掩模盒、搬送装置、曝光装置、掩模搬送方法及器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种掩模盒，其是收纳掩模的掩模盒C，在其与作为载放该掩模盒C的外部装置的搬送车V及搬送装置H1的接触部，具备具有与掩模的负荷对应的强度的加强构件，搬送掩模的搬送车V及搬送装置H1分别具备作为盒支承部的多个万向滚珠43、52，其支承收纳了掩模的掩模盒C的加强构件，并且抑制在其与该加强构件之间产生的摩擦。

【技术实现步骤摘要】
本申请是2010年3月26日向中国国家专利局提出的申请号为200880108833.2、专利技术名称为“”这一申请的分案申请。
本专利技术涉及收纳掩模的掩模盒、搬送收纳于该掩模盒中的掩模的搬送装置、曝光装置、掩模搬送方法以及器件制造方法。
技术介绍
以往，掩模被以收纳于掩模盒中的状态由无人搬送车搬送至曝光装置的附近，例如，利用设于无人搬送车上的搬送用臂，在保持收纳于掩模盒中的状态下转交到曝光装置内的给定的位置。放置于该给定的位置的掩模，在保持收纳于掩模盒中的状态下，利用设于曝光装置内的搬送装置中的搬送用臂搬送至掩模库而保管(参照日本专利申请公开2005-243770 号)。但是，近年来的液晶显示器件制造用掩模的大型化十分明显，与之相伴掩模的重量也逐渐变大。从确保搬送用臂的强度等方面考虑，利用搬送用臂来搬送相关掩模的做法逐渐变得困难起来。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而完成的，本专利技术的目的在于，提供能够可靠地搬送具有大的重量的掩模的掩模盒、搬送装置、曝光装置、掩模搬送方法以及器件制造方法。本专利技术的掩模盒是收纳掩模的掩模盒，其特征在于，在与载放该掩模盒的外部装置的接触部具备加强构件，上述加强构件具有与上述掩模的负荷对应的强度。本专利技术的搬送装置是搬送掩模的搬送装置，其特征在于，具备盒支承部，其支承收纳了上述掩模的本专利技术的掩模盒的上述加强构件，并且抑制在与该加强构件之间产生的摩擦。另外，本专利技术的曝光装置的特征在于，具备:本专利技术的搬送装置、在感光基板上形成使用上述搬送装置搬送的掩模(M)中设置的图案的投影像的投影光学系统。本专利技术的掩模搬送方法包括:第一工序，利用本专利技术的第一搬送装置将收纳于本专利技术的掩模盒中的掩模搬送至本专利技术的第二搬送装置；第二工序，将上述掩模盒从上述第一搬送装置的上述盒支承部上滑行移动到上述第二搬送装置具备的上述升降移动机构的上述盒支承部上；第三工序，使上述升降移动机构的上述盒支承部上升到具有上述盒支承部的保管部的高度；第四工序，使上述掩模盒从上述升降移动机构的上述盒支承部上滑行移动到上述保管部的上述盒支承部上。本专利技术的掩模搬送方法包括:第一工序，利用搬送车将收纳于本专利技术的掩模盒中的掩模搬送至本专利技术的搬送装置；第二工序，将上述掩模盒从上述搬送车转交到上述搬送装置具备的上述转交部的上述盒支承部上；第三工序，使上述掩模盒从上述转交部的上述盒支承部上滑行移动到上述搬送装置具备的上述升降移动机构的上述盒支承部上；第四工序，使上述升降移动机构的上述盒支承部上升到具有上述盒支承部的保管部的高度；第五工序，使上述掩模盒从上述升降移动机构的上述盒支承部上滑行移动到上述保管部的上述盒支承部上。本专利技术的器件制造方法的特征在于，包括:曝光工序，使用本专利技术的曝光装置，将设于掩模中的图案的投影像向感光基板转印；显影工序，将转印了上述投影像的上述感光基板显影，在上述感光基板上形成与上述投影像对应的形状的掩模层；加工工序，夹隔着上述掩模层加工上述感光基板。