一种载玻片架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种载玻片架。它包括上支架、下支架和至少1个提手；所述上支架和所述下支架通过所述提手相连接，所述上支架与所述下支架之间设有间距，且该间距可调，所述上支架设于所述下支架的上部；所述上支架和所述下支架上均设有若干对能容纳载玻片的凹槽，且设于所述上支架上的凹槽与设于所述下支架上的凹槽的数量相等且位置相对应；所述下支架上设有承载载玻片的支撑平面；所述提手与所述上支架和所述下支架之间为活动连接。本实用新型专利技术可应用于大批量的载玻片的清洗与表面化学处理。本实用新型专利技术规范了载玻片的清洗与表面化学处理过程；提高了微阵列基片的生产效率与质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种载玻片架，特别涉及一种容纳载玻片且用于载玻片清洗、离 心、烘干与表面化学处理的载玻片架。 一种载玻片架
技术介绍
微阵列芯片作为一种快速高效的检测工具而广泛应用于疾病预测与诊断、基因组 功能研究、突变检测、SNP分析、药物筛选、法医鉴定、环境监测等。微阵列芯片是将大量特 定序列的DNA、蛋白或其他生物组份为探针点，以矩阵形式固定于微阵列基片上，目前的微 阵列基片大多采用经过表面化学处理后的特殊载玻片。 载玻片的表面化学处理极为重要，它直接影响探针点与载玻片的结合强度与效 率，进而影响结果的检出。由于载玻片表面覆有碎屑、污物等，在各种化学处理前必需清 洗。一般地，载玻片清洗过程包括：铬酸洗液浸泡、10%Na0H清洗、1%HC1清洗、超纯水清洗后 甩干等工序。清洗洁净后的载玻片，进行表面化学处理。表面化学处理过程包括：载玻片烘 干、化学反应、清洗、甩干、烘干等工序。 载玻片的清洗过程与表面化学处理过程，具有如下特点： (1)为节省成本与减少微阵列基片批间差异，需要一次性清洗与表面化学处理的 载玻片数量很多。 (2)载玻片之间不得相互接触与碰撞，以防划伤。 ( 3)涉及到的工序很多，这些工序在不同的工位上完成，因此需要载玻片在工位之 间传递。 (4)为防止污染与交叉反应，上一道工序用到的试剂不能随载玻片或容纳载玻片 的工具带到下一道工序。 (5)载玻片需要在铬酸洗液中长时间浸泡(如过夜)，并且可能接触到的化学试剂 种类很多，如：强酸、碱液、超纯水、醇类、APTES、Poly-L-Lysine、DETA、戊二醛等。 (6)载玻片需要离心，需要在一定温度条件下烘干。 以上特点决定了载玻片的清洗与表面化学处理过程需要一种载玻片架，并且，此 种载玻片架必须满足如下要求： (1)能容纳尽可能多的载玻片； (2)材料能耐受强酸、强碱、醇类、醛类等试剂； (3)材料不能太坚硬，足够柔性，以防止碰伤、划伤载玻片； (4)材料能承受高温； (5)结构有提手，方便在工序间流转； (6)结构无死角，防止清洗后试剂残留； (7)结构能承受一定离心力。 目前，对于载玻片架，已有许多文献与宣传资料报道。根据公开的载玻片架文献或 产品宣传资料，载玻片架的材料多用不锈钢、铜等金属，不但太坚硬容易碰伤、划伤载玻片， 而且生物惰性不好容易污染试剂；有的载玻片架用玻璃材料，能容纳的载玻片数量太少且 不适合离心；另外，结构上大多存在易残留试剂的死角。对于完全能满足上述要求的载玻片 架，尚未见到公开报道。为此，有必要开发满足上述要求的载玻片架，对规范操作与提高载 玻片的清洗与表面化学处理的高效性、可靠性，进而推动微阵列芯片的实际应用具有重要 商业价值。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种载玻片架，具有结构简单、操作方便、性能可靠、清 洗后无残留的特点，能够用于载玻片的清洗与表面化学处理。 本技术所提供的一种载玻片架，包括上支架、下支架和至少1个提手； 所述上支架和所述下支架通过所述提手相连接，所述上支架与所述下支架之间设 有间距，且该间距可调，所述上支架设于所述下支架的上部； 所述上支架和所述下支架上均设有若干对能容纳载玻片的凹槽，且设于所述上支 架上的凹槽与设于所述下支架上的凹槽的数量相等且位置相对应； 所述下支架上设有承载载玻片的支撑平面； 所述提手与所述上支架和所述下支架之间为活动连接。 上述的载玻片架，所述提手可为U形提手；可选择柔软且生化惰性好的塑料棒材 制成； 所述U形提手的2个侧壁通过设于所述上支架和所述下支架上的通孔I与所述上 支架和所述下支架相连接，且所述U形提手与所述通孔I之间为间隙配合； 所述U形提手的2个侧壁上设有能控制所述上支架和/或所述下支架的相对位置 的限位机构，以控制所述上支架与所述下支架之间的距离。 