具有低可见度导体的触屏传感器制造技术

具有低可见度导体的触屏传感器。本发明专利技术涉及一种具有导电微图案的触屏传感器，所述触屏传感器包括一种或多种特征，所述一种或多种特征用来使所述导电微图案模糊化或降低所述导电微图案的可见度。

【技术实现步骤摘要】
具有低可见度导体的触屏传感器 本申请是申请日为2009年2月26日、申请号为200980114049. 7 (国际申请号为 PCT/US2009/035255)、专利技术名称为具有低可见度导体的触屏传感器的专利技术专利申请的分 案申请。 相关专利申请的夺叉引用 本专利申请要求下列美国临时专利申请的优先权：2008年2月28日提交的专利 申请N〇.61/032,269,其全部公开内容以引用方式并入本文；2008年2月28日提交的专利 申请No. 61/032, 273,其全部公开内容以引用方式并入本文；2008年8月1日提交的专利申 请No. 61/085, 496,其全部公开内容以引用方式并入本文；2008年8月1日提交的专利申请 No. 61/085, 799,其全部公开内容以引用方式并入本文；以及2008年8月1日提交的专利申 请No. 61/085, 764,其全部公开内容以引用方式并入本文。
技术介绍
触屏传感器检测施加到触屏显示器表面的物体(如手指或触笔）的位置或设置在 触屏显示器表面附近的物体的位置。这种传感器沿着显示器表面（即在平坦的矩形显示器 的平面内）检测物体的位置。触屏传感器的例子包括电容式传感器、电阻式传感器和投射 电容式传感器。这种传感器包括覆盖显示器的透明导电元件。导电元件与电子元件结合使 用，电子元件使用电信号探测导电元件，以便确定靠近或接触显示器的物体的位置。 在触屏传感器领域，需要在不降低显示器光学质量或性质的情况下改善对透明触 屏传感器的电学特性的控制。典型触屏传感器的透明导电区域包括透明导电氧化物（TC0) (例如铟锡氧化物（ΙΤ0))的连续涂层，该涂层显示具有基于电压源的接触位置和区域总体 形状的电势梯度。该事实导致可能的触摸传感器设计和传感器性能受到约束，并且需要通 过昂贵的信号处理电子器件或设置额外的电极来改变电势梯度。因此，需要对与上述因素 无关的电势梯度进行控制的透明导电元件。
技术实现思路
-种触摸传感器或触敏装置，所述装置具有使导电微图案元件模糊或降低其可见 度的特征。 在一个实施例中对触敏装置作了描述，所述触敏装置包括具有触摸界面和显示界 面的第一可见光透明基底，其中触摸界面朝向触摸输入侧设置，显示界面朝向显示器的输 出侧设置；第二可见光透明基底，所述第二可见光透明基底具有第一表面和第二表面，还具 有由设置在第二可见光透明基底之上或之内的导电微图案构成的触摸感测区域，其中该微 图案包括宽度在约1微米和10微米之间的导体；其中第二可见光透明基底的第一表面朝向 第一可见光透明基底的显示界面设置；并且其中第一可见光透明基底包括降低微图案的可 见度的特征。 在另一个实施例中对触屏传感器作了描述，所述触屏传感器包括设置在可见光透 明基底之上或之内的位于触摸感测区域内的导电微图案，其中该微图案包括宽度在约1微 米和10微米之间的导电迹线；用来降低微图案的可见度的一种或多种微图案模糊化特征。 【附图说明】 结合以下附图对本专利技术的多个实施例的详细说明，可以更全面地理解本专利技术，其 中： 图1示出了触屏传感器1〇〇的示意图； 图2示出了触屏感测区域内对可见光透明的导电区域的透视图； 图3示出了使用UV激光器固化导电性油墨以用于生成微导体的方法； 图4示出了用于生成微导体的凹版印刷法； 图5示出了填充有导电材料的微复制凹槽的剖视图； 图6示出了与填充有导电材料的微复制凹槽电容耦合的手指； 图7示出了在柔性基底上制备的微导体的图案，可用于制备触摸传感器； 图8示出了以顺维方向印刷在柔性网材料上的平行微导体； 图9示出了图8中的柔性材料的一部分，上面增加了额外的互连导体； 图10示出了由图9中的两层材料构造的矩阵触摸传感器的实例的剖视图； 图11示出了触屏传感器的一个实施例的导体微图案； 图12示出了图3所示导体微图案的一部分，该部分包括具有用来调节局部薄层电 阻的选择性断点的导电网格，以及具有触摸垫形式的较大特征； 图13示出了沿图3给定水平网格条的电阻调节，该调节通过邻接的网格中的选择 性断点生成； 图14为模拟图3所示导体微图案性质的电路图，其中电容极板被电阻元件隔开； 