一种摩擦设备制造技术

技术编号:10370902 阅读:172 留言:0更新日期:2014-08-28 13:10
本实用新型专利技术公开一种摩擦设备,所述摩擦设备包括基台、清洁装置、摩擦辊和驱动件,所述基台用于承载至少一个被摩擦件;所述清洁装置与所述基台相对设置,用于清洁所述被摩擦件;所述摩擦辊位于所述基台和所述清洁装置之间,用于摩擦所述被摩擦件;所述驱动件用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动,以摩擦所述被摩擦件。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
一种摩擦设备
本技术涉及电子工艺
,尤其涉及一种摩擦设备。
技术介绍
当前,随着信息化建设在蓬勃发展,作为信息发布的终端显示设备,已经广泛应用于工作和生活的各个方面。在液晶显示设备的生产工艺中,需要液晶面板的液晶分子进行取向。现有的摩擦取向方式具体为:首先将所述液晶面板放置在清洁区域进行区域,然后传送到摩擦装置进行摩擦,待摩擦完成后,再传送到清洁区域进行清洁。但是上述现有技术存在如下技术问题:由于在摩擦的过程中,极易产生绒毛、尘埃,且在高强度摩擦下还会产生有机物碎屑,部分尘埃或碎屑等会附着在摩擦布的表面,从而导致所述线状显示不良,同时还会缩短摩擦布的使用寿命。
技术实现思路
本申请提供一种摩擦设备,解决了现有技术中在摩擦的过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑附着在摩擦布的表面,导致线状显示不良,缩短摩擦布的使用寿命的技术问题。本申请提供一种摩擦设备,所述摩擦设备包括基台、清洁装置、摩擦辊和驱动件,所述基台用于承载至少一个被摩擦件;所述清洁装置与所述基台相对设置,用于清洁所述被摩擦件;所述摩擦辊位于所述基台和所述清洁装置之间,用于摩擦所述被摩擦件;所述驱动件用于驱动所述摩擦辊相对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种摩擦设备,其特征在于,所述摩擦设备包括:基台,用于承载至少一个被摩擦件;清洁装置,与所述基台相对设置,用于清洁所述被摩擦件;摩擦辊,位于所述基台和所述清洁装置之间,用于摩擦所述被摩擦件;驱动件,用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动,以摩擦所述被摩擦件。

【技术特征摘要】
1.一种摩擦设备,其特征在于,所述摩擦设备包括: 基台,用于承载至少一个被摩擦件; 清洁装置,与所述基台相对设置,用于清洁所述被摩擦件; 摩擦辊,位于所述基台和所述清洁装置之间,用于摩擦所述被摩擦件; 驱动件,用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动,以摩擦所述被摩擦件。2.如权利要求1所述的摩擦设备,其特征在于,所述清洁装置包括腔体、高压气体入口和真空吸附口,所述高压气体入口和所述真空吸附口均与所述腔体连通。3.如权利要求2所述的摩擦设备,其特征在于,所述高压气体入口的数目至少为两个,分别开设于所述清洁装置的相对两侧面上,所述真空吸附口开设于所述清洁装置上与所述被摩擦件相背的表面的中部。4.如权利要求3所述的摩擦设备,其特征在于,所述至少两个高压气体入口开设于所述清洁装置上与所述摩擦辊的轴向两端相对应的两个侧面上。5.如权利要求1-4中任一权要求所述的摩擦设备,其特征在于,所述清洁装置在所述摩擦辊上平行于所述基台的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。6.如权利要求1所述的摩擦设备,其特征在于,所述清洁装置包括第一清洁部、...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘晓那宋勇志
申请(专利权)人:北京京东方显示技术有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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