薄膜装置和制造制造方法及图纸

本发明专利技术描述了薄膜装置(例如用于窗户的电致变色装置)及其制造方法。特别关注图案化光学装置的方法。执行各种边缘去除和隔离划线以(例如)确保所述光学装置与任何边缘缺陷适当地隔离。本文描述的方法适用于具有夹置在两个薄膜电导体层之间的一个或多个材料层的任何薄膜装置。所描述的方法产生新颖的光学装置配置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】薄膜装置和制造相关申请的交叉参考本申请要求2011年12月12日申请的USSN61/569, 716,2012年6月26日申请的USSN61/664, 638和2012年10月2日申请的USSN61/709，046的权益和优先权，所述案全文出于所有目的以引用的方式并入本文。专利
本文公开的实施方案大体上涉及光学装置，且更特定而言涉及制造光学装置的方法。专利技术背景电致变色是其中材料在通常通过遭遇电压变化而置于不同的电子状态时展现光学性质的可逆电化学调解变化的现象。光学性质通常是色彩、透射比、吸光率和反射比中的一个或多个。例如，一种熟知的电致变色材料是氧化钨(WO3)。氧化钨是其中由于电化学还原而发生着色转变(褪色(未着色)至蓝色)的阴极着色电致变色材料。当发生电化学氧化时，氧化钨自蓝色转变为褪色状态。电致变色材料可并入(例如)家用、商用和其它用途的窗户。可通过在电致变色材料中引入变化而改变这些窗户的色彩、透射比、吸光率和/或反射比，即，电致变色窗户是可经由施加电荷而可逆地变暗且变亮的窗户。施加于窗户的电致变色装置的小电压将会导致窗户变暗；使电压反向导致窗户变亮。此能力容许控制穿过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造包括夹置在第一导电层与第二导电层之间的一个或多个材料层的光学装置的方法，所述方法包括：(i)接收衬底，所述衬底在其工作表面上包括所述第一导电层；(ii)自所述衬底的约10％与约90％之间的周长移除所述第一导电层的第一宽度；(iii)沉积所述光学装置的所述一个或多个材料层和所述第二导电层使得其覆盖所述第一导电层，且若有可能，在所述第一导电层的周长周围延伸超出所述第一导电层；(iv)在实质上所述衬底的整个周长周围移除所有所述层的比所述第一宽度窄的第二宽度，其中移除深度至少足以移除所述第一导电层；(v)移除所述第二透明导电层和所述光学装置在所述第二透明导电层下方的所述一层或多层的至少一部分，...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.12 US 61/569,716;2012.06.26 US 61/664,638;1.一种制造包括夹置在第一导电层与第二导电层之间的一个或多个材料层的光学装置的方法，所述方法包括: (i)接收衬底，所述衬底在其工作表面上包括所述第一导电层； (ii)自所述衬底的约10%与约90%之间的周长移除所述第一导电层的第一宽度； (iii)沉积所述光学装置的所述一个或多个材料层和所述第二导电层使得其覆盖所述第一导电层，且若有可能，在所述第一导电层的周长周围延伸超出所述第一导电层； (iv)在实质上所述衬底的整个周长周围移除所有所述层的比所述第一宽度窄的第二宽度，其中移除深度至少足以移除所述第一导电层； (v)移除所述第二透明 导电层和所述光学装置在所述第二透明导电层下方的所述一层或多层的至少一部分，藉此露出所述第一导电层的至少一个暴露部分；和 (vi)涂敷总线条至所述第一透明导电层的所述至少一个暴露部分， 其中所述第一导电层和所述第二导电层中的至少一个是透明的。2.