发光二极管的承载座制造技术

一种发光二极管的承载座，包括：具有二长边的一绝缘体；以及具有支架的一导线架，绝缘体成型于支架，支架具有一断开处，支架则以断开处为界区分出一第一引脚和一第二引脚，第一引脚对应二长边开设有二缺凹部。藉此，以能增加绝缘体在射出成型于支架时的流动空间，使绝缘体的长边不再缺料而能完整成型所需的凹杯。

【技术实现步骤摘要】
发光二极管的承载座
本技术涉及一种种承载座，特别涉及一种能增加绝缘体流动空间的一种发光二极管的承载座。
技术介绍
关于发光二极管的承载座，包括一导线架以及局部包覆导线架的一绝缘体。其中，导线架为由金属材料制成，且导线架具有一连接架；绝缘体则以射出成型技术，成型于连接架，藉以成型具有凹杯的绝缘体。 惟，现有承载座在成型长形绝缘体时，常在绝缘体的相对二长边处发生缺料情况，导致凹杯无法完整成型，影响发光芯片的光反射状况，却一直无法有效解决，早为人所垢病已久。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种发光二极管的承载座，能增加绝缘体在射出成型于支架时的流动空间，使绝缘体的长边不再缺料而能完整成型所需的凹杯。 为达上述目的，本技术提供一种发光二极管的承载座，其包括: 一绝缘体,具有一对长边；以及 一导线架，具有一支架，该绝缘体成型于该支架，该支架具有一断开处，该支架以该断开处为界区分出一第一引脚和一第二引脚，该第一引脚对应该对长边开设有一对缺凹部。 上述的发光二极管的承载座，其中各该缺凹部呈矩形状。 上述的发光二极管的承载座，其中各该缺凹部呈截角状。 上述的发光二极管的承载座，其中各该缺凹部平行于各该长边。 上述的发光二极管的承载座，其中该绝缘体通过该对缺凹部成型于该支架。 上述的发光二极管的承载座，其中该第一引脚具有一第一侧、对应于该第一侧的一第二侧、一第一面和对应于该第一面的一第二面，该第一侧和该第二侧连接于该第一面与该第二面之间而形成框围状，该对缺凹部分别开设于该第二面与该第一侧和该第二侧的连接处。 上述的发光二极管的承载座，其中该第二面为该第一引脚的底面。 相较于现有技术，本技术具有以下功效:能增加绝缘体在射出成型于支架时的流动空间。 以下结合附图和具体实施例对本技术进行详细描述，但不作为对本技术的限定。 【附图说明】 图1为本技术承载座中的导线架于一视角时的立体图； 图2为本技术承载座中的导线架于另一视角时的立体图； 图3为本技术依据图1的俯视图； 图4为本技术依据图3的4-4剖视图； 图5为本技术承载座于一视角时的立体图； 图6为本技术承载座于另一视角时的立体图； 图7为本技术依据图5的俯视图； 图8为本技术依据图7的8-8剖视图； 图9为本技术另一实施例的剖视图。 其中，附图标记 I…导线架 11…支架 1 11…第一引脚 Illa …第一面 Illb …第二面 11 Ic…第一侧 11 Id…第二侧 112…第二引脚 113…断开处 114、114a …缺凹部 2…绝缘体 21…长边 22…灌注部位 【具体实施方式】 为了能够更进一步了解本技术的特征、特点和
技术实现思路
，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，惟所附的附图仅提供参考与说明用，非用以限制本技术。 本技术提供一种发光二极管的承载座，如图1~图4是在揭示本技术承载座中的导线架I第一实施例，如图5~图8是在揭不本技术承载座的第一实施例,如图9则在揭示本技术承载座的第二实施例。 如图5、图6所示,本技术承载座包括一导线架I以及一绝缘体2。绝缘体2具有一对长边21和一对短边(未标示符号)，并据此形成长条框围状(见图5)。 如图1、图2所示，导线架I具有一框体(未标示符号)和连接于框体内的一支架11，前述绝缘体2即藉由射出成型技术成型于支架11。支架11具有一断开处113，以断开处113为界则将支架11区分出一第一引脚111和一第二引脚112，使第一引脚111的自由端和第二引脚112的自由端是能隔着断开处113彼此相对。 如图3、图4所示，第一引脚111具有一第一侧111c、对应于第一侧的一第二侧IllcU—第一面Illa和对应于第一面的一第二面111b，第一侧Illc和第二侧Illd则连接于第一面Illa与第二面Illb之间而形成框围状(见图4)，其中，第一面Illa是可属于第一引脚111的顶面，第二面Illb是可属于第一引脚111的底面，至于第一侧Illc和第二侧Illd则可属于第一引脚111的左侧和右侧。第一引脚111并开设有一对缺凹部114(例如藉由挤压成型出缺凹部114)，具体说明如下。 如图5?图8所示，前述的二缺凹部114是分别开设于第二面Illb与第一侧Illc的连接处以及第二面Illb与第二侧Illd的连接处，值得注意的是，二缺凹部114是对应绝缘体2的二长边21开设，换言之，如图7所示，缺凹部114是与长边21大致平行。 如图7、图8所示，当从导线架I的下方朝上以射出成型技术成型所需的绝缘体2时，将能通过二缺凹部114而增加绝缘体2 (仍为流体状态)的流动空间，使绝缘体2的二相对长边21处不再发生缺料状况，承载座的凹杯(未标示符号)乃能完整成型而不会影响发光芯片(图中未示)的光反射状况。此外，如图6所示，即揭示绝缘体2自下方朝上灌注并成型后所形成的灌注部位22。 如图9所示的本技术承载座第二实施例，其结构大致与第一实施例相同，仅缺凹部的形状存在差异，但皆能达到相同的功效。如图4、图8所示的第一实施例中，缺凹部114于剖视时是呈矩形状；如图9所示的第二实施例中，缺凹部114a于剖视时则呈截角状(或三角形状)，惟无论形状为何，绝缘体2在射出成型时皆能通过缺凹部114(114a)而增加流动空间。 综上所述，本技术相较于现有技术具有以下功效:能增加绝缘体2在射出成型于支架11时的流动空间，使绝缘体2的长边21不再缺料，从而能完整成型所需的凹杯。 当然，本技术还可有其它多种实施例，在不背离本技术精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本技术作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本技术所附的权利要求的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光二极管的承载座，其特征在于，包括：一绝缘体，具有一对长边；以及一导线架，具有一支架，该绝缘体成型于该支架，该支架具有一断开处，该支架以该断开处为界区分出一第一引脚和一第二引脚，该第一引脚对应该对长边开设有一对缺凹部。

【技术特征摘要】
1.一种发光二极管的承载座，其特征在于，包括: 一绝缘体，具有一对长边；以及 一导线架，具有一支架，该绝缘体成型于该支架，该支架具有一断开处，该支架以该断开处为界区分出一第一引脚和一第二引脚，该第一引脚对应该对长边开设有一对缺凹部。2.根据权利要求1所述的发光二极管的承载座，其特征在于，各该缺凹部呈矩形状。3.根据权利要求1所述的发光二极管的承载座，其特征在于，各该缺凹部呈截角状。4.根据权利要求1所述的发光二极管的承载座，其特征在于，各该缺凹部...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛宇淳，林明宪，
申请(专利权)人：一诠精密电子工业中国有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32