根据本专利技术的掩模盒、搬送装置、曝光装置、掩模搬送方法以及器件制造方法，能够可靠地搬送具有大的重量的掩模。【附图说明】图1是表示第一实施方式的曝光装置的概略构成的立体图。图2是表示第一实施方式的掩模盒的构成的图。图3是表示第一实施方式的搬送车的构成的前视图。图4是表示第一实施方式的搬送车的构成的俯视图。图5是表示第一实施方式的搬送装置的构成的俯视图。图6是表示第一实施方式的搬送装置的构成的图。图7是表不第一实施方式的掩模库的构成的图。图8是说明第一实施方式的掩模盒的搬送过程的流程图。图9是表示第一实施方式的搬送车进入了曝光室内的状态的图。图10是表示第一实施方式的搬送车进入了曝光室内的状态的图。图11是说明掩模盒的从第一实施方式的搬送车向搬送装置的滑行移动的图。图12是说明掩模盒的从第一实施方式的搬送车向搬送装置的滑行移动的图。图13是表示在第一实施方式的掩模库的收容部中收容了掩模盒的状态的图。图14是对从第一实施方式的搬送车向搬送装置转交掩模盒时的搬送车中的掩模盒的搬入搬出方向的调整加以说明的图。图15是表示第一实施方式的搬送车的掩模盒的暂时固定机构的变形例的图。图16是表示设于第二实施方式的曝光装置中的掩模盒转交部的构成的图。图17是说明第二实施方式的掩模盒的搬送过程的流程图。图18是对掩模盒的从第二实施方式的搬送装置向掩模盒转交部的转交加以说明的图。图19是表示第三实施方式的掩模盒的构成的立体图。图20是表示设于第三实施方式的曝光装置中的掩模盒转交部的构成的图。图21是说明第三实施方式的掩模盒的搬送过程的流程图。图22是表示第三实施方式的承载架的构成的图。图23是表示第三实施方式的承载架的指形扣的构成的图。图24是表示使用了本专利技术的曝光装置的半导体器件的制造方法的流程图。图25是表示使用了本专利技术的曝光装置的液晶显示元件的制造方法的流程图。【具体实施方式】下面，参照附图对本专利技术的掩模盒、搬送装置、曝光装置、掩模搬送方法以及器件制造方法进行说明。图1是表示本专利技术的第一实施方式的曝光装置EX的概略构成图的图。而且，在以下的说明中，将水平面内的给定方向设为X轴方向，将水平面内与X轴方向垂直的方向设为Y轴方向，将与X轴及Y轴方向垂直的方向(即、铅垂方向)设为Z轴方向。曝光装置EX具备:将掩模M的图案向感光基板P曝光的曝光部S、作为保管收纳有具有大的重量的掩模M的掩模盒C的保管部的掩模库LB、将掩模盒C向掩模库LB搬送的搬送装置H1、将从掩模盒C中取出的掩模M向曝光部S搬送的搬送装置H2。而且，曝光部S、掩模库LB以及搬送装置H1、H2被收容于设定为给定环境的曝光室CH内部，包括搬送装置H1、H2的曝光装置EX整体的动作由控制装置CONT控制。掩模库LB设于设在曝光室CH中的掩模盒C的搬入搬出口 10 (参照图6)上方，具有收容掩模盒C的多个收容部65。收容部65被沿Z轴方向设置多个，在收容于收容部65中的掩模盒C中分别各收纳I片掩模M。曝光部S具备:支承设有图案的掩模M的掩模载台MST、支承作为曝光处理对象的感光基板P的基板载台PST、用曝光光EL将由掩模载台MST支承的掩模M照明的照明光学系统IL、在感光基板P上形成由曝光光EL照明的掩模M的图案的投影像的投影光学系统PL0掩模M被利用搬送车V从未图示的掩模储料器中以收纳于掩模盒C中的状态搬送到曝光装置EX。搬送车V从搬入搬出口 10进入小室CH内，停止于掩模库LB的下部。