根据权利要求1所述的方法，其中(ii)包括自所述衬底的约50%与约75%之间的周长周围移除所述第一导电层的所述第一宽度。3.根据权利要求2所述的方法，其中沿所述光学装置靠近在(ii)中未移除所述第一导电层的所述衬底的(诸)侧的周长部分制造所暴露的所述第一导电层的所述至少一个暴露部分。4.根据权利要求3所述的方法，其还包括涂敷至少第二总线条至所述第二导电层。5.根据权利要求4所述的方法，其中涂敷所述至少第二总线条至未覆盖所述第一导电层的一部分上的所述第二导电层。6.根据权利要求5所述的方法，其还包括制造至少一个L2划线以隔离正交于所述总线条的所述光学装置的一部分。7.根据权利要求5所述的方法，其还包括制造L3划线以隔离介于所述总线条与所述光学装置的作用区域之间的所述光学装置的一部分。8.根据权利要求5所述的方法，其还包括: 制造至少一个L2划线以隔离正交于所述总线条的所述光学装置的一部分；和 制造L3划线以隔离介于所述总线条与所述光学装置的作用区域之间的所述光学装置的一部分。9.根据权利要求4所述的方法，其中在(iv)中足以移除至少所述第一导电层的所述移除深度足以移除扩散壁垒，且其中在并未覆盖所述第一导电层或所述扩散壁垒的一部分上涂敷所述至少第二总线条至所述第二导电层。10.根据权利要求9所述的方法，其还包括制造至少一个L2划线以隔离正交于所述总线条的所述光学装置的一部分。11.根据权利要求9所述的方法，其还包括制造L3划线以隔离介于所述总线条与所述光学装置的作用区域之间的所述光学装置的一部分。12.根据权利要求9所述的方法，其还包括: 制造至少一个L2划线以隔离正交于所述总线条的所述光学装置的一部分；和 制造L3划线以隔离介于所述总线条与所述光学装置的作用区域之间的所述光学装置的一部分。13.根据权利要求12所述的方法，其中所述光学装置是电致变色装置。14.根据权利要求13所述的方法，其中所述电致变色装置是全固态且无机。15.根据权利要求14所述的方法，其中所述衬底是浮法玻璃，且所述第一导电层包括经氟化的氧化锡。16.根据权利要求8所述的方法，其中在全真空整合沉积设备中执行(iii)。17.根据权利要求8所述的方法，其还包括在(iv)之前在所述第二导电层上沉积蒸气壁垒层。18.根据权利要求8所述的方法，其中所述第一导电层和所述第二导电层二者皆是透明的。19.根据权利要求18所述的方法，其中所述衬底是透明的。20.根据权利要求12所述的方法，其中所述衬底是矩形。21.根据权利要求20所述的方法，其中(ii)包括在所述衬底的所述周长周围自三侧移除所述第一导电层的所述第一宽度。22.根据权利要求21所述的方法，其中沿所述光学装置的一侧的长度制造所述第一导电层的所述至少一个暴露部分。23.根据权利要求22所述的方法，其中沿所述光学装置靠近其中在(ii)中未移除所述第一导电层的所述衬底的侧的侧的长度制造所述第一导电层的所述至少一个暴露部分。24.根据权利要求23所述的方法，其中涂敷所述至少第二总线条至靠近所述光学装置与所述第一导电层的所述至少一个暴露部分相对的侧的所述第二导电层。25.根据权利要求24所述的方法，其中所述光学装置是电致变色装置。26.根据权利要求25所述的方法，其中所述电致变色装置是全固态且无机。27.根据权利要求26所述的方法，其中所述衬底是经回火或未经回火的浮法玻璃，且所述第一导电层包括经氟化的氧化锡。28.根据权利要求27所述的方法，其中在全真空整合沉积设备中执行(iii)。29.根据权利要求28所述的方法，其还包括在(iv)之前在所述第二导电层上沉积蒸气壁垒层。30.根据权利要求12所述的方法，其中(ii)包括在所述衬底的所述周长处自两个相对侧移除所述第一导电层的所述第一宽度。31.