【技术实现步骤摘要】
具有搅拌摩擦焊连接的用于真空密封的闭合元件
本专利技术涉及用于真空阀的闭合元件以及具有阀盘和紧固至阀盘的横梁的这种阀,以及涉及用于生产阀盘和横梁之间的连接的方法,以及涉及借助所述方法生产的产品。
技术介绍
一般来讲,用于流动路径的基本气密性闭合的真空阀的不同实施例公知于现有技术,该流动路径运行穿过形成在阀壳体中的开口。尤其在发生于受保护的可能不存在污染微粒的环境的IC以及半导体制造领域中使用真空栅阀。例如,在用于半导体晶片或者液晶基板的生产线中,高度敏感的半导体元件或者液晶元件顺序运行穿过若干处理室,在若干处理室的每个中,置于处理室内部的半导体元件借助处理设备被处理。在处理期间处理室内部的处理以及在从处理室传输至处理室期间,高度敏感的半导体元件必须始终置于受保护的环境中,尤其真空中。例如,处理室借助连接通路连接在一起,能够借助真空栅阀打开处理室以将部件从一个处理室传递至下一个处理室,随后以气密性方式关闭所述处理室,以便实施相应的生产步骤。由于本申请描述的领域,这种阀还称为真空传递阀,因为它们的矩形开口截面,这种阀还称为矩形栅阀。除了别的之外,当使用传递阀生产高度敏感的半导体元件时,会生成粒子,这尤其是阀致动的结果以及阀闭合构件上的机械负荷的结果引起的,并且阀室中的自由粒子的数量必须尽可能保持较低。粒子生成主要是摩擦的结果,例如通过金属与金属接触而产生,以及作为磨耗的结果。取决于相应的驱动技术,尤其栅阀之间具有差别,还称为阀滑块或者矩形滑块以及摆阀,现有技术中在大多数情形下关闭以及打开通过两步骤实现。在第一步骤,阀闭合构件(尤其闭合盘)在栅阀的情形下诸如公开 ...
【技术保护点】
一种用于真空阀(1)的闭合元件(30、50、60、70),该闭合元件具有:阀盘(2、31、51、61、71、81),该阀盘借助与设置用于处理体积的所述真空阀(1)的真空阀开口的相互作用来实现所述处理体积的气密性闭合,其中,所述阀盘(2、31、51、61、71、81)包括:闭合侧(4、34)以及大致平行于所述闭合侧相对安置的后侧(3、33),以及第一密封面(35),该第一密封面配属至所述闭合侧(4、34)并且尤其在形式和尺寸方面对应于所述真空阀开口的第二密封面,所述第一密封面尤其具有固化的密封材料(36),其中,所述第二密封面围绕所述真空阀开口延伸,以及横梁(20、40、52、62、72、82),该横梁尤其具有接收机构(21),所述接收机构(21)用于横向于所述横梁的延伸方向的驱动部件,其中,所述横梁(20、40、52、62、72、82)在所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的所述后侧(3、33)在至少一个连接点(23、32、53、73)处连接至所述阀盘(2、31、51、61、71、81),其特征在于,在所述至少一个连接点(23、32、53、73)处,所述横梁(20、40、52、 ...
【技术特征摘要】
2015.10.02 EP 15188085.31.一种用于真空阀(1)的闭合元件(30、50、60、70),该闭合元件具有:阀盘(2、31、51、61、71、81),该阀盘借助与设置用于处理体积的所述真空阀(1)的真空阀开口的相互作用来实现所述处理体积的气密性闭合,其中,所述阀盘(2、31、51、61、71、81)包括:闭合侧(4、34)以及大致平行于所述闭合侧相对安置的后侧(3、33),以及第一密封面(35),该第一密封面配属至所述闭合侧(4、34)并且尤其在形式和尺寸方面对应于所述真空阀开口的第二密封面,所述第一密封面尤其具有固化的密封材料(36),其中,所述第二密封面围绕所述真空阀开口延伸,以及横梁(20、40、52、62、72、82),该横梁尤其具有接收机构(21),所述接收机构(21)用于横向于所述横梁的延伸方向的驱动部件,其中,所述横梁(20、40、52、62、72、82)在所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的所述后侧(3、33)在至少一个连接点(23、32、53、73)处连接至所述阀盘(2、31、51、61、71、81),其特征在于,在所述至少一个连接点(23、32、53、73)处,所述横梁(20、40、52、62、72、82)与所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的连接包括搅拌摩擦焊连接(55)。2.根据权利要求1所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,所述横梁(20、40、52、62、72、82)在两个连接点(23、32、53、73)处连接至所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的后侧,其中,所述两个连接点均借助搅拌摩擦焊连接(55)实现。3.根据权利要求2所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,所述接收机构(21)居中地布置或者形成在所述横梁(20、40、52、62)上,所述两个连接点(23、32、53)相对于所述接收机构(21)水平地布置在两侧。4.根据权利要求1至3中任一项所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,在所述至少一个连接点(23、32、53、73)处,所述横梁(20、40、52、62、72、82)包括凹进,所述凹进大致平行于一轴线延伸,该轴线正交于由所述后侧(3、33)或者所述闭合侧(4、43)的形式和/或表面所限定的平面。5.根据权利要求1至3中任一项所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,在所述闭合侧(4、34)上,所述阀盘(2、31、51、61、71、81)包括配属至所述至少一个连接点(23、32、53、73)的凹进,其中,所述凹进大致平行于一轴线延伸,该轴线正交于由所述后侧(3、33)或者所述闭合侧(4、43)的形式和/或表面所限定的平面。6.根据权利要求4或5所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,所述凹进沿所述轴线的方向延伸限定的深度,其中,所述深度在所述连接点(23、32、53、73)处大于所述横梁(20、40、52、62、72、82)或者所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的材料厚度。7.根据权利要求4至6中任一项所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,所述横梁(20、40、52、62、72、82)的所述凹进以这种方式形成,使得所述凹进延伸穿过所述横梁(20、40、52、62、72、82)并且突出至所述阀盘(2、31、51、61、71、81)中。8.根据权利要求4至6中任一项所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的所述凹进以这种方式形成,使得所述凹进延伸穿过所述阀盘(2、31、51、61、71、81)并且突出至所述横梁(20、40、52、62、72、82)中。9.根据权利要求1至8中任一项所述的闭合元件(30、50、60、70),其特征在于,通过间歇塑化所述横梁(20、40、52、62、72、82)和所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的材料所创建的材料锁合存在于所述连接点(23、32、53、73)处的过渡区域中,其中,通过沿着所述轴线延伸通过所述横梁(20、40、52、62、72、82)与所述阀盘(2、31、51、61、71、81)的接触点的部分,将...
【专利技术属性】
技术研发人员:托马斯·布莱哈,R·戈弗雷,M·霍斯费尔德,
申请(专利权)人:VAT控股公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
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