具有透明背面涂层的光学介质制造技术

一种诸如光带的光学介质，包括衬底、衬底一侧上的预格式化层以及背面涂层。背面涂层是光学透明的并且导电。衬底和预格式化层当中的一个在背面涂层与衬底和预格式化层当中的另一个之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有透明背面涂层的光学介质
本专利技术涉及用于光带的背面涂层并且涉及用于产生具有背面涂层的光带的方法和系统。
技术介绍
光带是用于数据存储的介质。光带可以包括薄背面涂层，以改善缠绕性质并防止静电荷。典型的背面涂层是由(i)导电并且(ii)强紫外线(UV)辐射吸收或反射的材料形成的。卷到卷纳米压印光刻系统用于利用诸如平台和沟槽及摆动模式的纳米结构特征的压印来构图或预格式化光带。预格式化操作包括利用UV辐射固化光带的光聚合材料。因此，UV辐射吸收或反射的背面涂层可会导致卷到卷过程吞吐量的相当大的减小。
技术实现思路
本专利技术的实施例针对诸如光带的光学介质，这种光带具有光学透明并且导电的背面涂层。根据本专利技术实施例的背面涂层至少在紫外线(UV)辐射范围内是光学透明的并且因此与UV辐射吸收或反射的典型背面涂层不同。因为根据本专利技术实施例的背面涂层是UV透明并且导电的，所以可以在不牺牲卷到卷压印过程吞吐量的情况下获得期望的缠绕性质和静电荷去除特性。根据本专利技术实施例的、用于诸如光带的光学介质的背面涂层可以由光学透明并且导电的氧化物形成，包括氧化铟锡(ITO)、氟化物掺杂的氧化锡本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学介质，包括：衬底；衬底一侧上的预格式化层；及背面涂层，其中该背面涂层是光学透明的并且导电；其中衬底和预格式化层当中的一个在背面涂层与衬底和预格式化层当中的另一个之间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.22 US 13/334,1791.一种光学介质，包括: 衬底； 衬底一侧上的预格式化层；及 背面涂层，其中该背面涂层是光学透明的并且导电； 其中衬底和预格式化层当中的一个在背面涂层与衬底和预格式化层当中的另一个之间。2.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层至少在紫外线范围内是光学透明的。3.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层包括光学透明且导电的氧化物。4.如权利要求3所述的光学介质，其中: 氧化物包括氧化铟锡(ITO)、氟化物掺杂的氧化锡(FTO)以及掺杂的氧化锌当中至少一种。5.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层包括金属化膜。6.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层是在衬底的相对侧上。7.如权利要求6所述的光学介质,还包括: 在预格式化层上的记录层。8.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层在衬底的同一侧上与预格式化层隔开放置。9.如权利要求8所述的光学介质，还包括: 记录层，其中记录层在背面涂层上并且在背面涂层和预格式化层之间。10.如权利要求1所述的光学介质，其中: 光学介质是光带。11.一种用于生成光学介质的方法，该方法包括: 在衬底的一侧上淀积背面涂层，其中背面涂层是光学透明的并且导电； 在衬底的相对侧上淀积聚合物层； 利用具有突起的鼓用凸印纹凸印聚合物层；及 在把聚合物层从鼓除去之前硬化聚合物层的凸印表面。12.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·K·金，
申请(专利权)人：甲骨文国际公司，
类型：发明
国别省市：美国;US