根据权利要求30所述的方法，其中所述第一导电层的所述至少一个暴露部分包括沿在(ii)中未移除所述第一宽度的所述光学装置的所述相对侧的长度制造的一对暴露部分。32.根据权利要求31所述的方法，其中(vi)包括涂敷总线条至所述第一导电层的所述对暴露部分中的每个。33.根据权利要求32所述的方法，其中涂敷所述至少第二总线条至所述第二导电层包括涂敷一对第二总线条，所述对第二总线条中的每个在所述第二导电层的相对长度上且其中在Qi)中移除所述第一导电层的区域上方。34.根据权利要求33所述的方法，其中所述光学装置是电致变色装置。35.根据权利要求34所述的方法，其中所述电致变色装置是全固态且无机。36.根据权利要求35所述的方法，其中所述衬底是经回火或未经回火的浮法玻璃，且所述第一导电层包括经氟化的氧化锡。37.根据权利要求36所述的方法，其中在全真空整合沉积设备中执行(iii)。38.根据权利要求37所述的方法，其还包括在(iv)之前在所述第二导电层上沉积蒸气壁垒层。39.根据权利要求12所述的方法，其中所述衬底是圆形或椭圆形。40.根据权利要求39所述的方法，其中所述衬底是玻璃。41.根据权利要求40所述的方法，其中涂敷所述至少第二总线条至靠近所述光学装置与所述第一导电层的所述至少一个暴露部分相对的侧的所述第二导电层。42.根据权利要求41所述的方法，其中所述光学装置是电致变色装置。43.根据权利要求42所述的方法，其中所述电致变色装置是全固态且无机。44.根据权利要求43所述的方法，其中所述衬底是经回火或未经回火的浮法玻璃，且所述第一导电层包括经氟化的氧化锡。45.根据权利要求44所述的方法，其中在全真空整合沉积设备中执行(iii)。46.根据权利要求45所述的方法，其还包括在(iv)之前在所述第二导电层上沉积蒸气壁垒层。47.根据权利要求39所述的方法，其中(ii)包括在所述衬底的所述周长周围自两个相对部分移除所述第一导电层的所述第一宽度。48.根据权利要求47所述的方法，其中所述第一导电层的所述至少一个暴露部分包括在介于(ii)中未移除所述第一宽度的所述两个相对部分之间的所述光学装置的部分上沿所述衬底的所述周长制造的一对暴露部分。49.根据权利要求48所述的方法，其中(vi)包括涂敷总线条至所述第一导电层的所述对暴露部分中的每个。50.根据权利要求49所述的方法，其中涂敷所述至少第二总线条至所述第二导电层包括:涂敷一对相对第二总线条，每一总线条在所述第二导电层靠近所述衬底介于所述第一导电层的所述对暴露部分之间的周长的区域之一中。51.根据权利要求50所述的方法，其中所述光学装置是电致变色装置。52.根据权利要求51所述的方法，其中所述电致变色装置是全固态且无机。53.根据权利要求52所述的方法，其中所述衬底是经回火或未经回火的浮法玻璃，且所述第一导电层包括经氟化的氧化锡。54.根据权利要求53所述的方法，其中在全真空整合沉积设备中执行(iii)。55.根据权利要求54所述的方法，其还包括在(iv)之前在所述第二导电层上沉积蒸气壁垒层。56.根据权利要求13、25、34、42和51中任一项所述的方法，其还包括由所述电致变色装置制造I⑶。57.根据权利要求56所述的方法，其中所述第一导电层的任何剩余暴露区域被配置成位于所述IGU的初级密封内。58.根据权利要求57所述的方法，其中所有总线条也被配置成位于所述IGU的所述初级密封内。59.根据权利要求56所述的方法，其还包括用柔性玻璃材料层压所述IGU。60.根据权利要求59所述的方法，其中所述柔性玻璃材料是Go...

【专利技术属性】
技术研发人员：费边·斯特朗，拉什劳伊·巴特纳格尔，阿比什克·阿南特·迪克西特，托德·马丁，罗伯特·T·罗兹比金，
申请(专利权)人：唯景公司，
类型：发明
国别省市：美国;US