一种触摸屏、触摸显示面板和触摸显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术的实施例提供了一种触摸屏、ON-CELL式触摸显示面板和触摸显示装置，包括：基板；位于所述基板上的触摸结构层，所述触摸结构层包括多个透明导电图形；至少覆盖所述透明导电图形边缘的抗反射图形。本发明专利技术的实施例所提供的触摸屏、触摸显示面板和触摸显示装置用抗反射图形覆盖触摸屏中透明导电图形的边缘和/或多个透明导电图形之间的区域，显著降低了触摸屏中透明导电图形在环境光下的可见性，提升了显示效果。

【技术实现步骤摘要】
一种触摸屏、触摸显示面板和触摸显示装置
本专利技术涉及触摸屏领域，尤其涉及一种触摸屏，以及包含该触摸屏的触摸显示面板和触摸显示装置。
技术介绍
触摸屏可以作为一种通过显示幕对电子装置进行操作的界面工具，允许用户直接在加有触摸屏的触摸显示装置表面通过点触或手写的方式输入信息，比鼠标、键盘等输入设备更友好、方便，因此越来越广泛地被应用于各种便携式设备上。根据所使用的接触物的类型（如手指、笔等）以及确认点（接触物对触摸屏进行操作的位置）方式的不同，触摸屏可以分为电阻式、电容式、表面声波式、红外式等等。目前被广泛使用的是电容式触摸屏技术。在公开号为CN102193700A的中国专利技术专利中，可以发现更多与电容触摸屏相关的技术。根据具有触摸检测功能的触摸结构层与显示面板的相对位置关系，触摸屏可以分为外挂式、ON-CELL式和IN-CELL式（或内嵌式）。其中，触摸结构层可以设置于基板靠近人眼的表面上。特别是ON-CELL式触摸屏中触摸结构层设置于显示面板的彩膜基板的外表面上。如图1所示，触摸结构层102设置于基板101靠近人眼的表面上。通常基板为透明基板，材料可以为玻璃或石英等。触摸结构层102包括多个透明导电图形102a、102b等，该透明导电图形102通常采用ITO等材料。ITO等透明导电图形102在环境光线（特别是强光）中的可见，一直是困扰触摸屏特别是ON-CELL式触摸屏应用的一个重要问题。美国授权专利（授权号为US8068186B2）公开了一种降低ON-CELL式触摸屏中透明导电图形可见性的技术方案。但该技术方案需要增加符合特定要求的绝缘层，材料的选择范围有限。
技术实现思路
本专利技术的实施例所要解决的一个技术问题是，现有技术的触摸屏中透明导电图形在环境光下可见，影响显示效果。为了解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供了一种触摸屏，包括：基板；位于所述基板上的触摸结构层，所述触摸结构层包括多个透明导电图形；至少覆盖所述透明导电图形边缘的抗反射图形。作为一种优选的实施方式，所述抗反射图形仅覆盖所述透明导电图形边缘。其中，所述仅覆盖所述透明导电图形边缘的抗反射图形的宽度的尺寸范围可为2微米～20微米；更加优选的尺寸范围可为2微米～4微米。作为另一种优选的实施方式，所述抗反射图形还覆盖所述多个透明导电图形之间的区域。其中，所述覆盖所述透明导电图形边缘并且覆盖所述多个透明导电图形之间的区域的抗反射图形的宽度的尺寸范围为4微米～40微米；更加优选的尺寸范围可为5微米～8微米。优选的，上述触摸屏中的抗反射图形可以采用黑色材料。本专利技术的实施例还提供了一种触摸显示面板，包括：显示面板；位于所述显示面板上的触摸结构层，所述触摸结构层包括多个透明导电图形；至少覆盖所述透明导电图形边缘的抗反射图形。通常，所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板，所述触摸结构层设置于所述第一基板背向所述第二基板的表面上。作为一种优选的实施方式，所述抗反射图形仅覆盖所述透明导电图形边缘。其中，所述仅覆盖所述透明导电图形边缘的抗反射图形的宽度的尺寸范围可为2微米～20微米；更加优选的尺寸范围可为2微米～4微米。作为另一种优选的实施方式，所述抗反射图形还覆盖所述多个透明导电图形之间的区域。其中，所述覆盖所述透明导电图形边缘并且覆盖所述多个透明导电图形之间的区域的抗反射图形的宽度的尺寸范围为4微米～40微米；更加优选的尺寸范围可为5微米～8微米。优选的，上述触摸屏中的抗反射图形可以采用黑色材料。优选的，所述显示面板为液晶显示面板或OLED显示面板或等离子显示面板或电子纸。本专利技术的实施例还提供了一种包括上述触摸显示面板的触摸显示装置。相对于现有技术而言，本专利技术的实施例所提供的触摸屏、触摸显示面板和触摸显示装置用抗反射图形覆盖触摸屏中透明导电图形的边缘和/或多个透明导电图形之间的区域，显著降低了触摸屏中透明导电图形在环境光下的可见性，提升了显示效果。