具有透明背面涂层的光学介质制造技术

一种诸如光带的光学介质，包括衬底、衬底一侧上的预格式化层以及背面涂层。背面涂层是光学透明的并且导电。衬底和预格式化层当中的一个在背面涂层与衬底和预格式化层当中的另一个之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有透明背面涂层的光学介质
本专利技术涉及用于光带的背面涂层并且涉及用于产生具有背面涂层的光带的方法和系统。
技术介绍
光带是用于数据存储的介质。光带可以包括薄背面涂层，以改善缠绕性质并防止静电荷。典型的背面涂层是由(i)导电并且(ii)强紫外线(UV)辐射吸收或反射的材料形成的。卷到卷纳米压印光刻系统用于利用诸如平台和沟槽及摆动模式的纳米结构特征的压印来构图或预格式化光带。预格式化操作包括利用UV辐射固化光带的光聚合材料。因此，UV辐射吸收或反射的背面涂层可会导致卷到卷过程吞吐量的相当大的减小。
技术实现思路
本专利技术的实施例针对诸如光带的光学介质，这种光带具有光学透明并且导电的背面涂层。根据本专利技术实施例的背面涂层至少在紫外线(UV)辐射范围内是光学透明的并且因此与UV辐射吸收或反射的典型背面涂层不同。因为根据本专利技术实施例的背面涂层是UV透明并且导电的，所以可以在不牺牲卷到卷压印过程吞吐量的情况下获得期望的缠绕性质和静电荷去除特性。根据本专利技术实施例的、用于诸如光带的光学介质的背面涂层可以由光学透明并且导电的氧化物形成，包括氧化铟锡(ITO)、氟化物掺杂的氧化锡(FTO)以及掺杂的氧化锌。作为替代或者附加地，根据本专利技术实施例的、用于诸如光带的光学介质的背面涂层可以由光学透明并且导电的材料形成，包括导电聚合物、具有纳米碳管的膜、石墨烯，及金属网格结构，以及其它有机膜和其它金属网格膜。这种氧化物和材料可以用作根据本专利技术实施例的光带的背面涂层，以便让背面涂层能够获得UV透明并且导电的性质。本专利技术的一个目标包括诸如光带的光学介质，该光学介质具有至少在UV辐射范围内透明并且导电的背面涂层。本专利技术的另一个目标包括用于产生诸如光带的光学介质的方法及系统，其中光学介质具有至少在UV辐射范围内透明并且导电的背面涂层。在执行以上目标和其它目标当中一个或多个时，本专利技术的实施例提供具有衬底、衬底一侧上的预格式化层以及背面涂层的光学介质。背面涂层是光学透明的并且导电。衬底和预格式化层当中的一个在背面涂层与衬底和预格式化层当中的另一个之间。在一个实施例中，背面涂层至少在紫外线范围内是光学透明的。背面涂层可以包括光学透明并且导电的氧化物，诸如氧化铟锡(ITO)、氟化物掺杂的氧化锡(FTO)以及掺杂的氧化锌。背面涂层可以包括导电聚合物、具有纳米碳管的膜、石墨烯和金属网格结构当中的至少一种。在一个实施例中，背面涂层在衬底的相对侧上并且记录层可以在预格式化层上。在另一个实施例中，背面涂层在衬底同一侧上与预格式化层分开放置。在这种实施例中，记录层可以在背面涂层上并且在背面涂层和预格式化层之间。另外，在执行以上目标和其它目标当中的一个或多个时，本专利技术的实施例提供用于生成诸如光带的光学介质的方法。该方法包括在衬底的一侧上淀积光学透明并且导电的背面涂层。该方法还包括在衬底的相对侧上淀积聚合物层。该方法还包括利用具有突起的鼓用凸印纹凸印(emboss)聚合物层并且在从鼓除去聚合物层之前硬化该聚合物层的凸印表面。而且，在执行以上目标和其它目标当中一个或多个时，本专利技术提供用于生成诸如光带的光学介质的系统。该系统包括背面涂覆阶段、凸印单体涂覆阶段、凸印组件以及固化组件。背面涂覆阶段配置为在衬底的一侧上淀积光学透明并且导电的背面涂层。凸印单体涂覆阶段配置为在衬底的相对侧上淀积聚合物层。凸印组件具有配置为用凸印纹凸印聚合物层的带突起的鼓。固化组件具有配置为在从鼓除去聚合物层之前利用紫外线辐射照射该聚合物层的凸印表面的光照源。【附图说明】图1根据本专利技术实施例说明了光带的截面图；图2说明了用于产生光带的光带生成系统的框图；图3A说明了卷到卷系统的凸印/固化阶段的侧视图，其中凸印/固化阶段凸印或预格式化光带中的信息承载结构；图3B说明了刚好在进入卷到卷系统的凸印/固化阶段之前光带的横截面视图；图3C说明了刚好在离开卷到卷系统的凸印/固化阶段之后光带的横截面视图；图4A说明了根据本专利技术实施例、具有第一表面入射(空气-入射)WORM介质层成分的光带的截面框图视图；图4B说明了根据本专利技术实施例、具有第一表面入射(空气-入射)可重写介质层成分的光带的截面框图视图；图4C说明了根据本专利技术实施例、具有第二入射(衬底-入射)WORM介质层成分的光带的截面框图视图；及图4D说明了根据本专利技术实施例、具有第二入射(衬底-入射)可重写介质层成分的光带的截面框图视图。具体实施例本专利技术的具体实施例在本文中公开；但是，应当理解，所公开的实施例仅仅是本专利技术的示例，本专利技术可以以各种备选形式体现。附图不一定是按比例的；有些特征可以夸大或者最小化，以便示出特定组件的细节。