图15示出了触屏传感器一个实施例的导体微图案，该微图案包括具有不同薄层 电阻标记为15a_15e的区域，该区域部分地由导电微图案网格内的选择性断点生成； 图15a_15e各不出了图15所不的变化的导体微图案的一部分； 图16示出了与只含有均匀透明导电氧化物ΙΤ0的类似形状区域的单位长度电阻 相比时，沿着其内具有区域15a和15b的楔形透明导电区域的长轴的单位长度电阻分布； 图17示出了层合在一起形成触屏传感器的一个实施例（X-Y网格型投射电容式触 屏传感器）的各层的布置方式； 图18示出了根据图17的触屏传感器的实施例的X层或Y层的导体微图案； 图19示出了图10所示导体微图案的一部分，该部分包括接触具有触摸垫形式的 较大特征的对可见光透明的导电网格，以及网格区域之间的空间内的电气绝缘导体沉积 物； 图20示出了根据图9的触屏传感器的另一个实施例的X层或Y层的导体微图案； 图21示出了图12给定导体微图案的一部分，该部分包括接触具有触摸垫形式的 较大特征的对可见光透明的导电网格，以及网格区域之间的空间内的电气绝缘导体沉积 物； 图22示出了根据图17的触屏传感器的另一个实施例的X层或Y层的导体微图案； 以及 图23示出了图22给定导体微图案的一部分，该部分包括接触具有触摸垫形式的 较大特征的对可见光透明的导电网格，以及网格区域之间的空间内的电气绝缘导体沉积 物。 图24示出了反映触屏传感器光学质量的曲线图，该图为开放区域百分比与导 体迹线宽度(微米)的关系图，其中区域3具有可用于触屏传感器的良好光学质量，区域2 具有比区域3更佳的光学质量，区域1具有三个区域中最佳的光学质量。本文的开放区域 百分比与开放区域比率可互换使用。 图25和图26示出了实例6至40特征性的六边形网格(有时称为六边网格）和 方形网格的几何形状的扫描电子显微图。每一个图像内的光影线表示金属导体的图案，黑 色区域表示实例中使用的基底。 图27、图27a和图27b示出了第一图案化基底的各种部分； 图28、图28a和图28b示出了第二图案化基底的各种部分； 图29示出了由图27和图28的第一图案化基底和第二图案化基底构造的透明的 投射电容式触屏传感器元件。 图30示出了触屏感测区域内对可见光透明的导电区域的透视图； 图31示出了设置在手指和微图案化微导体之间的微图案模糊化特征。 附图未必按比例绘制。在附图中使用的相同的标号表示相同的部件。然而，应当理 解，在给定附图中使用标号指示部件并非意图限制另一个附图中用相同标号标记的部件。 【具体实施方式】 在下面的描述中，参考形成本说明之一部分的附图，并且其中通过图示说明若干 具体实施例。应当理解，在不偏离本专利技术的范围或精神的前提下可以设想其他的实施例并 进行实施。因此，以下的详细描述不应被理解成具有限定意义。 除非另外本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有触敏表面的触屏传感器，包括：设置在可见光透明基底之上或之内的位于触摸感测区域内的导电微图案，其中所述导电微图案包括宽度在约1微米和10微米之间的导电迹线；以及一种或多种微图案模糊化特征，所述微图案模糊化特征位于设置在所述微图案和所述触敏表面之间的具有基本均匀光密度的连续层中，用来降低所述微图案的可见度。

【技术特征摘要】
2008.02.28 US 61/032,273;2008.02.28 US 61/032,269;1. 一种具有触敏表面的触屏传感器，包括： 设置在可见光透明基底之上或之内的位于触摸感测区域内的导电微图案，其中所述导 电微图案包括宽度在约1微米和10微米之间的导电迹线；以及 一种或多种微图案模糊化特征，所述微图案模糊化特征位于设置在所述微图案和所述 触敏表面之间的具有基本均匀光密度的连续层中，用来降低所述微图案的可见度。2. 根据权利要求1所述的触屏传感器，其中所述连续层与不同于所述可见光透明基底 的基底相关。3. 根据权利要求1所述的触屏传感器，其中所述连续层包括偏振器。4. 根据权利要求1所述的触屏传感器，其中所述连续层包含防眩或糙面精整层。5. 根据权利要求1所述的触屏传感器，其中所述微图案包含在所述微图案内的伪随机 变化...

【专利技术属性】
技术研发人员：伯纳德·O·杰亚甘，爱德华·S·哈格莫泽，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US