【技术实现步骤摘要】
使用混合酸液无铬刻蚀有机聚合物的方法专利
本专利技术涉及一种使用含锰离子的混合酸溶液无铬刻蚀有机聚合物的方法。更具体地,本专利技术涉及一种使用包含硫酸和至少一种含锰(II)和(III)离子的有机酸的混合酸液无铬刻蚀有机聚合物的方法。专利技术背景在金属化前,含有机聚合物的基体表面通常进行刻蚀而在基体表面和镀覆的金属之间获得较好的附着性。虽然数年来许多化学供应商和镀覆企业做了许多努力来取代目前使用的有毒的刻蚀液,但是目前在市场上仍然无法获得不含六价铬或Cr(VI)的商品。含Cr(VI)的化合物被怀疑能够致癌。因此,处理这些化合物需要遵守严格的环境规程。面对释放Cr(VI)的化合物造成的潜在危险,不能排除禁止含Cr(VI)化合物的工业应用。数年来,在工业上许多化学物质被建议用作湿刻蚀工艺中的无铬氧化剂来改性有机聚合物表面。这些氧化剂包括Mn(VII)、Mn(VI)、Mn(IV)、Ce(IV)、过硫酸盐、H2O2,有机溶剂如二恶烷、Fe、Cu、Ti、Zn和Mg的金属卤化物和氮化物。氧化剂被刻蚀过程或由于氧化剂自身的不稳定性所消耗。因此需要频繁的补充或再生的方法。再生的 ...
【技术保护点】
一种方法,所述方法包括:a.提供包含一种或多种有机聚合物的基材;b.提供一种水性酸溶液,所述水性酸溶液基本由硫酸、一种或多种有机酸以及Mn(II)离子和Mn(III)离子组成;和c.将基材的一种或多种有机聚合物与所述水性酸溶液接触,以刻蚀所述基材的一种或多种有机聚合物。
【技术特征摘要】
2013.04.16 US 13/863,9791.一种用于刻蚀有机聚合物的方法,所述方法包括:a.提供包含一种或多种有机聚合物的基材;b.提供一种水性酸溶液,所述水性酸溶液由硫酸、一种或多种有机酸以及Mn(II)离子和Mn(III)离子、水和一种或多种氧化剂组成,所述氧化剂选自下组:KMnO4、过硫酸盐、无机过氧化物、有机过氧化物、亚氯酸盐、氯酸盐、高氯酸盐、次氯酸盐、四氧化锇、银(II)-氧化物、臭氧、铈(IV)和醋酸铅,其中包含在溶液中的氧化剂能使Mn(II)离子浓度范围为1mmol/L到50mmol/...
【专利技术属性】
技术研发人员:K·魏特邵斯,W·张伯格林格,A·沙耶伯,J·格比,
申请(专利权)人:罗门哈斯电子材料有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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