附图说明图1为现有技术的ON-CELL式触摸屏剖视结构示意图；图2为本专利技术实施例一提供的触摸屏的俯视结构示意图；图3为图2沿A-A’的剖视图；图4为本专利技术实施例二提供的触摸屏的俯视结构示意图；图5为图4沿B-B’的剖视图；图6为本专利技术实施例三提供的触摸屏的俯视结构示意图；图7为图6沿C-C’的剖视图；图8为本专利技术实施例四提供的触摸屏的俯视结构示意图；图9为图8沿D-D’的剖视图；图10为本专利技术实施例五提供的触摸屏的俯视结构示意图；图11为图10沿E-E’的剖视图；图12为本专利技术实施例六提供的触摸屏的俯视结构示意图；图13为图12沿F-F’的剖视图；图14为本专利技术实施例七提供的ONCELL式的触摸显示面板剖视结构示意图。具体实施方式经专利技术人的研究和实验发现，现有技术的触摸屏中，透明导电图形可见（尤其是环境光强时）的主要原因可能有两个，一个是透明导电图形的边缘及侧面（如图1中虚线圈所示）对入射光Inputlight造成异常反射；另一个是环境中的入射光Inputlight入射到触摸屏表面上，在有透明导电图形覆盖的区域（如图1中S1所示）的表面和没有透明导电图形覆盖的区域（如图1中S2所示）的表面对入射光Inputlight的反射率不同。为了降低透明导电图形的可见性，本专利技术的核心思想是用抗反射图形将透明导电图形的边缘和/或没有透明导电图形覆盖的区域（或者说多个透明导电图形之间的区域）遮盖，这样覆盖透明导电图形的边缘和/或多个透明导电图形之间的区域的抗反射图形对光的反射率很小，甚至可以忽略不计，因此几乎只有透明导电图形覆盖的区域的对入射光进行反射；控制抗反射图形的尺寸，使其对人眼不可见。这样就能大大降低透明导电图形的可见性。实施例一图2为本专利技术实施例一提供的触摸屏的俯视结构示意图。图3为图2沿A-A’的剖视图。如图2和图3所示，本专利技术实施例一提供的触摸屏，包括：基板201，该基板201可以采用玻璃、石英、塑料等透明材料。该触摸屏在靠近人眼(eyes)的方向上依次包括位于基板201上的触摸结构层202；覆盖透明导电图形202a、202b边缘（图3中虚线圈所示）的抗反射图形203。抗反射图形203可以和透明导电图形直接接触，也可以不与透明导电图形直接接触。图2所示为电容式触摸屏。从图2中可以看出，该触摸结构层202包括多条驱动线2021、与多条驱动线2021垂直交叉的多条感应线2022；多条驱动线2021和多条感应线2022通常采用透明导电材料，构成多个透明导电图形202a、202b。图3中，多条感应线2022与多条驱动线2021位于同一层，这样每一条感应线2022被多条驱动线2021分割成多段。在交叉处2023，同一条感应线2022的两段通过跨桥金属2024连接，跨桥金属2024与驱动线2021通过设置于二者之间的绝缘层2025绝缘。当然，也可以是2021为感应线，2022为驱动线。其中，透明导电图形的材料可以为ITO、IZO或者二者的组合；透明导电图形可以由单层透明材料或多层透明材料构成。抗反射图形203优选采用黑色材料，反射率很低，同时黑色的抗反射图形203透射率也很低。具体的说，图3中抗反射图形203覆盖在透明导电图形202a、202b的边缘，这样就减少甚至消除了透明导电图形202a、202b的边缘对入射光I本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸屏，包括：基板；位于所述基板上的触摸结构层，所述触摸结构层包括多个透明导电图形；至少覆盖所述透明导电图形边缘的抗反射图形。

【技术特征摘要】
1.一种触摸屏，包括：基板；位于所述基板上朝向环境光的入射方向的触摸结构层，所述触摸结构层包括多个透明导电图形；覆盖所述透明导电图形边缘以及所述多个透明导电图形之间的区域，且不覆盖所述透明导电图形的非边缘区域的抗反射图形；所述抗反射图形采用黑色材料。2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述覆盖所述透明导电图形边缘并且覆盖所述多个透明导电图形之间的区域的抗反射图形的宽度的尺寸范围为4微米～40微米。3.根据权利要求2所述的触摸屏，其特征在于，所述覆盖所述透明导电图形边缘并且覆盖所述多个透明导电图形之间的区域的抗反射图形的宽度的尺寸范围为5微米～8微米。4.一种触摸显示面板，包括：显示面板；位于所述显示面板上朝向环境光的入射方向的触摸结构层，所述触摸结构层包括多个透明导电图形；覆盖所述透明导电图形边缘以及所述多个透明导电图形之间的区域，且不...

【专利技术属性】
技术研发人员：楼均辉，王丽花，
申请(专利权)人：上海天马微电子有限公司，天马微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31