【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】荧光体及其制备方法、发光装置及图像显示装置
本专利技术涉及荧光体、其制备方法及其用途。该荧光体至少包含含有A元素、D元素、X元素(A为选自Li、Mg、Ca、Sr、Ba的一种或两种以上的元素;D为选自Si、Ge、Sn、Ti、Zr、Hf的一种或两种以上的元素;X为选自O、N、F的至少一种元素)、和根据需要含有E元素(E为选自B、Al、Ga、In、Sc、Y、La的一种或两种以上的元素)的由A3(D,E)8X14所示的结晶(固溶体结晶)、由Sr3Si8O4N10所示的结晶、具有与Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶、或这些结晶的固溶体中固溶有M元素(其中,M为选自Mn、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Yb的至少一种元素)的无机化合物。
技术介绍
荧光体被用于真空荧光显示器(VFD(Vacuum-FluorescentDisplay))、场发射显示器(FED(FieldEmissionDisplay))或表面传导电子发射显示器(SED(Surface-ConductionElectron-EmitterDisplay))、等离子显示器面板(PDP(PlasmaDisplayPanel))、阴极射线管(CRT(Cathode-RayTube))、液晶显示器背光光源(Liquid-CrystalDisplayBacklight)、白色发光二极管(LED(Light-EmittingDiode))等。在这些的任一用途中,为了使荧光体发光,都需要向荧光体提供用于激发荧光体的能量。荧光体可以由真空紫外线、紫外线、电子束、蓝色光等具有高能量的激发源 ...
【技术保护点】
一种荧光体,至少包含含有A元素、D元素、和X元素(其中,A为选自Li、Mg、Ca、Sr、Ba的一种或两种以上的元素;D为选自Si、Ge、Sn、Ti、Zr、Hf的一种或两种以上的元素;X为选自O、N、F的一种或两种以上的元素)或根据需要含有E元素(其中,E为选自B、Al、Ga、In、Sc、Y、La的一种或两种以上的元素)的由Sr3Si8O4N10所示的结晶、或具有与Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶中固溶有M元素(其中,M为选自Mn、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Yb的一种或两种以上的元素)的无机化合物。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.05.31 JP 2012-1240191.一种荧光体,至少包含含有A元素、D元素、和X元素或根据需要含有E元素的由Sr3Si8O4N10所示的结晶、或具有与Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶中固溶有M元素的无机化合物,其中,A为选自Li、Ca、Sr的一种或两种以上的元素;D为Si;X为选自O、N的一种或两种的元素;E为选自B、Al的一种或两种的元素,M为选自Mn、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Yb的一种或两种以上的元素;具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶为单斜晶系的结晶,并且具有空间群P21/n的对称性,晶格常数a、b、c为a=0.48170±0.05nmb=2.42320±0.05nmc=1.05600±0.05nm的范围的值。2.根据权利要求1所述的荧光体,其中,具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶是其组成为A3(D,E)8X14所示的结晶,所述由A3(D,E)8X14所示的结晶,至少在A元素中包含Sr或Ca,或根据需要在E元素中包含Al,在X元素中包含N,根据需要在X元素中包含O。3.根据权利要求1所述的荧光体,其中,具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶是Sr3Si8O4N10、Ca3Si8O4N10、或(Sr,Li)3Si8O4N10。4.根据权利要求1所述的荧光体,其中,具有与所述Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶由Sr3Si8-xAlxN10-xO4+x、Ca3Si8-xAlxN10-xO4+x、或(Sr,Li)3Si8-xAlxN10-xO4+x的组成式表示,其中,0≦x≦8。5.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述M元素为Eu。6.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述无机化合物由组成式MdAeDfEgXh所表示,并且由参数d、e、f、g、h满足0.00001≦d≦0.050.05≦e≦0.30.15≦f≦0.40≦g≦0.150.45≦h≦0.65的所有条件的范围的组成所表示,其中,公式中d+e+f+g+h=1,并且M为选自Mn、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Yb的一种或两种以上的元素。7.根据权利要求6所述的荧光体,其中,所述参数d、e、f、g、h为满足d+e=(3/25)±0.05f+g=(8/25)±0.05h=(14/25)±0.05的所有条件的范围的值。8.根据权利要求6所述的荧光体,其中,所述参数f、g满足3/8≦f/(f+g)≦8/8的条件。9.根据权利要求6所述的荧光体,其中,所述X元素包含N和O,由组成式MdAeDfEgOh1Nh2所表示,并且满足0/14≦h1/(h1+h2)≦8/14的条件,其中,公式中d+e+f+g+h1+h2=1、及h1+h2=h。10.根据权利要求6所述的荧光体,其中,所述M元素至少包含Eu。11.根据权利要求6所述的荧光体,其中,作为所述A元素至少包含Sr或Ca,根据需要作为所述E元素至少包含Al,作为所述X元素包含O和N。12.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述无机化合物的组成式使用参数x和y,并且由EuySr3-ySi8-xAlxN10-xO4+x、EuyCa3-ySi8-xAlxN10-xO4+x、或Euy(Li,Sr)3-ySi8-xAlxN10-xO4+x其中,0≦x≦8、0.0001≦y≦2所表示。13.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述无机化合物是平均粒径为0.1μm以上且20μm以下的单晶颗粒或单晶的聚集体。14.根据权利要求1所述的荧光体,其中,所述无机化合物所含有杂质元素Fe、Co、Ni的总计为500ppm以下。15.根据权利要求1所述的荧光体,其中,除所述无机化合物之外,还包含与所述无机化合物不同的其他的结晶相或非晶相,并且所述无机化合物的含量为20质量%以上。16.根据权利要求15所述的荧光体,其中,所述其他的结晶相或非晶相是具有导电性的无机物质。17.根据权利要求16所述的荧光体,其中,所述具有导电性的无机物质是包含选自Zn、Al、Ga、In、Sn的一种或两种以上的元素的氧化物、氮氧化物、或氮化物、或者这些的混合物。18.根据权利要求15所述的荧光体,其中,所述其他的结晶相或非晶相是与所述无机化合物不同的无机荧光体。19.根据权利要求1所述的荧光体,其中,通过照射激发源,发出在560nm至650nm的范围的波长上具有波峰的荧光。20.根据权利要求19所述的荧光体,其中,所述激发源是具有100nm以上且450nm以下的波长的真空紫外线、紫外线或可见光、电子束或X射线。21.根据权利要求1所述的荧光体,其中,在由所述Sr3Si8O4N10所示的结晶、或具有与所述由Sr3Si8O4N10所示的结晶相同的结晶结构的无机结晶中固溶有Eu而成,在照射波长360nm至450nm的光下发出波长为560nm以上且650nm以下的黄色至红色的荧光。22.根据权利要求1所述的荧光体,其中,激发源被照射后发出的光的颜色是CIE1931色度坐标上的(x0,y0)的值,并且满足0.1≦x0≦0.70.2≦y0≦0.9的条件。23.一种荧光体的制备方法,该制备方法是权利要求1所述的荧光体的制备方法,其中,通过对金属化合物的混合物进行灼烧,即,在含有氮气的惰性气氛环境中,在1200℃以上且2200℃以下的温度范围内,对能够构成权利要求1所述的无机化合物的原料混合物进行灼烧。24.根据权利要求23所述的荧光体的制备方法,其中,所述金属化合物的混合物包括含有M的化合物、含有A的化合物、含有D的化合物、含有X的化合物、和根据需要含有E的化合物,...
【专利技术属性】
技术研发人员:广崎尚登,武田隆史,舟桥司朗,
申请(专利权)人:独立行政法人物质·材料研究机构,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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