高吸收率太阳能薄膜制造技术

一种高吸收率太阳能薄膜，包括薄膜衬底和高吸收率太阳能薄膜的多层膜(100)，所述的高吸收率太阳能薄膜包括四种膜层:AlN膜层、Si膜层、HfO2膜层和SiO2膜层共34层。实验表明，本发明专利技术高吸收率太阳能薄膜在正入射条件下实现了可见光波段吸收率大于94％，红外波段的发射率小于10％，该薄膜在太阳能电池系统中具有重要的实用前景。

【技术实现步骤摘要】
高吸收率太阳能薄膜
本专利技术涉及太阳能，特别是一种高吸收率太阳能薄膜。
技术介绍
太阳能作为清洁能源已经从军事领域、航天领域进入工业、商业、农业、通信、家 用电器以及公用设施等领域。根据所用的材料，太阳能电池可分为：硅太阳能电池、多 元化合物薄膜太阳能电池、聚合物多层修饰电极型太阳能电池、纳米晶太阳能电池、有 机太阳能电池、塑料太阳能电池。通常情况下，太阳能电池包括导电层、缓冲层、吸收层、 导电层及减反射层等组成。硅基太阳能包括单晶（参见CN103227238A，CN20355965A， CN202977492U，CN103107233A，CN103000718A)、多晶（参见 CN103383970A，CN202977431A) 及非晶（参见CN202651133U，CN203026541U，CN102983204A)材料，多元化合物薄膜包含碲 化镉（参见 CN201503863U，CN103681932A)，Cu2ZnSnS4(CN103715282A),铜铟锡层（参见 CN203503667U，CN103531663A)，CZTSSe (参见 CN本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高吸收率太阳能薄膜，其特征在于包括薄膜衬底(200)和高吸收率太阳能薄膜的多层膜(100)，所述的高吸收率太阳能薄膜的多层膜(100)包括四种膜层:AlN膜层(3)、Si膜层(2)、HfO2膜层(3)和SiO2膜层(4)共34层，在所述的薄膜衬底(200)上依次的膜系结构为：膜层材料厚度(nm)膜层材料厚度(nm)1AlN1638.921AlN59.22Si1239.922Si1561.83AlN146.823AlN21.74Si153.524Si1557.25AlN237.125AlN50.16Si125.926Si745.47AlN167.827AlN371.48Si101.128Si...

【技术特征摘要】
1. 一种高吸收率太阳能薄膜，其特征在于包括薄膜衬底（200)和高吸收率太阳能薄膜 的多层膜（100)，所述的高吸收率太阳能薄膜的多层膜（100)...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐红基，王虎，王斌，王胭脂，易葵，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31