上述的载玻片架，所述限位机构为套设于所述U形提手的侧壁上的凸起，所述凸 起的最大长度大于所述通孔I的直径，以卡住所述上支架。 上述的载玻片架，所述上支架的下表面设有供离心机吊篮支撑的凹面，可用于离 心。 上述的载玻片架，所述下支架的下表面上设有至少1个通孔II，以使液体试剂流 出，优选设于所述支撑平面上。 上述的载玻片架，所述上支架和所述下支架上均设有容纳载玻片的凹槽的数量为 1?1000对。 本技术提供的载玻片架，其中的上支架、下支架和提手均可以由聚四氟乙烯、 聚碳酸酯、聚丙烯、聚乙烯中的一种或几种制成；由于聚四氟乙烯惰性极好且有柔性，优先 选择。 本技术由于采取以上设计，具有以下优点： 1、本技术能一次性大批量清洗载玻片并进行表面化学处理，可以提高生产批 量，同时节省成本与减少微阵列基片批间差异。 2、本技术选择惰性很好的塑料，如：聚四氟乙烯，不但耐受高温，而且能耐受 强酸、强碱、醇类、醛类等试剂，避免在清洗与表面化学处理过程中发生反应而带来污染。 3、本技术采用的材料具有柔性，并且设计有分隔载玻片的凹槽结构，能避免 碰伤、划伤载玻片与产生玻璃碎屑。 4、本技术设计有提手，方便人手或机械手在工序间高效流转。 5、本技术的结构设计无死角，且提手与上支架、下支架之间为活动连接，可以 有效避免试剂残留，防止试剂由上道工序带到下道工序。 6、本技术设计有供离心机吊篮支撑的平面，可用于离心。 7、本技术的可制造性好，可以采用机加工工艺制造。 本技术可应用于大批量的载玻片的清洗与表面化学处理。本技术规范了 载玻片的清洗与表面化学处理过程；提高了微阵列基片的生产效率与质量；对推动微阵列 芯片在疾病预测与诊断、指导用药、生命科学基础研究、农业及环境监测、食品卫生检测、司 法鉴定等领域的实际应用具有重要商业价值。 【附图说明】 图1是本技术载玻片架的立体图。 图2是本技术载玻片架的前视图。 图3是本技术载玻片架拆卸后的立体图。 图4是本技术载玻片架中上支架的立体图。 图5是本技术载玻片架中下支架的立体图。 图6是本技术载玻片架中提手的立体图。 图7为本技术载玻片架装载载玻片后的立体图。 图8为将本技术生产的微阵列基片用于新生儿遗传性耳聋基因检测的结果 扫描图。 图中各标记如下： 1上支架、2下支架、3提手、4凹槽、5支撑平面、6通孔I、7限位结构、8凹面、9通 孔II。 【具体实施方式】 下面结合附图对本技术做进一步说明，但本技术并不局限于以下实施 例。 如图1?图6所示，为本技术提供的载玻片架，由上支架1、下支架2与两个U 形的提手3组成。其中，上支架1和下支架2上有三组共87对凹槽4,能够容纳87片载玻 片；下支架2上有承载载玻片的支撑平面5 ;提手3连接上支架1与下支架2,连接方式为活 动连接，活动连接是指上支架1或/与下支架2相对于提手3能发生一定量的上下、左右或 前后移动。 提手3选择柔软且惰性好的聚四氟乙烯棒材制成；上支架1和下支架2上均有通 孔I 6,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种载玻片架，其特征在于：它包括上支架、下支架和至少1个提手；所述上支架和所述下支架通过所述提手相连接，所述上支架与所述下支架之间设有间距，且该间距可调，所述上支架设于所述下支架的上部；所述上支架和所述下支架上均设有若干对能容纳载玻片的凹槽，且设于所述上支架上的凹槽与设于所述下支架上的凹槽的数量相等且位置相对应；所述下支架上设有承载载玻片的支撑平面；所述提手与所述上支架和所述下支架之间为活动连接。

【技术特征摘要】
1. 一种载玻片架，其特征在于：它包括上支架、下支架和至少1个提手； 所述上支架和所述下支架通过所述提手相连接，所述上支架与所述下支架之间设有间 距，且该间距可调，所述上支架设于所述下支架的上部； 所述上支架和所述下支架上均设有若干对能容纳载玻片的凹槽，且设于所述上支架上 的凹槽与设于所述下支架上的凹槽的数量相等且位置相对应； 所述下支架上设有承载载玻片的支撑平面； 所述提手与所述上支架和所述下支架之间为活动连接。2. 根据权利要求1所述的载玻片架，其特征在于：所述提手为U形提手； 所述U形提手的2个侧壁通过设于所述上支架和所述下支架上的通孔I与所述上支架 和所述下支架相连接，且所述U形提手与所述通孔I之间为间隙配...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲜飞军，
申请(专利权)人：博奥生物集团有限公司，清华大学，
类型：新型
国别省市：北京;11