此后，搬送车V在其与搬送装置Hl之间进行掩模盒C的转交。图2是表示掩模盒C的构成的图，Ca)是掩模盒C的侧视图，(b)是掩模盒C的仰视图，(C)是掩模盒C的轨道状的加强构件的端部的放大图。如图2所示，掩模盒C具备:收纳有掩模M的掩模收纳部(收纳部主体)30 ;和设于与载放掩模盒C的搬送车V、搬送装置Hl等(以下称作外部装置。)接触的接触部的加强构件32。掩模收纳部30具备:形成收纳掩模M的空间的俯视为矩形的下构件30a和俯视为矩形的上构件30b。出于掩模收纳部30的轻质化等目的，下构件30a及下构件30b例如是使用铝制成的。加强构件32沿着如后所述相对于外部装置搬送的掩模盒C的搬入搬出方向(图2 (b)所示的箭头D方向)，在掩模盒C的底面部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模盒，是对设有图案的掩模进行保持的掩模盒，其特征在于，具备：收纳部主体，其形成收纳所述掩模的收纳部；第一窗，其被设于所述收纳部主体，用于使来自所述收纳部主体的外侧的光向所述收纳部主体的内侧入射；和第二窗，其被设于所述收纳部主体，用于使入射至所述收纳部主体的内侧的所述光向所述收纳部主体的外侧射出。

【技术特征摘要】
2007.11.15 JP 2007-2966401.一种掩模盒，是对设有图案的掩模进行保持的掩模盒，其特征在于，具备: 收纳部主体,其形成收纳所述掩模的收纳部； 第一窗，其被设于所述收纳部主体，用于使来自所述收纳部主体的外侧的光向所述收纳部主体的内侧入射；和 第二窗，其被设于所述收纳部主体，用于使入射至所述收纳部主体的内侧的所述光向所述收纳部主体的外侧射出。2.根据权利要求1所述的掩模盒，其特征在于， 所述第一窗被设在所述收纳部主体的第一侧面， 所述第二窗被设在所述收纳部主体的与所述第一侧面对置的第二侧面。3.根据权利要求2所述的掩模盒，其特征在于， 所述第一窗以及所述第二窗在沿着所述第一侧面的方向相互错移规定量配置。4.根据权利要求2或3所述的掩模盒，其特征在于， 所述收纳部主体包括以相 互能够拆装的方式被组合的第一部件以及第二部件， 所述第一部件承载被收纳于所述收纳部主体的掩模， 所述第二部件包括所述第一侧面以及所述第二侧面。5.根据权利要求1~3中任意一项所述的掩模盒,其特征在于， 所述收纳部主体包括以相互能够拆装的方式被组合的第一部件以及第二部件， 所述第一部件承载被收纳于所述收纳部主体的掩模。6.根据权利要求4或5所述的掩模盒，其特征在于， 所述第二部件设有第三窗，该第三窗用于能够从所述收纳部主体的外侧读取形成于所述掩模的条形码。7.根据权利要求4~6中任意一项所述的掩模盒,其特征在于， 所述第二部件设有第四窗，该第四窗用于能够从所述收纳部主体的外侧目视收纳于所述收纳部主体的所述掩模。8.根据权利要求4~9中任意一项所述的掩模盒，其特征在于， 所述第二部件设有相对于该第二部件的侧面突起的突起部。9.根据权利要求1~8中任意一项所述的掩模盒，其特征在于， 所述第一窗以及所述第二窗包含所述光能够透过的透光部件。10.根据权利要求9所述的掩模盒，其特征在于， 所述透光部件包含透明树脂。11.根据权利要求1~10中任意一项所述的掩模盒，其特征在于， 所述收纳部主体使用铝而形成。12....

【专利技术属性】
技术研发人员：向井干人，吹田文吾，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP