覆铜箔设备制造技术

技术编号:10501408 阅读:73 留言:0更新日期:2014-10-04 18:07
本实用新型专利技术公开了一种覆铜箔设备,上输送装置平行位于下输送装置上方,位于上、下输送装置前方一端的结合平台纵向能升降,两个结合支架分别位于结合平台左右方向两侧的上方,钢板平台位于结合平台前方的一端,上、下吸取装置分别能够沿纵向和前后方向往复移动,上吸取装置上设有两个沿纵向延伸的上吸盘,下吸取装置上设有两沿纵向延伸的下吸盘,两上吸盘分别分布于上输送装置左右两侧,两个下吸盘分别分布于下输送装置左右两侧,上、下吸盘上分别设有若干与上、下输送带上铜箔相对应的上、下吸嘴,钢板输送装置能够将钢板平台上的钢板移动到结合支架上,本实用新型专利技术有效的提高了生产效率,避免了下铜箔在移动过程中与其它结构发生摩擦导致损伤。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种覆铜箔设备,包括底座(10)、上、下输送装置(20、30)、结合平台(40)、结合支架(50)、钢板平台(60)、钢板输送装置(90)和上、下吸取装置(70、80),以使用方向为基准,上、下输送装置分别定位于底座上,且上输送装置平行位于下输送装置的上方,设上下输送装置输送方向为前后方向,设水平面上垂直与上下输送装置的输送方向的方向为左右方向,结合平台纵向能够升降定位于底座上,且结合平台位于上、下输送装置前方的一端,两个结合支架固定定位于底座上,且该两个结合支架分别位于结合平台左右方向两侧的上方,钢板平台固定于底座上,且钢板平台位于结合平台前方的一端,上、下吸取装置分别能够沿纵向和前后方向往复移动定位于底座上,上吸取装置上设有两个沿纵向延伸的上吸盘(71),下吸取装置上设有两个沿纵向延伸的下吸盘(81),两个上吸盘分别分布于上输送装置的左右两侧,两个下吸盘分别分布于下输送装置的左右两侧,上、下吸盘上分别设有若干与上、下输送带上铜箔相对应的上、下吸嘴(711、813),钢板输送装置能够将钢板平台上的钢板移动到结合支架上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:施元中
申请(专利权)人:昆山巨闳机械科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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