定开放式样品(130)中物质的浓度的传感器装置,所述传感器装置包括:第一光源(200),其发射被所述物质吸收的第一波长下的脉冲光(S1),第二光源(210),其发射透过所述物质的第二波长下的脉冲光(S2),光学装置(250、252、254、310、320、330、340),其用于沿相同的光路将所发射的所述第一波长和第二波长的脉冲光(S1、S2)的至少一部分引导通过所述开放式样品(130),以及样品检测器(230),其布置在所述光路的末端用于接收所发射的透过所述样品(130)的所述第一波长和第二波长的光(S1、S2),其中所述干扰物作为沉积物形成在暴 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:安德里亚·玛萨利,欧亨尼奥·西吉诺尔菲,波·伦贝里,汉斯·哈尔斯坦迪斯,希勒瓦·德巴克,
申请(专利权)人:利乐拉瓦尔集团及财务有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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