因此，本文所公开的具体结构和功能细节不应当解释为限制，而仅仅是作为教给本领域技术人员以各种不同方式使用本专利技术的代表性基础。现在参考图1，示出了根据本专利技术实施例的光带10的截面图。光带10包括彼此堆叠的多个层或膜。这些层包括覆盖层(overcoat) 12、记录层14、聚合物层16、衬底(即，载体层或基膜)18，以及背面涂层20。覆盖层12保护光带10的其余下层不受物理损坏。覆盖层12可以包括抗反射性质(例如，低折射率)，以防止来自光头的激光从光带10中的层的不期望反射并且允许激光更有效地穿过覆盖层12。覆盖层12可以通过溅射来施加。记录层14使得用户数据可以从光带10读取或者把用户数据写到光带10。记录层14属于响应于暴露给从光头发射的激光或其它辐射而改变一个或多个物理性质的一类材料。这些材料包括相变和染料-聚合物介质。例如，记录层14包括多个层或膜，包括介电层，然后是相变层，然后是另一个介电层，然后是反射层。相变层对激光辐射敏感，由此相变层在遭受到激光的足够热量时从非晶相变成结晶相。一旦改变，材料的成分就阻止其再变回非晶相状态。反射层由金属材料制成，诸如银、铝或锑，并且反射通过相变层的激光。反射层还衰减来自上面的光，并反射来自下面的光，由此衰减并阻止来自上面和下面的光通过并与激光混合，这种混合有可能在额定的反射的激光中引入噪声。聚合物层16是要利用诸如凹陷、平台、沟槽、摇摆模式等信息承载结构凸印或预格式化的。这种结构是结合到聚合物层16的表面中的物理特征。当这些特征被光头读取时，定位和跟踪、错误校正、聚焦和其它信息可以通过表面特征提供或增强。表面特征在制造时结合到光带10中并且这个过程一般被称为物理预格式化。如以下更详细地描述的，聚合物层16可以通过鼓凸印和紫外线(UV)固化装置由单体流体形成，其中聚合物层16利用信息承载结构(例如，平台和沟槽特征)凸印并且同时固化。在固化的同时，聚合物层16从液态单体转变成固态聚合物并且可以永久性地附着到衬底18。聚合物层16通过粘贴涂层(tie coat) /粘合助催化剂17附着到衬底18。衬底18位于聚合物16的下面并且提供机械支撑。衬底18可以由用作数据存储光学介质产品的高性能热塑聚酯膜产生，诸如聚萘二甲酸(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或者具有类似机械、热和吸湿性质的类似材料。背面涂层20附着到衬底18与聚合物层16相对的背面。背面涂层20通过另一粘贴涂层/粘合助催化剂19附着到衬底18。背面涂层20是导电的并且由此最小化静电荷的累积。背面涂层20可以具有带纹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学介质，包括：衬底；衬底一侧上的预格式化层；及背面涂层，其中该背面涂层是光学透明的并且导电；其中衬底和预格式化层当中的一个在背面涂层与衬底和预格式化层当中的另一个之间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.22 US 13/334,1791.一种光学介质，包括: 衬底； 衬底一侧上的预格式化层；及 背面涂层，其中该背面涂层是光学透明的并且导电； 其中衬底和预格式化层当中的一个在背面涂层与衬底和预格式化层当中的另一个之间。2.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层至少在紫外线范围内是光学透明的。3.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层包括光学透明且导电的氧化物。4.如权利要求3所述的光学介质，其中: 氧化物包括氧化铟锡(ITO)、氟化物掺杂的氧化锡(FTO)以及掺杂的氧化锌当中至少一种。5.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层包括金属化膜。6.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层是在衬底的相对侧上。7.如权利要求6所述的光学介质,还包括: 在预格式化层上的记录层。8.如权利要求1所述的光学介质，其中: 背面涂层在衬底的同一侧上与预格式化层隔开放置。9.如权利要求8所述的光学介质，还包括: 记录层，其中记录层在背面涂层上并且在背面涂层和预格式化层之间。10.如权利要求1所述的光学介质，其中: 光学介质是光带。11.一种用于生成光学介质的方法，该方法包括: 在衬底的一侧上淀积背面涂层，其中背面涂层是光学透明的并且导电； 在衬底的相对侧上淀积聚合物层； 利用具有突起的鼓用凸印纹凸印聚合物层；及 在把聚合物层从鼓除去之前硬化聚合物层的凸印表面。12.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·K·金，
申请(专利权)人：甲骨文国际公司，
类型：发明
国别省市：美国;US